TH2075A - เครื่องเคลือบสารที่ได้จากปฏิกิริยาเคมีของไอสาร - Google Patents
เครื่องเคลือบสารที่ได้จากปฏิกิริยาเคมีของไอสารInfo
- Publication number
- TH2075A TH2075A TH8401000427A TH8401000427A TH2075A TH 2075 A TH2075 A TH 2075A TH 8401000427 A TH8401000427 A TH 8401000427A TH 8401000427 A TH8401000427 A TH 8401000427A TH 2075 A TH2075 A TH 2075A
- Authority
- TH
- Thailand
- Prior art keywords
- coating
- make
- chemical reaction
- vapor
- hull
- Prior art date
Links
- 238000000576 coating method Methods 0.000 title claims abstract 7
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 title claims abstract 6
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 title claims abstract 5
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract 2
- 230000005855 radiation Effects 0.000 claims abstract 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims 3
- 239000011521 glass Substances 0.000 abstract 2
- 239000010453 quartz Substances 0.000 abstract 1
- 238000007789 sealing Methods 0.000 abstract 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- 238000005728 strengthening Methods 0.000 abstract 1
Abstract
อุปกรณ์เคลือบสารที่ได้จากปฏิกิริยาเคมีของไอสารชนิดที่ปรับปรุงให้ดีขึ้น ซึ่งมีที่ให้ความร้อนที่จัดได้ว่าอยู่ ล้อมรอบช่องเคลือบสารที่เป็นช่องใน เพื่อทำให้สภาพด้าน อุณหภูมิภายในช่องคงที่หรือควบคุมความแตกต่างได้อย่าง เที่ยงตรง ชิ้นส่วนภายในของช่องเกิดปฏิกิริยาทำด้วยควอตซ์ หรือวัสดุที่คล้ายคลึงกันที่สามารถถ่ายเทพลังงานด้วยการแผ่ รังสีผ่านได้ สิ่งต่าง ๆ ที่รวมอยู่ด้วยคือที่ทำความเย็น แบบพิเศษเพื่อป้องกัน แหวนผนึกที่ว่องไวต่อความร้อน การทำโครงสร้างของส่วนประกอบ ที่เป็นแก้วที่จะต้องรับความเครียดอย่างรุนแรงในขณะดำเนิน การให้แข็งแรงขึ้นและการออกแบบอย่างจำเพาะเพื่อทำให้ถอดและ เปลี่ยนส่วนประกอบที่เป็นแก้วทุกชิ้นที่สัมผัสกับก๊าซที่ ใช้ทำปฏิกิริยาเคลือบสารได้โดยง่าย
Claims (1)
1. อุปกรณ์เคลือบสารโดยมีการควบคุมอุณหภูมิซึ่งประกอบด้วยช่องเกิดปฏิกิริยาเคลือบสารเป็นช่องในที่มีที่กระจายก๊าซ สำหรับป้อนก๊าซเข้าสู่ช่องในและเอาก๊าซออกจากช่องนั้น ที่ ที่เป็นเช่งสูญญากาศล้อมรอบช่องเกิดปฏิกิริยาเคลือบสารที่ เป็นช่องในและอยู่ห่างออกมาจากผนังของช่องในเพื่อรักษา สูญญากาศระดับปานกลางไว้ในช่องนั้น ที่ที่เป็นช่องสูญญากาศ ประกอบด้วยตัวถังรูปโดมและส่วนฐานที่ทำหน้าที่ร่วมกับตัว ถังนั้น วัสดุที่ ใช้ทำตัวถังรูปโดมและส่วนฐานเป็นสารที่จัดได้ว่ายอมให้ รังสีแผ่ผ่านได้ ที่ให้ความร้อนด้วยกแท็ก :
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| TH2075A true TH2075A (th) | 1984-12-03 |
Family
ID=
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| ATE72142T1 (de) | Hohlfaserfilterpatrone und -verteiler. | |
| AU572883B2 (en) | Chemical vapour deposition | |
| CA2269862A1 (en) | Apparatus and process for controlled atmosphere chemical vapor deposition | |
| GB2141444A (en) | Chemical vapor deposition of titanium nitride and like films | |
| GB8712887D0 (en) | Chemical resistant seal material | |
| IT1124135B (it) | Accumulatore di calore per il recupero del calore solare o di gas combusti o simili fonti di energia termica | |
| JPS5766625A (en) | Manufacture of film | |
| TH2075A (th) | เครื่องเคลือบสารที่ได้จากปฏิกิริยาเคมีของไอสาร | |
| GB2202932B (en) | Heat regenerators | |
| GB974034A (en) | Production of vacuum-tight spinel bodies | |
| JPS5483971A (en) | Crosslinked olefinic resin film having improved heat sealability | |
| JPS5575945A (en) | Optical fiber coating method | |
| FR2312004A1 (fr) | Four electrique pour hautes temperatures | |
| Ruset | Energy Efficiency of Plasma Thermochemical Processing | |
| SU567491A1 (ru) | Устройство дл осаждени слоев из газовой фазы | |
| JPS54139482A (en) | Manufacture of semiconductor device | |
| JPS54145399A (en) | Preparing porous inorganic composite material coated with thermally decomposed polyacrylonitrile | |
| JPS5624938A (en) | High pressure oxidizing apparatus | |
| YANG | Portable heatable container[Patent] | |
| BG50691A1 (en) | Method and device for manufacturing of oxigen sensor | |
| SE8601326L (sv) | Uppvermningsanordning | |
| ES2044752A2 (es) | Procedimiento para la fabricacion de un acumulador de calor, en particular un acumulador de calor latente, y acumulador de calor para la realizacion del procedimiento. | |
| GB841980A (en) | Purification of elementary boron | |
| IT1114361B (it) | Apparecchio e procedimento per la deposizione di materiale semiconduttore puro in particolare silicio |