TH23590B - สารขัดถู - Google Patents

สารขัดถู

Info

Publication number
TH23590B
TH23590B TH1000884A TH0001000884A TH23590B TH 23590 B TH23590 B TH 23590B TH 1000884 A TH1000884 A TH 1000884A TH 0001000884 A TH0001000884 A TH 0001000884A TH 23590 B TH23590 B TH 23590B
Authority
TH
Thailand
Prior art keywords
abrasive
particle size
oxide
average particle
ceo2
Prior art date
Application number
TH1000884A
Other languages
English (en)
Other versions
TH43982A (th
Inventor
ซูนาฮารา นายคาซูโอะ
ยามากูชิ นายซูมิฮิซา
Original Assignee
นายจักรพรรดิ์ มงคลสิทธิ์
นายดำเนิน การเด่น
นายดำเนิน การเด่น นายต่อพงศ์ โทณะวณิก นายวิรัช ศรีเอนกราธา นายจักรพรรดิ์ มงคลสิทธิ์
นายต่อพงศ์ โทณะวณิก
นายวิรัช ศรีเอนกราธา
Filing date
Publication date
Application filed by นายจักรพรรดิ์ มงคลสิทธิ์, นายดำเนิน การเด่น, นายดำเนิน การเด่น นายต่อพงศ์ โทณะวณิก นายวิรัช ศรีเอนกราธา นายจักรพรรดิ์ มงคลสิทธิ์, นายต่อพงศ์ โทณะวณิก, นายวิรัช ศรีเอนกราธา filed Critical นายจักรพรรดิ์ มงคลสิทธิ์
Publication of TH43982A publication Critical patent/TH43982A/th
Publication of TH23590B publication Critical patent/TH23590B/th

Links

Abstract

DC60 (27/06/50) สารขัดถูซึ่งประกอบรวมด้วยองค์ประกอบอย่างน้อยที่สุดองค์ประกอบ (A) และ (B) (A) เม็ดสารขัดถูที่มีซีเรียมซึ่งมีขนาดของอนุภาคโดยเฉลี่ยเท่ากับจาก 0.5 ถึง 5.0 ไมโครเมตร และ (B) อนุภาคที่มีขนาดของอนุภาคโดยเฉลี่ยเท่ากับจาก 0.01 ถึง 0.3 ไมโครเมตร ซึ่ง เป็นอนุภาคของสมาชิกอย่างน้อยที่สุดหนึ่งชนิดที่คัดเลือกมาจากหมู่ที่ประกอบด้วยอะลูมินัมออกไซด์ ซิลิคอนไดออกไซด์, เซอร์โคเนียมออกไซด์, ไททาเนียมออกไซด์, ซิลิคอนไนไทรด์ และแมงกานีส ออกไซด์ สารขัดถูซึ่งประกอบรวมด้วยองค์ประกอบอย่างน้อยที่สุดองค์ประกอบ (A) และ (B) (A) เม็ดสารขัดถูที่มีซีเรียมซึ่งมีขนาดของอนุภาคโดยเฉลี่ยเท่ากับจาก 0.5 ถึง 5.0 ไมโครเมตร และ (B) อนุภาคที่มีขนาดของอนุภาคโดยเฉลี่ยเท่ากับจาก 0.01 ถึง 0.3 ไมโครเมตร ซึ่ง เป็นอนุภาคของสมาชิกอย่างน้อยที่สุดหนึ่งชนิดที่คัดเลือกมาจากหมู่ที่ประกอบด้วยอะลูมินัมออกไซด์ ซิลิคอนไดออกไซด์, เซอร์โคเนียมออกไซด์, ไททาเนียมออกไซด์, ซิลิคอนไนไทรด์ และแมงกานีส ออกไซด์

Claims (2)

1. สารขัดถูซึ่งประกอบรวมด้วยองค์ประกอบอย่างน้อยที่สุดองค์ประกอบ (A) และ องค์ประกอบ (B) ต่อไปนี้ (A) เม็ดสารขัดถูที่มีซีเรียมซึ่งมีขนาดของอนุภาคโดยเฉลี่ยจาก 0.5 ถึง 5.0 ไมโครเมตร และ (B) อนุภาคที่มีขนาดของอนุภาคโดยเฉลี่ยเท่ากับจาก 0.01 ถึง 0.3 ไมโครเมตร ซึ่ง เป็นอนุภาคของสมาชิกอย่างน้อยที่สุดหนึ่งชนิดที่คัดเลือกมาจากหมู่ที่ประกอบด้วยอะลูมินัมออกไซด์ ซิลิคอนไดออกไซด์, เซอร์โคเนียมออกไซด์, ไททาเนียมออกไซด์, ซิลิคอนไนไทรด์ และแมงกานีส ออกไซด์ ที่ซึ่งองค์ประกอบ (A) เป็นเม็ดสารขัดถูกที่มี CeO2 ในปริมาณมากกว่า 50% ของมวลทั้งหมด 2. สารขัดถูตามข้อถือสิทธิข้อ 1 ที่ซึ่งมีองค์ประกอบ (A) และ (B) ในอัตราส่วนของมวล เท่ากับจาก 1:0.001 ถึง 1:0.3 3. สารขัดถูซึ่งประกอบรวมด้วยอย่างน้อยที่สุดองค์ประกอบ (A) และ (B) ต่อไปนี้ (A) เม็ดสารขัดถูที่มีซีเรียมซึ่งมีขนาดของอนุภาคโดยเฉลี่ยจาก 0.5 ถึง 5.0 ไมโครเมตร และ (B) อนุภาคที่มีขนาดอนุภาคโดยเฉลี่ยจาก 0.01 ถึง 0.3 ไมโครเมตร ซึ่งเป็นอนุภาคของ อะลูมินัมออกไซด์ 4. สารขัดถูตามข้อถือสิทธิข้อ 3 ที่ซึ่งรูปแบบผลึกของอนุภาคของอะลูมินัมออกไซด์จะ เป็น อัลฟา-อะลูมินา หรือ แกมมา-อะลูมินา 5. สารขัดถูตามข้อถือสิทธิข้อ 3 ซึ่งอนุภาคของอะลูมินัมออกไซด์มีขนาดอนุภาคโดย เฉลี่ยจาก 0.1 ถึง 0.3 ไมโครเมตร และรูปแบบผลึกของอนุภาคนั้น คือ อัลฟา-อะลูมินา 6. สารขัดถูตามข้อถือสิทธิข้อ 3 ซึ่งอนุภาคของอะลูมินัมออกไซด์มีขนาดอนุภาคโดย เฉลี่ยจาก 0.01 ถึง 0.15 ไมโครเมตร และรูปแบบผลึกของอนุภาคนั้น คือ แกมมา-อะลูมินา 7. สารเหลวข้นของสารขัดถูที่มีสารขัดถูดังกำหนดไว้ในข้อถือสิทธิข้อ 1 ซึ่งได้รับการ ทำให้แขวนลอยในน้ำ เพื่อก่อเกิดสารเหลวข้น 8. สารเหลวข้นของสารขัดถูตามข้อถือสิทธิข้อ 7 ซึ่งได้รับการทำให้ได้มาโดยการผสม องค์ประกอบ (A) ในรูปแบบผง และสารกระจายตัวที่มีองค์ประกอบ (B) ที่ได้รับการกระจายตัวอยู่ใน ตัวกลาง 9. วิธีการขัดผิวสำหรับพื้นผิวแก้ว ซึ่งประกอบรวมด้วยการขัดผิวพื้นผิวแก้วด้วยสาร ขัดถูที่ประกอบรวมด้วยอย่างน้อยที่สุดองค์ประกอบ (A) และ (B) ต่อไปนี้ (A) เม็ดสารขัดถูที่มีซีเรียมซึ่งมีขนาดอนุภาคโดยเฉลี่ยจาก 0.5 ถึง 5.0 ไมโครเมตร และ (B) อนุภาคที่มีขนาดอนุภาคโดยเฉลี่ยจาก 0.01 ถึง 0.3 ไมโครเมตร ซึ่งเป็นอนุภาคของ สมาชิกอย่างน้อยที่สุดหนึ่งชนิดที่คัดเลือกมาจากหมู่ที่ประกอบด้วยอะลูมินัม ออกไซด์, ซิลิคอนไดออกไซด์,เซอร์โคเนียมออกไซด์,ไททาเนียมออกไซด์, ซิลิคอน ไนไทรด์ และแมงกานีสออกไซด์ ซึ่งองค์ประกอบ (A) คือเม็ดสารขัดถูที่มี CeO2 ใน ปริมาณมากกว่า 50% ของมวลทั้งหมด 1 0. วิธีการขัดผิวตามข้อถือสิทธิข้อ 9 ที่ซึ่งพื้นผิวแก้วนี่มีโลหะที่ยึดจับอยู่บนนั้น 1 1. วิธีการขัดผิวตามข้อถือสิทธิข้อ 9 ซึ่งมีองค์ประกอบ (A) และ (B) ในอัตราส่วนของ มวลจาก 1:0.001 ถึง 1:0.3 1 2. วิธีการขัดผิวสำหรับพื้นผิวแก้ว ซึ่งประกอบรวมด้วยการขัดผิวพื้นผิวแก้วด้วยสาร ขัดถูที่ประกอบรวมด้วยอย่างน้อยที่สุดองค์ประกอบ (A) และ (B) ต่อไปนี้ (A) เม็ดสารขัดถูที่มีซีเรียมซึ่งมีขนาดอนุภาคโดยเฉลี่ยเท่ากับจาก 0.5 ถึง 5.0 ไมโครเมตร และ (B) อนุภาคที่มีขนาดอนุภาคโดยเฉลี่ยจาก 0.01 ถึง 0.3 ไมโครเมตร ซึ่งเป็นอนุภาคของ อะลูมินัมออกไซด์รูปแบบผลึกของอนุภาคนั้น คืออัลฟา-อะลูมินา หรือแกมมา-อะลูมินา 1 3. วิธีการขัดผิวตามข้อถือสิทธิข้อ 9 ซึ่งใช้สารขัดถูในรูปที่ได้รับการแขวนลอยในน้ำใน รูปของสารเหลวข้น 1 4. วิธีการขัดผิวสำหรับซับสเทรทสารกึ่งตัวนำ ซึ่งประกอบรวมด้วยการขัดผิวชั้นฉนวน และ/หรือ ชั้นโลหะที่ก่อรูปขึ้นบนซับสเทรทสารกึ่งตัวนำ ด้วยสารขัดถูที่มีซีเรียม ซึ่งประกอบรวมด้วย อย่างน้อยที่สุดองค์ประกอบ (A) และ (B) ต่อไปนี้ (A) เม็ดสารขัดถูที่มีซีเรียมซึ่งมีขนาดอนุภาคโดยเฉลี่ยจาก 0.5 ถึง 5.0 ไมโครเมตร และ (B) อนุภาคที่มีขนาดอนุภาคโดยเฉลี่ยจาก 0.01 ถึง 0.3 ไมโครเมตร ซึ่งเป็นอนุภาคของ สมาชิกอย่างน้อยที่สุดหนึ่งชนิดที่คัดเลือกมาจากหมู่ที่ประกอบด้วยอะลูมินัม ออกไซด์, ซิลิคอนไดออกไซด์,เซอร์โคเนียมออกไซด์,ไททาเนียมออกไซด์, ซิลิคอน ไนไทรด์ และแมงกานีสออกไซด์ ซึ่งองค์ประกอบ (A) คือเม็ดสารขัดถูที่มี CeO2 ใน ปริมาณมากกว่า 50% ของมวลทั้งหมด 1 5. วิธีการขัดผิวตามข้อถือสิทธิข้อ 14 ซึ่งมีองค์ประกบ (A) และ (B) อยู่ในอัตราส่วน ของมวลจาก 1:0.001 ถึง 1:0.3 1 6. วิธีการขัดผิวสำหรับซับสเทรทสารกึ่งตัวนำ ซึ่งประกอบรวมด้วยการขัดผิวชั้นฉนวน และ/หรือ ชั้นโลหะที่ก่อรูปบนซับสเทรทสารกึ่งตัวนำ ด้วยสารขัดถูที่มีซีเรียมที่ประกอบรวมด้วยอย่าง น้อยที่สุดองค์ประกอบ (A) และ (B) ต่อไปนี้ (A) เม็ดสารขัดถูที่มีซีเรียมซึ่งมีขนาดของอนุภาคโดยเฉลี่ยจาก 0.5 ถึง 5.0 ไมโครเมตรและ (B) อนุภาคที่มีขนาดอนุภาคโดยเฉลี่ยจาก 0.01 ถึง 0.3 ไมโครเมตร ซึ่งเป็นอนุภาคของ อะลูมินัมออกไซด์,รูปแบบผนึกของสารนั้นคือ อัลฟา-อะลูมินา หรือ แกมมา-อะลูมินา 1 7. วิธีการขัดผิวตามข้อถือสิทธิข้อ 14 ซึ่งใช้ขัดถูในรูปที่ได้รับการแขวนลอยในน้ำ ในรูปแบบของสารเหลวข้น 1 8. สารขัดถูตามข้อถือสิทธิที่ 1 ซึ่งเม็ดสารขัดถูที่มี CeO2 มีอยู่ในปริมาณอย่างน้อย 60% ของมวลทั้งหมด 1 9. สารขัดถูตามข้อถือสิทธิที่ 18 ซึ่งเม็ดสารขัดถูที่มี CeO2 มีอยู่ในปริมาณอย่างน้อย 80% ของมวลทั้งหมด 2 0. สารขัดถูตามข้อถือสิทธิที่ 19 ซึ่งเม็ดสารขัดถูที่มี CeO2 มีอยู่ในปริมาณอย่างน้อย 98% ของมวลทั้งหมด 2 1. สารขัดถูตามข้อถือสิทธิที่ 20 ซึ่งเม็ดสารขัดถูที่มี CeO2 มีอยู่ในปริมาณอย่างน้อย 99.8% ของมวลทั้งหมด 2 2. วิธีการขัดผิวตามข้อถือสิทธิที่ 9 ซึ่งเม็ดสารขัดถูที่มี CeO2 มีอยู่ในปริมาณอย่างน้อย 60% ของมวลทั้งหมด 2 3. วิธีการขัดผิวตามข้อถือสิทธิที่ 22 ซึ่งเม็ดสารขัดถูที่มี CeO2 มีอยู่ในปริมาณอย่าง น้อย 80% ของมวลทั้งหมด 2 4. วิธีการขัดผิวตามข้อถือสิทธิที่ 23 ซึ่งเม็ดสารขัดถูที่มี CeO2 มีอยู่ในปริมาณอย่าง น้อย 98% ของมวลทั้งหมด 2 5. วิธีการขัดผิวตามข้อถือสิทธิที่ 24 ซึ่งเม็ดสารขัดถูที่มี CeO2 มีอยู่ในปริมาณอย่าง น้อย 99.8% ของมวลทั้งหมด 2 6. วิธีการขัดผิวตามข้อถือสิทธิที่ 14 ซึ่งเม็ดสารขัดถูที่มี CeO2 มีอยู่ในปริมาณอย่าง น้อย 60% ของมวลทั้งหมด 2 7. วิธีการขัดผิวตามข้อถือสิทธิที่ 26 ซึ่งเม็ดสารขัดถูที่มี CeO2 มีอยู่ในปริมาณอย่าง น้อย 80% ของมวลทั้งหมด 2 8. วิธีการขัดผิวตามข้อถือสิทธิที่ 27 ซึ่งเม็ดสารขัดถูที่มี CeO2 มีอยู่ในปริมาณอย่าง น้อย 98% ของมวลทั้งหมด 2 9. วิธีการขัดผิวตามข้อถือสิทธิที่ 28 ซึ่งเม็ดสารขัดถูที่มี CeO2 มีอยู่ในปริมาณอย่าง น้อย 99.8% ของมวลทั้งหมด 3 0. สารขัดถูที่ประกอบรวมด้วยอย่างน้อยที่สุดองค์ประกอบ (A) และ(B) ต่อไปนี้ (A) เม็ดสารขัดถูที่มีซีเรียมซึ่งมีขนาดอนุภาคโดยเฉลี่ยจาก 0.5 ถึง 5.0 ไมโครเมตร และ (B) อนุภาคที่มีขนาดอนุภาคโดยเฉลี่ยจาก 0.01 ถึง 0.3 ไมโครเมตร ซึ่งเป็นอนุภาคของ สมาชิกอย่างน้อยที่สุดหนึ่งชนิดที่คัดเลือกมาจากหมู่ที่ประกอบด้วยอะลูมิมัน ออกไซด์,เซอร์โคเนียมออกไซด์,ไททาเนียมออกไซด์,ซิลิคอนไนไทรด์ และ แมงกานีสออกไซด์ 3
1. วิธีการขัดผิวสำหรับพื้นผิวแก้ว ซึ่งประกอบรวมด้วยการขัดผิวพื้นผิวแก้วด้วยสาร ขัดถูที่ประกอบรวมด้วยอย่างน้อยที่สุดองค์ประกอบ (A) และ(B) ต่อไปนี้ (A) เม็ดสารขัดถูที่มีซีเรียมซึ่งมีขนาดอนุภาคโดยเฉลี่ยจาก 0.5 ถึง 5.0 ไมโครเมตร และ (B) อนุภาคที่มีขนาดอนุภาคโดยเฉลี่ยจาก 0.01 ถึง 0.3 ไมโครเมตร ซึ่งเป็นอนุภาคของ สมาชิกอย่างน้อยที่สุดหนึ่งชนิดที่คัดเลือกมาจากหมู่ที่ประกอบด้วยอะลูมินัม ออกไซด์,เซอร์โคเนียมออกไซด์,ไททาเนียมออกไซด์,ซิลิคอนไนไทรด์ และ แมงกานีสออกไซด์ 3
2. วิธีการขัดผิวสำหรับซับสเทรทสารกึ่งตัวนำ ซึ่งประกอบรวมด้วยการขัดผิวชั้นฉนวน และ/หรือ ชั้นโลหะที่ก่อรูปบนซับสเทรทสารกึ่งตัวนำ ด้วยสารขัดถูที่มีซีเรียมที่ประกอบรวมด้วยอย่าง น้อยที่สุดองค์ประกอบ (A) และ(B) ต่อไปนี้ (A) เม็ดสารขัดถูที่มีซีเรียมซึ่งมีขนาดอนุภาคโดยเฉลี่ยจาก 0.5 ถึง 5.0 ไมโครเมตร และ (B) อนุภาคที่มีขนาดอนุภาคโดยเฉลี่ยจาก 0.01 ถึง 0.3 ไมโครเมตร ซึ่งเป็นอนุภาคของ สมาชิกอย่างน้อยที่สุดหนึ่งชนิดที่คัดเลือกมาจากหมู่ที่ประกอบด้วยอะลูมินัม ออกไซด์,เซอร์โคเนียมออกไซด์,ไททาเนียมออกไซด์,ซิลิคอนไนไทรด์ และ แมงกานีสออกไซด์
TH1000884A 2000-03-20 สารขัดถู TH23590B (th)

Publications (2)

Publication Number Publication Date
TH43982A TH43982A (th) 2001-03-30
TH23590B true TH23590B (th) 2008-04-21

Family

ID=

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN1042550C (zh) 活性抛光组合物及其制备方法
TWI605112B (zh) 研磨用組成物
RU2006104117A (ru) Абразивные частицы для механической полировки
KR100792985B1 (ko) 연마제
RU2178599C2 (ru) Абразив из оксида церия и способ полирования подложек
EP3210238B1 (en) Cobalt polishing accelerators
SG190703A1 (en) Composition and method for polishing polysilicon
JP2000336344A (ja) 研磨剤
KR101022982B1 (ko) 폴리싱 슬러리 및 그 사용 방법
TWI596202B (zh) 用於鎳-磷記憶碟之拋光組合物
KR20090051263A (ko) 수용성 산화제를 이용한 탄화규소 연마 방법
KR102350734B1 (ko) 사파이어 표면 연마용 화학적 기계적 연마 조성물 및 그의 사용방법
WO2011034808A2 (en) Composition and method for polishing bulk silicon
WO2011130072A2 (en) Composition and method for polishing bulk silicon
US20090321390A1 (en) Chemical mechanical polishing of moisture sensitive surfaces and compositions thereof
TH43982A (th) สารขัดถู
TH23590B (th) สารขัดถู
JPH05156238A (ja) メカノケミカル研摩用研摩剤、および材料片を研摩する方法
JP2000053946A5 (th)
TH58696B (th) สารขัดถูที่มีซีเรียมเป็นองค์ประกอบหลัก สารขัดถูข้นเหลว และการผลิตสารขัดถูที่มีซีเรียมเป็นองค์ประกอบหลัก
CN1237141C (zh) 研磨浆液及其用途
JP2011110656A (ja) 研磨用組成物および研磨方法
JPS6086187A (ja) 半導体ウエ−ハ研摩用砥粒
JP2003170351A (ja) 研磨装置の工具プレート
KR20180006897A (ko) 유리 및 세라믹 연마용 조성물