TH16115B - ส่วนประกอบและสเลอรี่ที่เป็นประโยชน์สำหรับการขัดโลหะเชิงกลทางเคมี - Google Patents
ส่วนประกอบและสเลอรี่ที่เป็นประโยชน์สำหรับการขัดโลหะเชิงกลทางเคมีInfo
- Publication number
- TH16115B TH16115B TH9701004862A TH9701004862A TH16115B TH 16115 B TH16115 B TH 16115B TH 9701004862 A TH9701004862 A TH 9701004862A TH 9701004862 A TH9701004862 A TH 9701004862A TH 16115 B TH16115 B TH 16115B
- Authority
- TH
- Thailand
- Prior art keywords
- approximately
- catalyst
- mechanical polishing
- chemical
- percent
- Prior art date
Links
Abstract
DC60 (29/07/46) ส่วนประกอบตัวกลางเคมีสำหรับการขัดเชิงกลที่ประกอบด้วยสารเร่งปฏิกิริยาอย่างน้อยหนึ่งตัว ที่มีสถานะออกซิเดชันหลายสถานะ และสารเสริมเสถียรภาพอย่างน้อยหนึ่งตัว ส่วนประกอบนี้จะเป็น ประโยชน์เมื่อผสมกับสารออกซิไดซิ่งก่อนการใช้งานเพื่อกำจัดชั้นโลหะออกจากวัสดุ ยังได้เปิดเผยถึง ส่วนประกอบเคมีสำหรับการขัดเชิงกลที่ประกอบด้วยสารออกซิไดซิ่งอย่างน้อยหนึ่งตัวและสารเร่ง ปฏิกิริยาอย่างน้อยหนึ่งตัวที่มีสถานะออกซิเดชันหลายสถานะ ส่วนประกอบนี้จะเป็นประโยชน์เมื่อผสม กับสารขัดหรือแผ่นขัดเพื่อกำจัดชั้นโลหะออกจากวัสดุ ส่วนประกอบตัวกลางเคมีสำหรับการขัดเชิงกลที่ประกอบด้วยสารเร่งปฏิกิริยาอย่างน้อยหนึ่งตัว ที่มีสถานะออกซิเดชันหลายสถานะ และสารเสริมเสถียรภาพอย่างน้อยหนึ่งตัว ส่วนประกอบนี้จะเป็น ประโยชน์เมื่อผสมกับสารออกซิไดซ์ซิ่งก่อนการใช้งานเพื่อกำจัดชั้นโลหะออกจากวัสดุ ยังได้เปิดเผยถึง ส่วนประกอบเคมีสำหรับการขัดเชิงกลที่ประกอบด้วยสารออกซิไดซ์ซิ่งอย่างน้อยหนึ่งตัวและสารเร่ง ปฏิกิริยาอย่างน้อยหนึ่งตัวที่มีสถานะออกซิเดชันหลายสถานะ ส่วนประกอบนี้จะเป็นประโยชน์เมื่อผสม กับสารขัดหรือแผ่นขัดเพื่อกำจัดชั้นโลหะออกจากวัสดุ
Claims (93)
1. ส่วนประกอบเคมีสำหรับการขัดเชิงกลที่ประกอบด้วยการผสมที่เสริมฤทธิ์กันของ สารออกซิไดซิ่งอย่างน้อยหนึ่งตัว และ สารเร่งปฏิกิริยาอย่างน้อยหนึ่งตัวที่มีสถานะออกซิเดชันหลายสถานะ
2. สเลอรี่เคมีสำหรับการขัดเชิงกลที่ประกอบด้วยส่วนประกอบเคมีสำหรับการขัด เชิงกลตามข้อถือสิทธิที่ 1 และสารขัดอย่างน้อยหนึ่งตัว
3. ส่วนประกอบเคมีสำหรับการขัดเชิงกลตามข้อถือสิทธิที่ 1 โดยที่สารออกซิไดซิ่งมี ศักย์เคมีไฟฟ้ามากกว่าศักย์เคมีไฟฟ้าที่จำเป็นต้องใช้ในการออกซิไดซ์สารเร่งปฏิกิริยา
4. ส่วนประกอบเคมีสำหรับการขัดเชิงกลตามข้อถือสิทธิที่ 3 โดยที่สารออกซิไดซิ่ง คือ สารประกอบเปอร์อินทรีย์, สารประกอบเปอร์อนินทรีย์, สารประกอบที่ไม่ใช่สารประกอบ เปอร์หรือสารเหล่านี้ผสมกัน
5. ส่วนประกอบเคมีสำหรับการขัดเชิงกลตามข้อถือสิทธิที่ 4 โดยที่สารออกซิไดซิ่ง คือ โมโนเปอร์ซัลเฟต. เปอร์ซัลเฟต, เปอร์ออกไซด์, เปอร์ไอโอเตตหรือสารเหล่านี้ผสมกัน
6. ส่วนประกอบเคมีสำหรับการขัดเชิงกลตามข้อถือสิทธิที่ 5 โดยที่สารออกซิไดซิ่ง รวมถึงโมโนเปอร์ซัลเฟตอย่างน้อยหนึ่งตัวที่มีสูตร (สูตรเคมี) โดยที่ X1 และ X2 แต่ละตัวคือ H, Si(R')3, NH4, N(R'')4 และโลหะอัลคาไลเอิร์ธ เช่น Li, Na, K; โดยที่ R' คือหมู่อัลคิลที่มีคาร์บอนตั้งแต่ 1 ถึง 10 อะตอมหรือมากกว่า และโดย ที่ R'' คือ H, หมู่อัลคิล, หมู่เอริล หรือสารเหล่านี้ผสมกัน
7. ส่วนประกอบเคมีสำหรับการขัดเชิงกลตามข้อถือสิทธิที่ 6 ที่มีโมโนเปอร์ซัลเฟต จากประมาณ 0.5 ถึงประมาณ 20 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนัก
8. ส่วนประกอบเคมีสำหรับการขัดเชิงกลตามข้อถือสิทธิที่ 6 โดยมี 2KHSO5,KHSO4,K2SO4 จากประมาณ 1 ถึงประมาณ 20 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนัก
9. ส่วนประกอบเคมีสำหรับการขัดเชิงกลตามข้อถือสิทธิที่ 5 โดยที่สารออกซิไดซิ่งคือ ไฮโดรเจนเปอร์ออกไซด์
10. ส่วนประกอบเคมีสำหรับการขัดเชิงกลตามข้อถือสิทธิที่ 9 จะมีส่วนที่เป็น ไฮโดรเจนเปอร์ออกไซด์ จากประมาณ 0.1 ถึง ประมาณ 50 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนัก
11. ส่วนประกอบเคมีสำหรับการขัดเชิงกลตามข้อถือสิทธิที่ 9 จะมีส่วนที่เป็น ไฮโดรเจนเปอร์ออกไซด์ จากประมาณ 1.0 ถึง ประมาณ 10 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนัก
12. ส่วนประกอบเคมีสำหรับการขัดเชิงกลตามข้อถือสิทธิที่ 1 โดยที่สารเร่ง ปฏิกิริยาคือ สารประกอบโลหะ
13. ส่วนประกอบเคมีสำหรับการขัดเชิงกลตามข้อถือสิทธิที่ 12 โดยที่สาร เร่งปฏิกิริยา คือ สารประกอบโลหะของ Ag, Co, Cr, Cu, Fe, Mo, Mn, Nb, Ni, Os, Pd, Ru, Sn, Ti, V และสารเหล่านี้ผสมกัน โดยมีสถานะออกซิเดชันหลายสถานะ
14. ส่วนประกอบเคมีสำหรับการขัดเชิงกลตามข้อถือสิทธิที่ 13 โดยที่สาร เร่งปฏิกิยาคือ สารประกอบของเหล็ก, ทองแดง, เงิน หรือสารเหล่านี้ใด, ผสมกัน โดยมีสถานะ ออกซิเดชันหลายสถานะ
15. ส่วนประกอบเคมีสำหรับการขัดเชิงกลตามข้อถือสิทธิที่ 14 โดยที่สาร เร่งปฏิกิริยา คือ สารประกอบเร่งปฏิกิริยาเหล็กที่เลือกจากกลุ่มที่ประกอบด้วย สารประกอบ อนินทรีย์ของเหล็ก และสารประกอบอินทรีย์ของเหล็ก โดยที่มีสถานะการออกซิเดชันหลายสถานะ
16. ส่วนประกอบเคมีสำหรับการขัดเชิงกลตามข้อถือสิทธิที่ 15 โดยที่สาร เร่งปฏิกิริยาเหล็กคือ เฟอริกไนเตรด
17. ส่วนประกอบเคมีสำหรับการขัดเชิงกลตามข้อถือสิทธิที่ 14 โดยที่สาร เร่งปฏิกิริยาคือ สารเร่งปฏิกิริยาทองแดงที่เลือกจากกลุ่มที่ประกอบด้วย สารประกอบอนินทรีย์ของ ทองแดง และสารประกอบอินทรีย์ของทองแดง
18. ส่วนประกอบเคมีสำหรับการขัดเชิงกลตามข้อถือสิทธิที่ 17 โดยที่สาร เร่งปฏิกิยา คือ คอปเปอร์ไนเตรต
19. ส่วนประกอบเคมีสำหรับการขัดเชิงกลตามข้อถือสิทธิที่ 14 โดยที่สาร เร่งปฏิกิยา คือ การผสมของสารประกอบทองแดง และสารประกอบเหล็ก
20. ส่วนประกอบเคมีสำหรับการขัดเชิงกลตามข้อถือสิทธิที่ 1 โดยที่สาร เร่งปฏิกิยาจากประมาณ 0.001 ถึง ประมาณ 2.0 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนัก
21. ส่วนประกอบเคมีสำหรับการขัดเชิงกลตามข้อถือสิทธิที่ 20 โดยที่สาร เร่งปฏิกิยาจากประมาณ 0.005 ถึง ประมาณ 2.0 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนัก
22. ส่วนประกอบเคมีสำหรับการขัดเชิงกลตามข้อถือสิทธิที่ 1 โดยที่สารออกซิไดซิ่งคือ ไฮโดรเจนเปอร์ออกไซด์ และสารเร่งปฏิกิริยาคือสารเร่งปฏิกิริยาเหล็กจากประมาณ 0.01 ถึง ประมาณ 0.5 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนัก
23. ส่วนประกอบเคมีสำหรับการขัดเชิงกลตามข้อถือสิทธิที่ 1 โดยที่สารออกซิไดซิ่งคือ โมโนเปอร์ซัลเฟต และโดยที่สารเร่งปฏิกิริยาคือสารเร่งปฏิกิริยาเหล็กจากประมาณ 0.05 ถึง ประมาณ 1.0 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนัก
24. สเลอรี่เคมีสำหรับการขัดเชิงกลซึ่งประกอบด้วย สารขัด สารเร่งปฏิกิริยาเฟอริกไนเตรด และ สารออกซิไดซิ่งจากประมาณ 1.0 ถึงประมาณ 10.0 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนักที่เลือก จากกลุ่มที่ประกอบด้วยไฮโดรเจนเปอร์ออกไซด์และโมโนเปอร์ซัลเฟตโดยที่เมื่อสารออกซิไดซิ่ง คือไฮโดรเจนเปอร์ออกไซด์แล้วสเลอรี่จะรวมเอาสารเร่งปฏิกิริยาเฟอริกไนเตรตไว้จากประมาณ 0.01 ถึงประมาณ 0.05 เปอรเซ็นต์โดยน้ำหนัก และเมื่อสารออกซิไดซ์ซึ่งคือโมโนเปอร์ซัลเฟต แล้วสเลอรี่จะรวมเอาสารเร่งปฏิกิริยาเฟอริกไนเตรตไว้จากประมาณ 0.1 ถึงประมาณ 0.5 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนัก
25. สเลอรี่เคมีสำหรับการขัดเชิงกลตามข้อถือสิทธิที่ 24 ซึ่งสารขัดคือโลหะออกไซด์ อย่างน้อยหนึ่งตัว
26. สเลอรี่เคมีสำหรับการขัดเชิงกลตามข้อถือสิทธิที่ 25 โดยที่สารขัดโลหะออกไซด์ถูก เลือกจากกลุ่มที่ประกอบด้วยอลูมินา, ซีเรีย, เจอร์มาเนีย, ซิลิกา, ไททาเนีย, เซอร์โคเนีย และ สารเหล่านี้ผสมกัน
27. สเลอรี่เคมีสำหรับการขัดเชิงกลตามข้อถือสิทธิที่ 24 ซึ่งสารขัดคือการกระจายตัว ในน้ำของโลหะออกไซด์
28. สเลอรี่เคมีสำหรับการขัดเชิงกลตามข้อถือสิทธิที่ 25 โดยที่สารขัดโลหะออกไซด์ ประกอบด้วยการรวมกลุ่มโลหะออกไซด์ที่มีการกระจายตัวของขนาดประมาณ 1.0 ไมครอน และเส้นผ่าศูนย์กลางเฉลี่ยของการรวมกลุ่มน้อยกว่า 0.4 ไมครอน
29. สเลอรี่เคมีสำหรับการขัดเชิงกลตามข้อถือสิทธิที่ 25 โดยที่สารขัดโลหะออกไซด์ ประกอบด้วยทรงกลมของโลหะออกไซด์ที่แยกออกจากกัน โดยมีเส้นผ่าศูนย์กลางอนุภาค ปฐมภูนิน้อยกว่า 0.400 ไมครอน และพื้นที่ผิวจากช่วงประมาณ 10 ตารางเมตร/กรัมถึง ประมาณ 250 ตารางเมตร/กรัม
30. สเลอรี่เคมีสำหรับการขัดเชิงกลตามข้อถือสิทธิที่ 24 โดยที่สารขัดมีพื้นที่ผิวจาก ช่วงประมาณ 5 ตารางเมตร/กรัมถึงประมาณ 430 ตารางเมตร/กรัม
31. สเลอรี่เคมีสำหรับการขัดเชิงกลตามข้อถือสิทธิที่ 30 โดยที่สารขัดมีพื้นที่ผิวจาก ช่วงประมาณ 30 ตารางเมตร/กรัมถึงประมาณ 170 ตารางเมตร/กรัม
32. สเลอรี่เคมีสำหรับการขัดเชิงกลตามข้อถือสิทธิที่ 24 โดยที่สารขัดคือสารขัดตก ตะกอนหรือสารขัดฟูม
33. สเลอรี่เคมีสำหรับการขัดเชิงกลตามข้อถือสิทธิที่ 24 ซึ่งสารขัดคือซิลิกา
34. สเลอรี่เคมีสำหรับการขัดเชิงกลตามข้อถือสิทธิที่ 24 ซึ่งสารขัดคือซิลิกาฟูม
35. สเลอรี่เคมีสำหรับการขัดเชิงกลซึ่งประกอบด้วย ซิลิกาจากประมาณ 1.0 ถึงประมาณ 15.0 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนัก สารเร่งปฏิกิริยาเฟอริกไนเตรตจากประมาณ 0.1 ถึงประมาณ 0.5 เปอร์เซ็นต์โดย น้ำหนัก และ โมโนเปอร์ซัลเฟตจากประมาณ 1.0 ถึงประมาณ 10.0 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนัก
36. สเลอรี่เคมีสำหรับการขัดเชิงกลซึ่งประกอบด้วย ซิลิกาจากประมาณ 1.0 ถึงประมาณ 15.0 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนัก สารเร่งปฏิกิริยาเฟอริกไนเตรตจากประมาณ 0.01 ถึงประมาณ 0.05 เปอร์เซ็นต์ โดยน้ำหนัก ไฮโดรเจนเปอร์ออกไซด์จากประมาณ 1.0 ถึงประมาณ 10.0 เปอร์เซ็นต์โดย น้ำหนัก
37. วิธีการสำหรับการขัดวัสดุที่มีชั้นโลหะอย่างน้อยหนึ่งชั้น ซึ่งประกอบด้วยขั้นตอน ของ (a) การผสมสารขัดอย่างน้อยหนึ่งตัว สารออกซิไดซิ่งอย่างน้อยหนึ่งตัว สารเร่ง ปฏิกิริยาอย่างน้อยหนึ่งตัวที่มีสถานะออกซิเดชันหลายสถานะ และน้ำดีไอออไนซ์ เพื่อให้ได้ สเลอรี่เคมีสำหรับการขัดเชิงกล (b) การทาสเลอรี่เคมีสำหรับการขัดเชิงกลลงบนวัสดุ และ (c) กำจัดชั้นโลหะอย่างน้อยหนึ่งส่วนออกจากวัสดุโดยการนำแผ่นขัดมาสัมผัสกับวัสดุ และถูแผ่นขัดให้สัมพันธ์กับวัสดุนั้น
38. วิธีการตามข้อถือสิทธิข้อ 37 โดยที่วัสดุนั้นรวมถึงชั้นโลหะที่มีทังสเตนอยู่ โดยที่ อย่างน้อยส่วนหนึ่งของชั้นทังสเตนถูกกำจัดออกในขั้นตอน (c)
39. วิธีการตามข้อถือสิทธิข้อ 38 โดยที่วัสดุนั้นยังรวมถึงชั้นโลหะที่มีไทเทเนียม และ/หรือไททาเนียมไนไทรด์ โดยที่อย่างน้อยส่วนหนึ่งของชั้นไททาเนียมไนไทรล์ถูกกำจัดออก ในขั้นตอน (c)
40. วิธีการตามข้อถือสิทธิข้อ 38 โดยที่สารเร่งปฏิกิริยาถูกเลือกจากกลุ่มของสาร ประกอบอนินทรีย์ของเหล็ก และสารประกอบอินทรีย์ของเหล็ก
41. วิธีการตามข้อถือสิทธิข้อ 40 โดยที่สารเร่งปฏิกิริยาคือเฟอริกไนเตรต
42. วิธีการตามข้อถือสิทธิข้อ 41 โดยที่สารเร่งปฏิกิริยาเฟอริกไนเตรตจะมีอยู่ในสเลอรี่ ในปริมาณช่วงจากประมาณ 0.001 ถึงประมาณ 2.0 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนัก
43. วิธีการตามข้อถือสิทธิข้อ 37 โดยที่สารเร่งปฏิกิริยาถูกเลือกจากกลุ่มของสาร ประกอบอนินทรีย์ของทองแดง และสารประกอบอินทรีย์ของทองแดง
44. วิธีการตามข้อถือสิทธิข้อ 37 ซึ่งสารขัดคือโลหะออกไซต์
45. วิธีการตามข้อถือสิทธิข้อ 44 โดยที่สารขัดโลหะออกไซด์ถูกเลือกจากกลุ่มที่ ประกอบด้วยอลูมินา , ซีเรีย, เจอร์มาเนีย, ซิลิกา, ไททาเนีย, เซอร์โคเนียและสารเหล่านี้ผสมกัน
46. วิธีการตามข้อถือสิทธิข้อ 37 ซึ่งสารขัดคือการกระจายตัวในน้ำของโลหะ ออกไซด์
47. วิธีการตามข้อถือสิทธิข้อ 37 โดยที่สารขัดถูกเลือกจากกลุ่มที่ประกอบด้วยอลูมินา ตกตะกอน อลูมินาฟูม ซิลิกาตกตะกอน ซิลิกาฟูม และสารเหล่านี้ผสมกัน
48. วิธีการตามข้อถือสิทธิข้อ 37 โดยที่สารขัดคือซิลิกา
49. วิธีการสำหรับการขัดวัสดุที่มีชั้นทังสเตน ประกอบด้วย (a) การผสมซิลิกาจากประมาณ 1.0 ถึงประมาณ 15.0 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนัก สารเร่ง ปฏิกิริยาเฟอริกไนเตรตจากประมาณ 0.001 ถึงประมาณ 2.0 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนัก สาร ออกซิไดซิ่งจากประมาณ 2.0 ถึงประมาณ 10 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนักที่ถูกเลือกจากกลุ่ม ที่ประกอบด้วยไฮโดรเจนเปอร์ออกไซด์ โมโนเปอร์ซัลเฟต และสารเหล่านี้ผสมกัน และน้ำ ดีไอออไนซ์เพื่อให้ได้สารเคมีสำหรับการขัดเชิงกล (b) การทาสเลอรี่เคมีสำหรับการขัดเชิงกลลงบนวัสดุ และ (c) การกำจัดชั้นทังสเตนอย่างน้อยหนึ่งส่วน โดยการนำแผ่นขัดมาสัมผัสกับวัสดุและถู แผ่นขัดให้สัมพันธ์กับวัสดุ
50. ส่วนประกอบเคมีสำหรับการขัดเชิงกลที่ประกอบด้วยการสผสมของ องค์ประกอบ (component) ที่หนึ่งที่มีสารออกซิไดซ์ซิ่งย่างน้อยหนึ่งต้ว และ องค์ประกอบ (component) ที่สองที่มีผลิตภัณฑ์ของผสมของสารเร่งปฏิกิริยา อย่างน้อยหนึ่งตัวที่มีสถานะออกซิเดชันหลายสถานะ และสารเสริมเสถียรภาพอย่างน้อยหนึ่งตัว
51. ส่วนประกอบเคมีสำหรับการขัดเชิงกลตามข้อถือสิทธิข้อ 50 ที่ซึ่งสารเสริม เสถียรภาพคือกรดอินทรีย์ กรดอนินทรีย์ ไนไทรล์หรือสารเหล่านี้ผสมกัน
52. ส่วนประกอบเคมีสำหรับการขัดเชิงกลตามข้อถือสิทธิข้อ 50 ที่ซึ่งสารเสริม เสถียรภาพคือกรดอินทรีย์
53. ส่วนประกอบเคมีสำหรับการขัดเชิงกลตามข้อถือสิทธิข้อ 51 โดยที่สารเสริม เสถียรภาพถูกเลือกจากกลุ่มที่ประกอบด้วย กรดฟอสฟอริก กรดพทาลิก กรดซิตริก กรด มาโลนิก กรดฟอสโฟนิก กรดออกซาลิก กรดอะดิปิด เบนโซไนไทรล์ หรือสารเหล่านี้ผสมกัน
54. ส่วนประกอบเคมีสำหรับการขัดเชิงกลตามข้อถือสิทธิข้อ 53 โดยที่สารเสริม เสถียรภาพเป็นของผสมของกรดออกซาลิกจากประมาณ 0 สมมูลต่อสารเร่งปฏิกิริยาถึง ประมาณ 3 สมมูลต่อสารเร่งปฏิกิริยา และกรดอะติปิกจากประมาณ 0.2 ถึงประมาณ 1.0 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนัก
55. ส่วนประกอบเคมีสำหรับการขัดเชิงกลตามข้อถือสิทธิข้อ 53 โดยที่สารเสริม เสถียรภาพเป็นกรดมาโลนิกจากประมาณ 2 สมมูลต่อสารเร่งปฏิกิริยาถึงประมาณ 15 สมมูลต่อ สารเร่งปฏิกิริยา
56. ส่วนประกอบเคมีสำหรับการขัดเชิงกลตามข้อถือสิทธิข้อ 53 โดยที่สารเสริม เสถียรภาพเป็นกรดพทาลิกจากประมาณ 3 สมมูลต่อสารเร่งปฏิกิริยาถึงประมาณ 3.0 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนัก
57. ส่วนประกอบเคมีสำหรับการขัดเชิงกลตามข้อถือสิทธิข้อ 50 โดยที่สารออกซิไดซิ่ง คือ สารประกอบเปอร์ออกไซด์อินทรีย์, สารประกอบเปอร์ออกไซด์อนินทรีย์หรือสารเหล่านี้ ผสมกัน
58. ส่วนประกอบเคมีสำหรับการขัดเชิงกลตามข้อถือสิทธิข้อ 50 โดยที่สารออกซิไดซิ่ง คือไฮโดรเจนเปอร์ออกไซด์จากประมาณ 0.5 ถึงประมาณ 10 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนัก
59. ส่วนประกอบเคมีเชิงกลตามข้อถือสิทธิข้อ 50 ที่มีสารขัดอย่างน้อยหนึ่งตัวเพื่อ ผลิตสเลอรี่เคมีสำหรับการขัดเชิงกล
60. สเลอรี่เคมีสำหรับการขัดเชิงกลตามข้อถือสิทธิที่ 59 ที่ซึ่งสารขัดคือสารขัดโลหะ ออกไซด์อย่างน้อยหนึ่งตัวที่ถูกเลือกจากกลุ่มที่ประกอบด้วยอลูมินา, ซีเรีย, เจอร์มาเนีย, ซิลิกา , ไททาเนีย, เซอร์โคเนียหรือสารเหล่านี้ผสมกัน
61. สเลอรี่เคมีสำหรับการขัดเชิงกลตามข้อถือสิทธิที่ 60 โดยที่สารขัดโลหะออกไซด์ คืออลูมินาจากประมาณ 1.0 ถึงประมาณ 20.0 เปอร์เซ็นตโดยน้ำหนัก
62. ส่วนประกอบเคมีเชิงกลตามข้อถือสิทธิข้อ 50 โดยที่สารเร่งปฏิกิริยาคือสารเร่ง ปฏิกิริยาเหล็กที่เลือกจากกลุ่มที่ประกอบด้วยสารประกอบอนินทรีย์ของเหล็ก และสารประกอบ อินทรีย์ของเหล็ก โดยที่มีสถานะการออกซิเดชันหลายสถานะ
63. ส่วนประกอบเคมีเชิงกลตามข้อถือสิทธิข้อ 62 โดยที่สารเร่งปฏิกิริยาเหล็กคือ เฟอริกไนเตรต จากประมาณ 0.01 ถึงประมาณ 0.5 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนัก
64. สเลอรี่เคมีสำหรับการขัดเชิงกลซึ่งประกอบด้วย ซิลิกาจากประมาณ 3.0 ถึงประมาณ 7.0 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนัก ไฮโดรเจนเปอร์ออกไซด์จากประมาณ 0.5 ถึงประมาณ 10.0 เปอร์เซ็นต์โดย น้ำหนัก และ ผลิตภัณฑ์ของของผสมของสารเร่งปฏิกิริยาเฟอริกไนเตรตจากประมาณ 0.01 ถึง ประมาณ 0.05 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนัก และกรดมาโลนิกจากประมาณ 2 สมมูลต่อสารเร่ง ปฏิกิริยาถึงประมาณ 15 สมมูลต่อสารเร่งปฏิกิริยา
65. สเลอรี่เคมีสำหรับการขัดเชิงกลตามข้อถือสิทธิที่ 64 โดยที่ซิลิกามีพื้นที่ผิวระหว่าง ประมาณ 120 ตารางเมตร/กรัมถึงประมาณ 200 ตารางเมตร/กรัม
66. วิธีการสำหรับการขัดวัสดุที่มีชั้นโลหะอย่างน้อยหนึ่งชั้น ซึ่งประกอบด้วยขั้นตอน ของ (a) การเตรียมของผสมขององค์ประกอบที่หนึ่งที่มีสารออกซิไดซิ่งอย่างน้อยหนึ่งตัว และองค์ประกอบที่สองที่มีผลิตภัณฑ์ของของผสมของสารสารเร่งปฏิกิริยาอย่างน้อยหนึ่งตัวที่มี สถานะออกซิเดชันหลายสถานะและสารเสริมเสถียรภาพอย่างน้อยหนึ่งตัวและน้ำดีไอออไนซ์ เพื่อให้ได้ส่วนประกอบเคมีสำหรับการขัดเชิงกล (b) การทาส่วนประกอบเคมีสำหรับการขัดเชิงกลลงบนวัสดุ และ (c) กำจัดชั้นโลหะอย่างน้อยหนึ่งส่วนออกจากวัสดุโดยการนำแผ่นขัดมาสัมผัสกับวัสดุ และถูแผ่นขัดให้สัมพันธ์กับวัสดุนั้น
67. วิธีการตามข้อถือสิทธิที่ 66 โดยที่วัสดุนั้นรวมถึงชั้นโลหะที่มีทังสเตนอยู่ และ ชั้นโลหะที่มีไททาเนียมไนไทรด์ และโดยที่อย่างน้อยส่วนหนึ่งของชั้นทังสเตน และส่วนหนึ่งของ ชั้นไทเทเนียมไนไทรด์ถูกกำจัดออกในขั้นตอน (c)
68. วิธีการตามข้อถือสิทธิ 66 ที่ซึ่งสารเสริมเสถียรภาพ คือ กรดอินทรีย์, กรด อนินทรีย์, ไนไทรล์ สารเหล่านี้ผสมกัน
69. วิธีการตามข้อถือสิทธิ 66 ที่ซึ่งสารเสริมเสถียรภาพ คือ กรดอินทรีย์ ถูกเลือก จากกลุ่มที่ประกอบด้วย กรดฟอสฟอริก, กรดพทาลิก, กรดซิตริก, กรดมาโลนิก, กรดฟอสโฟนิก, กรดออกซาลิก, กรดอะดิปิก, เบนโซไนไทรล์, หรือสารเหล่านี้ผสมกัน
70. วิธีการตามข้อถือสิทธิ 69 โดยที่สารเสริมเสถียรภาพถูกเลือกจากของผสมของ กรดออกซาลิกจากประมาณ 0 สมมูลต่อสารเร่งปฏิกิริยาถึงประมาณ 3 สมมูล ต่อสารเร่งปฏิกิริยา, และกรดอะติกปิกจากประมาณ 0.2 ถึงประมาณ 1.0 เปอเปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนัก กรดมาโลนิก จาก ประมาณ 2 สมมูลต่อสารเร่งปฏิกิริยา ถึงประมาณ 15 สมมูลต่อสารเร่งปฏิกิริยา และกรดพทาลิกจาก ประมาณ 3 สมมูลต่อสารเร่งปฏิกิริยา ถึงประมาณ 3.0 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนัก
71. วิธีการตามข้อถือสิทธิข้อ 70 โดยที่สารออกซิไดซิ่ง คือ ไฮโดรเจนเปอร์ออกไซด์ ระหว่างประมาณ 0.5 ถึงประมาณ 10.0 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนัก และสารเร่งปฏิกิริยา คือ เฟอริก ไนเตรตในระหว่าง 0.01 ถึงประมาณ 0.5 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนัก
72. วิธีการตามข้อถือสิทธิข้อ 66 โดยที่ส่วนประกอบสำหรับการขัด ประกอบเพิ่มเติม ด้วย สารขัดโลหะออกไซด์อย่างน้อยหนึ่งตัว
73. วิธีการตามข้อถือสิทธิข้อ 72 โดยที่สารขัดโลหะออกไซด์ คือ อลูมินา
74. วิธีการตามข้อถือสิทธิข้อ 72 โดยที่สารขัดโลหะออกไซด์ คือ ซิลิกา
75. วิธีการตามข้อถือสิทธิข้อ 74 โดยที่ซิลิกามีพื้นที่ผิวระหว่างประมาณ 120 ตารางเมตร/กรัม ถึงประมาณ 200 ตารางเมตร/กรัม
76. ตัวกลางส่วนประกอบเคมีสำหรับการขัดเชิงกลที่ประกอบด้วย ผลิตภัณฑ์ของ ของผสมของสารเร่งปฏิกิริยาอย่างน้อยหนึ่งตัว ที่มีสถานะออกซิเดชันหลายสถานะ และสารเสริม เสถียรภาพอย่างน้อยหนึ่งตัว
77. ตัวกลางส่วนประกอบเคมีสำหรับการขัดเชิงกลตามข้อถือสิทธิข้อ 76 โดยที่ สารเร่งปฏิกิริยาคือ สารเร่งปฏิกิริยาเหล็กที่เลือกจากกลุ่มที่ประกอบด้วย สารประกอบอนินทรีย์ของ เหล็ก ละสารประกอบอินทรีย์ของเหล็ก โดยที่มีสถานะการออกซิเดชันหลายสถานะ
78. ตัวกลางส่วนประกอบเคมีสำหรับการขัดเชิงกลตามข้อถือสิทธิข้อ 77 โดยที่สารเร่ง ปฏิกิริยาเหล็กคือเฟอริกไนเตรด ในระหว่างประมาณ 0.01 ถึงประมาณ 0.5 เปอร์เซ็นต์โดย น้ำหนัก
79. ตัวกลางส่วนประกอบเคมีสำหรับการขัดเชิงกลตามข้อถือสิทธิข้อ 76 ที่ซึ่งสารเสริม เสถียรภาพคือกรดอินทรีย์ กรดอนินทรีย์ ไนไทรล์และสารเหล่านี้ผสมกัน
80. ตัวกลางส่วนประกอบเคมีสำหรับการขัดเชิงกลตามข้อถือสิทธิข้อ 79 โดยที่สาร เสริมเสถียรภาพถูกเลือกจากกลุ่มที่ประกอบด้วย กรดฟอสฟอริก กรอพทาลิก กรดซิตริก กรด มาโลนิก กรดฟอสโฟนิก กรดออกซาลิก กรดอะดิปิก เบนโซไนไทรล์ หรือสารเหล่านี้ผสมกัน
81. ตัวกลางส่วนประกอบเคมีสำหรับการขัดเชิงกลตามข้อถือสิทธิข้อ 80 โดยที่สาร เสริมเสถียรภาพเป็นกรดมาโลนิกจากประมาณ 2 สมมูลต่อสารเร่งปฏิกิริยาถึงประมาณ 15 สมมูลต่อสารเร่งปฏิกิริยา
82. ตัวกลางสเลอรี่เคมีมีสำหรับการขัดเชิงกลที่รวมถึงตัวกลางส่วนประกอบเคมีสำหรับ การขัดเชิงกลตามข้อถือสิทธิที่ 76 และสารขัดอย่างน้อยหนึ่งตัว
83. ตัวกลางสเลอรี่เคมีสำหรับการขัดเชิงกลตามข้อถือสิทธิที่ 82 โดยที่สารขัดคือ สารขัดโลหะออกไซด์อย่างน้อยหนึ่งตัวที่ถูกเลือกจากกลุ่มที่ประกอบด้วยอลูมินา , ซีเรีย เจอร์มาเนีย, ซิลิกา, ไททาเนียม, เซอร์โคเนียหรือสารเหล่านี้ผสมกัน
84. ตัวกลางสเลอรี่เคมีสำหรับการขัดเชิงกลตามข้อถือสิทธิที่ 82 โดยที่สารขัดโลหะ ออกไซด์ คือซิลิกาจากประมาณ 1.0 ถึงประมาณ 20.0 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนัก
85. ตัวกลางสเลอรี่เคมีสำหรับการขัดเชิงกลซึ่งประกอบด้วยสารละลายในน้ำของซิลิกา จากประมาณ 3.0 ถึงประมาณ 7.0 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนัก และผลิตภัณฑ์ของของผสมของ เฟอริกไนเตรตจากประมาณ 0.01 ถึงประมาณ 0.05 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนัก และกรดมาโลนิก จากประมาณ 2 สมมูลต่อสารเร่งปฏิกิริยาถึงประมาณ 15 สมมูลต่อสารเร่งปฏิกิริยา
86. วิธีการสำหรับการขัดวัสดุที่มีชั้นโลหะอย่างน้อยหนึ่งชั้น ซึ่งประกอบด้วยขั้นตอน ของ (a) การผสมสารเร่งปฏิกิริยาอย่างน้อยหนึ่งตัวที่มีสถานะออกซิเดชันหลายสถานะ สารเสริมเสถียรภาพอย่างน้อยหนึ่งตัว และน้ำดีไอออไนซ์ เพื่อให้ได้ส่วนประกอบเคมีสำหรับ การขัดเชิงกล (b) การผสมตัวกลางส่วนประกอบเคมีสำหรับการขัดเชิงกลกับสารออกซิไดซิ่งเพื่อ ให้ได้ส่วนประกอบเคมีสำหรับการขัดเชิงกล (c) การทาส่วนประกอบเคมีสำหรับการขัดเชิงกลลงบนวัสดุ และ (d) กำจัดชั้นโลหะอย่างน้อยหนึ่งส่วนออกจากวัสดุโดยการนำแผ่นขัดมาสัมผัส กับวัสดุและถูแผ่นขัดให้สัมพันธ์กับวัสดุนั้น
87. วิธีการตามข้อถือสิทธิข้อ 86 โดยที่วัสดุนั้นรวมถึงชั้นโลหะที่มีทังสเตนอยู่ และ โดยที่อย่างน้อยส่วนหนึ่งของชั้นทังสเตนถูกกำจัดออกในขั้นตอน (d)
88. วิธีการตามข้อถือสิทธิข้อ 86 โดยที่สารเสริมเสถียรภาพ คือ กรดอินทรีย์ กรดอนินทรีย์ ไนไทรล์ หรือสารเหล่านี้ผสมกัน
89. วิธีการตามข้อถือสิทธิข้อ 88 โดยที่สารเสริมเสถียรภาพ คือ กรดมาโลนิก
90. วิธีการตามข้อถือสิทธิข้อ 86 โดยที่สารออกซิไดซิ่ง คือ ไฮโดรเจนเปอร์ออกไซด์ จากประมาณ 0.5 ถึงประมาณ 10.0 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนัก
91. วิธีการตามข้อถือสิทธิข้อ 86 โดยที่สารเร่งปฏิกิริยา คือ เฟอริกไนเตรต จาก ประมาณ 0.01 ถึงประมาณ 0.5 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนัก
92. วิธีการตามข้อถือสิทธิข้อ 86 โดยที่ตัวกลางส่วนประกอบเคมีสำหรับการขัด เชิงกล ประกอบเพิ่มเติมด้วย สารขัดโลหะออกไซด์อย่างน้อยหนึ่งตัว
93. วิธีการสำหรับการขัดวัสดุที่รวมถึงชั้นโลหะที่มีทังสเตน ประกอบด้วยขั้นตอน ของ (a) การผสมซิลิกาจากประมาณ 3.0 ถึงประมาณ 7.0 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนัก เฟอริกไนเตรต จากประมาณ 0.01 ถึงประมาณ 0.05 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนัก และกรดมาโลนิกจาก ประมาณ 2 สมมูลต่อสารเร่งปฏิกิริยา ถึงประมาณ 15 สมมูลต่อสารเร่งปฏิกิริยา เพื่อให้ได้ตัวกลาง สเลอรี่เคมีสำหรับการขัดเชิงกล (b) การผสมตัวกลางส่วนประกอบเคมีสำหรับ การขัดเชิงกลกับไฮโดรเจนเปอร์ ออกไซด์ เพื่อให้ได้สเลอรี่เคมีสำหรับการขัดเชิงกลที่มีไฮโดรเจนเปอร์ออกไซด์ จากประมาณ 0.5 ถึงประมาณ 10.0 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนัก (c) การทาสเลอรี่เคมีสำหรับการขัดเชิงกลลงบนวัสดุ และ (d) กำจัดชั้นโลหะทังสเตนอย่างน้อยหนึ่งส่วนออกจากวัสดุโดยการนำแผ่นขัดมา สัมผัสกับวัสดุ และถูกแผ่นขัดให้สัมพันธ์กับวัสดุนั้น
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| TH32621A TH32621A (th) | 1999-03-15 |
| TH16115B true TH16115B (th) | 2004-01-28 |
Family
ID=
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| DE60030444T2 (de) | Cmp-zusammensetzung enthaltend silanmodifizierte-schleifteilchen | |
| KR102320653B1 (ko) | 감소된 산화물 침식을 위한 텅스텐 화학적 기계적 연마 슬러리 | |
| US6068787A (en) | Composition and slurry useful for metal CMP | |
| JP4824909B2 (ja) | 固体に結合され、cmp処方を向上させるために使用されるフリーラジカル形成活性化剤 | |
| US7513920B2 (en) | Free radical-forming activator attached to solid and used to enhance CMP formulations | |
| KR102083819B1 (ko) | 텅스텐 화학적 기계적 연마에서 디싱 감소 | |
| JP2008306194A (ja) | 固体触媒を含むcmp研磨パッド | |
| EP1353792B1 (en) | Catalytic reactive pad for metal cmp | |
| CN1306560A (zh) | 含固体催化剂的cmp淤浆 | |
| US7186653B2 (en) | Polishing slurries and methods for chemical mechanical polishing | |
| KR101097506B1 (ko) | 산화세륨 및 콜로이드 이산화규소를 포함하는 분산액 | |
| WO2000032713A1 (en) | Stabilized slurry compositions | |
| US20240101865A1 (en) | Tungsten cmp composition including a sulfur containing anionic surfactant | |
| JP5249317B2 (ja) | 溶解性ペルオキソメタレート錯体を含むcmp組成物及びその使用方法 | |
| TH32621A (th) | ส่วนประกอบและสเลอรี่ที่เป็นประโยชน์สำหรับการขัดโลหะเชิงกลทางเคมี | |
| WO1995024054A1 (en) | Improved compositions and methods for polishing | |
| EP1622741A1 (en) | Dispersion for chemical-mechanical polishing | |
| WO2003012169A1 (fr) | Agent de formation de film de protection pour surface metallique et application associee | |
| KR100445760B1 (ko) | 금속오염이 적은 금속배선 연마용 슬러리 조성물 | |
| TH32728A (th) | สเลอร์รี่ที่ใช้ขัดทางเคมีซึ่งรวมถึงสารเสริมฟลูออไรด์ | |
| HK1022661B (en) | A composition and slurry useful for metal cmp |