TH23590B - สารขัดถู - Google Patents
สารขัดถูInfo
- Publication number
- TH23590B TH23590B TH1000884A TH0001000884A TH23590B TH 23590 B TH23590 B TH 23590B TH 1000884 A TH1000884 A TH 1000884A TH 0001000884 A TH0001000884 A TH 0001000884A TH 23590 B TH23590 B TH 23590B
- Authority
- TH
- Thailand
- Prior art keywords
- abrasive
- particle size
- oxide
- average particle
- ceo2
- Prior art date
Links
Abstract
DC60 (27/06/50) สารขัดถูซึ่งประกอบรวมด้วยองค์ประกอบอย่างน้อยที่สุดองค์ประกอบ (A) และ (B) (A) เม็ดสารขัดถูที่มีซีเรียมซึ่งมีขนาดของอนุภาคโดยเฉลี่ยเท่ากับจาก 0.5 ถึง 5.0 ไมโครเมตร และ (B) อนุภาคที่มีขนาดของอนุภาคโดยเฉลี่ยเท่ากับจาก 0.01 ถึง 0.3 ไมโครเมตร ซึ่ง เป็นอนุภาคของสมาชิกอย่างน้อยที่สุดหนึ่งชนิดที่คัดเลือกมาจากหมู่ที่ประกอบด้วยอะลูมินัมออกไซด์ ซิลิคอนไดออกไซด์, เซอร์โคเนียมออกไซด์, ไททาเนียมออกไซด์, ซิลิคอนไนไทรด์ และแมงกานีส ออกไซด์ สารขัดถูซึ่งประกอบรวมด้วยองค์ประกอบอย่างน้อยที่สุดองค์ประกอบ (A) และ (B) (A) เม็ดสารขัดถูที่มีซีเรียมซึ่งมีขนาดของอนุภาคโดยเฉลี่ยเท่ากับจาก 0.5 ถึง 5.0 ไมโครเมตร และ (B) อนุภาคที่มีขนาดของอนุภาคโดยเฉลี่ยเท่ากับจาก 0.01 ถึง 0.3 ไมโครเมตร ซึ่ง เป็นอนุภาคของสมาชิกอย่างน้อยที่สุดหนึ่งชนิดที่คัดเลือกมาจากหมู่ที่ประกอบด้วยอะลูมินัมออกไซด์ ซิลิคอนไดออกไซด์, เซอร์โคเนียมออกไซด์, ไททาเนียมออกไซด์, ซิลิคอนไนไทรด์ และแมงกานีส ออกไซด์
Claims (2)
1. วิธีการขัดผิวสำหรับพื้นผิวแก้ว ซึ่งประกอบรวมด้วยการขัดผิวพื้นผิวแก้วด้วยสาร ขัดถูที่ประกอบรวมด้วยอย่างน้อยที่สุดองค์ประกอบ (A) และ(B) ต่อไปนี้ (A) เม็ดสารขัดถูที่มีซีเรียมซึ่งมีขนาดอนุภาคโดยเฉลี่ยจาก 0.5 ถึง 5.0 ไมโครเมตร และ (B) อนุภาคที่มีขนาดอนุภาคโดยเฉลี่ยจาก 0.01 ถึง 0.3 ไมโครเมตร ซึ่งเป็นอนุภาคของ สมาชิกอย่างน้อยที่สุดหนึ่งชนิดที่คัดเลือกมาจากหมู่ที่ประกอบด้วยอะลูมินัม ออกไซด์,เซอร์โคเนียมออกไซด์,ไททาเนียมออกไซด์,ซิลิคอนไนไทรด์ และ แมงกานีสออกไซด์ 3
2. วิธีการขัดผิวสำหรับซับสเทรทสารกึ่งตัวนำ ซึ่งประกอบรวมด้วยการขัดผิวชั้นฉนวน และ/หรือ ชั้นโลหะที่ก่อรูปบนซับสเทรทสารกึ่งตัวนำ ด้วยสารขัดถูที่มีซีเรียมที่ประกอบรวมด้วยอย่าง น้อยที่สุดองค์ประกอบ (A) และ(B) ต่อไปนี้ (A) เม็ดสารขัดถูที่มีซีเรียมซึ่งมีขนาดอนุภาคโดยเฉลี่ยจาก 0.5 ถึง 5.0 ไมโครเมตร และ (B) อนุภาคที่มีขนาดอนุภาคโดยเฉลี่ยจาก 0.01 ถึง 0.3 ไมโครเมตร ซึ่งเป็นอนุภาคของ สมาชิกอย่างน้อยที่สุดหนึ่งชนิดที่คัดเลือกมาจากหมู่ที่ประกอบด้วยอะลูมินัม ออกไซด์,เซอร์โคเนียมออกไซด์,ไททาเนียมออกไซด์,ซิลิคอนไนไทรด์ และ แมงกานีสออกไซด์
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
TH43982A TH43982A (th) | 2001-03-30 |
TH23590B true TH23590B (th) | 2008-04-21 |
Family
ID=
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN1042550C (zh) | 活性抛光组合物及其制备方法 | |
TWI605112B (zh) | 研磨用組成物 | |
RU2006104117A (ru) | Абразивные частицы для механической полировки | |
KR100792985B1 (ko) | 연마제 | |
RU2178599C2 (ru) | Абразив из оксида церия и способ полирования подложек | |
EP3210238B1 (en) | Cobalt polishing accelerators | |
SG190703A1 (en) | Composition and method for polishing polysilicon | |
JP2000336344A (ja) | 研磨剤 | |
KR101022982B1 (ko) | 폴리싱 슬러리 및 그 사용 방법 | |
TWI596202B (zh) | 用於鎳-磷記憶碟之拋光組合物 | |
KR20090051263A (ko) | 수용성 산화제를 이용한 탄화규소 연마 방법 | |
KR102350734B1 (ko) | 사파이어 표면 연마용 화학적 기계적 연마 조성물 및 그의 사용방법 | |
WO2011034808A2 (en) | Composition and method for polishing bulk silicon | |
WO2011130072A2 (en) | Composition and method for polishing bulk silicon | |
US20090321390A1 (en) | Chemical mechanical polishing of moisture sensitive surfaces and compositions thereof | |
TH43982A (th) | สารขัดถู | |
TH23590B (th) | สารขัดถู | |
JPH05156238A (ja) | メカノケミカル研摩用研摩剤、および材料片を研摩する方法 | |
JP2000053946A5 (th) | ||
TH58696B (th) | สารขัดถูที่มีซีเรียมเป็นองค์ประกอบหลัก สารขัดถูข้นเหลว และการผลิตสารขัดถูที่มีซีเรียมเป็นองค์ประกอบหลัก | |
CN1237141C (zh) | 研磨浆液及其用途 | |
JP2011110656A (ja) | 研磨用組成物および研磨方法 | |
JPS6086187A (ja) | 半導体ウエ−ハ研摩用砥粒 | |
JP2003170351A (ja) | 研磨装置の工具プレート | |
KR20180006897A (ko) | 유리 및 세라믹 연마용 조성물 |