Claims (93)
1. ส่วนประกอบเคมีสำหรับการขัดเชิงกลที่ประกอบด้วยการผสมที่เสริมฤทธิ์กันของ สารออกซิไดซิ่งอย่างน้อยหนึ่งตัว และ สารเร่งปฏิกิริยาอย่างน้อยหนึ่งตัวที่มีสถานะออกซิเดชันหลายสถานะ1. A chemical composition for mechanical polishing consisting of a synergistic mixture of at least one oxidizing agent and at least one catalyst with multiple oxidation states.
2. สเลอรี่เคมีสำหรับการขัดเชิงกลที่ประกอบด้วยส่วนประกอบเคมีสำหรับการขัด เชิงกลตามข้อถือสิทธิที่ 1 และสารขัดอย่างน้อยหนึ่งตัว2. A chemical slurry for mechanical abrasiveness consisting of a chemical component for mechanical abrasiveness as per claim 1 and at least one abrasive.
3. ส่วนประกอบเคมีสำหรับการขัดเชิงกลตามข้อถือสิทธิที่ 1 โดยที่สารออกซิไดซิ่งมี ศักย์เคมีไฟฟ้ามากกว่าศักย์เคมีไฟฟ้าที่จำเป็นต้องใช้ในการออกซิไดซ์สารเร่งปฏิกิริยา3. Chemical composition for mechanical polishing according to claim 1, where the oxidizing agent has an electrochemical potential greater than the electrochemical potential required to oxidize the catalyst.
4. ส่วนประกอบเคมีสำหรับการขัดเชิงกลตามข้อถือสิทธิที่ 3 โดยที่สารออกซิไดซิ่ง คือ สารประกอบเปอร์อินทรีย์, สารประกอบเปอร์อนินทรีย์, สารประกอบที่ไม่ใช่สารประกอบ เปอร์หรือสารเหล่านี้ผสมกัน4. Chemical composition for mechanical abrasives under claim 3, where the oxidizing agent is an organic per-compound, an inorganic per-compound, a non-per-compound, or a mixture of these.
5. ส่วนประกอบเคมีสำหรับการขัดเชิงกลตามข้อถือสิทธิที่ 4 โดยที่สารออกซิไดซิ่ง คือ โมโนเปอร์ซัลเฟต. เปอร์ซัลเฟต, เปอร์ออกไซด์, เปอร์ไอโอเตตหรือสารเหล่านี้ผสมกัน5. Chemical composition for mechanical abrasives according to claim 4, where the oxidizing agent is monopersulfate, persulfate, peroxide, periotate, or a mixture of these.
6. ส่วนประกอบเคมีสำหรับการขัดเชิงกลตามข้อถือสิทธิที่ 5 โดยที่สารออกซิไดซิ่ง รวมถึงโมโนเปอร์ซัลเฟตอย่างน้อยหนึ่งตัวที่มีสูตร (สูตรเคมี) โดยที่ X1 และ X2 แต่ละตัวคือ H, Si(R')3, NH4, N(R'')4 และโลหะอัลคาไลเอิร์ธ เช่น Li, Na, K; โดยที่ R' คือหมู่อัลคิลที่มีคาร์บอนตั้งแต่ 1 ถึง 10 อะตอมหรือมากกว่า และโดย ที่ R'' คือ H, หมู่อัลคิล, หมู่เอริล หรือสารเหล่านี้ผสมกัน6. Chemical composition for mechanical polishing according to claim 5, whereby the oxidizing agent includes at least one monopersulfate with the formula (chemical formula) where each X1 and X2 is H, Si(R')3, NH4, N(R'')4 and an alkali earth metal such as Li, Na, K; where R' is an alkyl group with 1 to 10 or more carbon atoms, and where R'' is H, an alkyl group, an aryl group, or a mixture of these.
7. ส่วนประกอบเคมีสำหรับการขัดเชิงกลตามข้อถือสิทธิที่ 6 ที่มีโมโนเปอร์ซัลเฟต จากประมาณ 0.5 ถึงประมาณ 20 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนัก7. Chemical composition for mechanical abrasives under claim 6 containing monopersulfate from approximately 0.5 to approximately 20 percent by weight.
8. ส่วนประกอบเคมีสำหรับการขัดเชิงกลตามข้อถือสิทธิที่ 6 โดยมี 2KHSO5,KHSO4,K2SO4 จากประมาณ 1 ถึงประมาณ 20 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนัก8. Chemical composition for mechanical abrasives according to claim 6, containing 2KHSO5, KHSO4, K2SO4 from approximately 1 to approximately 20 percent by weight.
9. ส่วนประกอบเคมีสำหรับการขัดเชิงกลตามข้อถือสิทธิที่ 5 โดยที่สารออกซิไดซิ่งคือ ไฮโดรเจนเปอร์ออกไซด์9. Chemical composition for mechanical polishing according to claim 5, where the oxidizing agent is hydrogen peroxide.
10. ส่วนประกอบเคมีสำหรับการขัดเชิงกลตามข้อถือสิทธิที่ 9 จะมีส่วนที่เป็น ไฮโดรเจนเปอร์ออกไซด์ จากประมาณ 0.1 ถึง ประมาณ 50 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนัก10. The chemical composition for the mechanical abrasive under claim 9 shall contain hydrogen peroxide ranging from approximately 0.1 to approximately 50 percent by weight.
11. ส่วนประกอบเคมีสำหรับการขัดเชิงกลตามข้อถือสิทธิที่ 9 จะมีส่วนที่เป็น ไฮโดรเจนเปอร์ออกไซด์ จากประมาณ 1.0 ถึง ประมาณ 10 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนัก11. The chemical composition for the mechanical abrasive under claim 9 shall contain hydrogen peroxide ranging from approximately 1.0 to approximately 10 percent by weight.
12. ส่วนประกอบเคมีสำหรับการขัดเชิงกลตามข้อถือสิทธิที่ 1 โดยที่สารเร่ง ปฏิกิริยาคือ สารประกอบโลหะ12. Chemical composition for mechanical polishing according to claim 1, where the catalyst is a metallic compound.
13. ส่วนประกอบเคมีสำหรับการขัดเชิงกลตามข้อถือสิทธิที่ 12 โดยที่สาร เร่งปฏิกิริยา คือ สารประกอบโลหะของ Ag, Co, Cr, Cu, Fe, Mo, Mn, Nb, Ni, Os, Pd, Ru, Sn, Ti, V และสารเหล่านี้ผสมกัน โดยมีสถานะออกซิเดชันหลายสถานะ13. Chemical composition for mechanical polishing according to claim 12, where the catalyst is a metallic compound of Ag, Co, Cr, Cu, Fe, Mo, Mn, Nb, Ni, Os, Pd, Ru, Sn, Ti, V and these compounds are mixed together with multiple oxidation states.
14. ส่วนประกอบเคมีสำหรับการขัดเชิงกลตามข้อถือสิทธิที่ 13 โดยที่สาร เร่งปฏิกิยาคือ สารประกอบของเหล็ก, ทองแดง, เงิน หรือสารเหล่านี้ใด, ผสมกัน โดยมีสถานะ ออกซิเดชันหลายสถานะ14. The chemical composition for the mechanical polishing according to claim 13, where the catalyst is a compound of iron, copper, silver, or any of these, mixed together in multiple oxidation states.
15. ส่วนประกอบเคมีสำหรับการขัดเชิงกลตามข้อถือสิทธิที่ 14 โดยที่สาร เร่งปฏิกิริยา คือ สารประกอบเร่งปฏิกิริยาเหล็กที่เลือกจากกลุ่มที่ประกอบด้วย สารประกอบ อนินทรีย์ของเหล็ก และสารประกอบอินทรีย์ของเหล็ก โดยที่มีสถานะการออกซิเดชันหลายสถานะ15. Chemical composition for mechanical polishing according to claim 14, where the catalyst is a selected iron catalyst from a group consisting of inorganic iron compounds and organic iron compounds with multiple oxidation states.
16. ส่วนประกอบเคมีสำหรับการขัดเชิงกลตามข้อถือสิทธิที่ 15 โดยที่สาร เร่งปฏิกิริยาเหล็กคือ เฟอริกไนเตรด16. Chemical composition for mechanical polishing according to claim 15, where the iron catalyst is ferric nitrate.
17. ส่วนประกอบเคมีสำหรับการขัดเชิงกลตามข้อถือสิทธิที่ 14 โดยที่สาร เร่งปฏิกิริยาคือ สารเร่งปฏิกิริยาทองแดงที่เลือกจากกลุ่มที่ประกอบด้วย สารประกอบอนินทรีย์ของ ทองแดง และสารประกอบอินทรีย์ของทองแดง17. Chemical composition for mechanical polishing according to claim 14, where the catalyst is a copper catalyst selected from a group consisting of inorganic copper compounds and organic copper compounds.
18. ส่วนประกอบเคมีสำหรับการขัดเชิงกลตามข้อถือสิทธิที่ 17 โดยที่สาร เร่งปฏิกิยา คือ คอปเปอร์ไนเตรต18. Chemical composition for mechanical polishing according to claim 17, where the catalyst is copper nitrate.
19. ส่วนประกอบเคมีสำหรับการขัดเชิงกลตามข้อถือสิทธิที่ 14 โดยที่สาร เร่งปฏิกิยา คือ การผสมของสารประกอบทองแดง และสารประกอบเหล็ก19. Chemical composition for mechanical polishing according to claim 14, where the catalyst is a mixture of copper compounds and iron compounds.
20. ส่วนประกอบเคมีสำหรับการขัดเชิงกลตามข้อถือสิทธิที่ 1 โดยที่สาร เร่งปฏิกิยาจากประมาณ 0.001 ถึง ประมาณ 2.0 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนัก20. Chemical composition for mechanical polishing according to claim 1, where the catalyst is approximately 0.001 to approximately 2.0 percent by weight.
21. ส่วนประกอบเคมีสำหรับการขัดเชิงกลตามข้อถือสิทธิที่ 20 โดยที่สาร เร่งปฏิกิยาจากประมาณ 0.005 ถึง ประมาณ 2.0 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนัก21. Chemical composition for mechanical polishing according to claim 20, where the catalyst is approximately 0.005 to approximately 2.0 percent by weight.
22. ส่วนประกอบเคมีสำหรับการขัดเชิงกลตามข้อถือสิทธิที่ 1 โดยที่สารออกซิไดซิ่งคือ ไฮโดรเจนเปอร์ออกไซด์ และสารเร่งปฏิกิริยาคือสารเร่งปฏิกิริยาเหล็กจากประมาณ 0.01 ถึง ประมาณ 0.5 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนัก22. Chemical composition for mechanical polishing according to claim 1, where the oxidizing agent is hydrogen peroxide and the catalyst is iron catalyst from approximately 0.01 to approximately 0.5 percent by weight.
23. ส่วนประกอบเคมีสำหรับการขัดเชิงกลตามข้อถือสิทธิที่ 1 โดยที่สารออกซิไดซิ่งคือ โมโนเปอร์ซัลเฟต และโดยที่สารเร่งปฏิกิริยาคือสารเร่งปฏิกิริยาเหล็กจากประมาณ 0.05 ถึง ประมาณ 1.0 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนัก23. Chemical composition for mechanical polishing according to claim 1, where the oxidizing agent is monopersulfate and the catalyst is iron catalyst from approximately 0.05 to approximately 1.0 percent by weight.
24. สเลอรี่เคมีสำหรับการขัดเชิงกลซึ่งประกอบด้วย สารขัด สารเร่งปฏิกิริยาเฟอริกไนเตรด และ สารออกซิไดซิ่งจากประมาณ 1.0 ถึงประมาณ 10.0 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนักที่เลือก จากกลุ่มที่ประกอบด้วยไฮโดรเจนเปอร์ออกไซด์และโมโนเปอร์ซัลเฟตโดยที่เมื่อสารออกซิไดซิ่ง คือไฮโดรเจนเปอร์ออกไซด์แล้วสเลอรี่จะรวมเอาสารเร่งปฏิกิริยาเฟอริกไนเตรตไว้จากประมาณ 0.01 ถึงประมาณ 0.05 เปอรเซ็นต์โดยน้ำหนัก และเมื่อสารออกซิไดซ์ซึ่งคือโมโนเปอร์ซัลเฟต แล้วสเลอรี่จะรวมเอาสารเร่งปฏิกิริยาเฟอริกไนเตรตไว้จากประมาณ 0.1 ถึงประมาณ 0.5 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนัก24. Chemical slurry for mechanical polishing consisting of an abrasive, a ferric nitrate catalyst, and an oxidizing agent of approximately 1.0 to approximately 10.0 percent by weight selected from groups containing hydrogen peroxide and monopersulfate. Where the oxidizing agent is hydrogen peroxide, the slurry includes ferric nitrate catalyst of approximately 0.01 to approximately 0.05 percent by weight; and where the oxidizing agent is monopersulfate, the slurry includes ferric nitrate catalyst of approximately 0.1 to approximately 0.5 percent by weight.
25. สเลอรี่เคมีสำหรับการขัดเชิงกลตามข้อถือสิทธิที่ 24 ซึ่งสารขัดคือโลหะออกไซด์ อย่างน้อยหนึ่งตัว25. A chemical slurry for mechanical abrasives pursuant to claim 24, where the abrasive is at least one metal oxide.
26. สเลอรี่เคมีสำหรับการขัดเชิงกลตามข้อถือสิทธิที่ 25 โดยที่สารขัดโลหะออกไซด์ถูก เลือกจากกลุ่มที่ประกอบด้วยอลูมินา, ซีเรีย, เจอร์มาเนีย, ซิลิกา, ไททาเนีย, เซอร์โคเนีย และ สารเหล่านี้ผสมกัน26. Chemical slurry for mechanical polishing according to claim 25, where the metal oxide abrasive is selected from a group consisting of alumina, ceria, germanium, silica, titania, zirconia, and mixtures of these substances.
27. สเลอรี่เคมีสำหรับการขัดเชิงกลตามข้อถือสิทธิที่ 24 ซึ่งสารขัดคือการกระจายตัว ในน้ำของโลหะออกไซด์27. Chemical slurry for mechanical polishing according to claim 24, where the abrasive is an aqueous dispersion of metal oxides.
28. สเลอรี่เคมีสำหรับการขัดเชิงกลตามข้อถือสิทธิที่ 25 โดยที่สารขัดโลหะออกไซด์ ประกอบด้วยการรวมกลุ่มโลหะออกไซด์ที่มีการกระจายตัวของขนาดประมาณ 1.0 ไมครอน และเส้นผ่าศูนย์กลางเฉลี่ยของการรวมกลุ่มน้อยกว่า 0.4 ไมครอน28. A chemical slurry for mechanical polishing pursuant to claim 25 where the metal oxide abrasive consists of metal oxide aggregates with a size distribution of approximately 1.0 micron and an average aggregate diameter of less than 0.4 micron.
29. สเลอรี่เคมีสำหรับการขัดเชิงกลตามข้อถือสิทธิที่ 25 โดยที่สารขัดโลหะออกไซด์ ประกอบด้วยทรงกลมของโลหะออกไซด์ที่แยกออกจากกัน โดยมีเส้นผ่าศูนย์กลางอนุภาค ปฐมภูนิน้อยกว่า 0.400 ไมครอน และพื้นที่ผิวจากช่วงประมาณ 10 ตารางเมตร/กรัมถึง ประมาณ 250 ตารางเมตร/กรัม29. Chemical slurry for mechanical abrasives according to claim 25, where the metal oxide abrasive consists of separated metal oxide spheres with a primary particle diameter less than 0.400 microns and a surface area ranging from approximately 10 m²/g to approximately 250 m²/g.
30. สเลอรี่เคมีสำหรับการขัดเชิงกลตามข้อถือสิทธิที่ 24 โดยที่สารขัดมีพื้นที่ผิวจาก ช่วงประมาณ 5 ตารางเมตร/กรัมถึงประมาณ 430 ตารางเมตร/กรัม30. Chemical slurry for mechanical abrasives according to claim 24, where the abrasive has a surface area ranging from approximately 5 m²/g to approximately 430 m²/g.
31. สเลอรี่เคมีสำหรับการขัดเชิงกลตามข้อถือสิทธิที่ 30 โดยที่สารขัดมีพื้นที่ผิวจาก ช่วงประมาณ 30 ตารางเมตร/กรัมถึงประมาณ 170 ตารางเมตร/กรัม31. Chemical slurries for mechanical abrasives under claim 30, where the abrasive has a surface area ranging from approximately 30 m²/g to approximately 170 m²/g.
32. สเลอรี่เคมีสำหรับการขัดเชิงกลตามข้อถือสิทธิที่ 24 โดยที่สารขัดคือสารขัดตก ตะกอนหรือสารขัดฟูม32. Chemical slurry for mechanical abrasives under claim 24, where the abrasive is a precipitating abrasive or a fuming abrasive.
33. สเลอรี่เคมีสำหรับการขัดเชิงกลตามข้อถือสิทธิที่ 24 ซึ่งสารขัดคือซิลิกา33. A chemical slurry for mechanical abrasivement according to claim 24, where the abrasive is silica.
34. สเลอรี่เคมีสำหรับการขัดเชิงกลตามข้อถือสิทธิที่ 24 ซึ่งสารขัดคือซิลิกาฟูม34. Chemical slurry for mechanical abrasives according to claim 24, where the abrasive is silica fume.
35. สเลอรี่เคมีสำหรับการขัดเชิงกลซึ่งประกอบด้วย ซิลิกาจากประมาณ 1.0 ถึงประมาณ 15.0 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนัก สารเร่งปฏิกิริยาเฟอริกไนเตรตจากประมาณ 0.1 ถึงประมาณ 0.5 เปอร์เซ็นต์โดย น้ำหนัก และ โมโนเปอร์ซัลเฟตจากประมาณ 1.0 ถึงประมาณ 10.0 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนัก35. Chemical slurries for mechanical polishing containing silica from approximately 1.0 to approximately 15.0 percent by weight, ferric nitrate catalyst from approximately 0.1 to approximately 0.5 percent by weight, and monopersulfate from approximately 1.0 to approximately 10.0 percent by weight.
36. สเลอรี่เคมีสำหรับการขัดเชิงกลซึ่งประกอบด้วย ซิลิกาจากประมาณ 1.0 ถึงประมาณ 15.0 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนัก สารเร่งปฏิกิริยาเฟอริกไนเตรตจากประมาณ 0.01 ถึงประมาณ 0.05 เปอร์เซ็นต์ โดยน้ำหนัก ไฮโดรเจนเปอร์ออกไซด์จากประมาณ 1.0 ถึงประมาณ 10.0 เปอร์เซ็นต์โดย น้ำหนัก36. Chemical slurry for mechanical polishing containing silica from approximately 1.0 to approximately 15.0 percent by weight, ferric nitrate catalyst from approximately 0.01 to approximately 0.05 percent by weight, and hydrogen peroxide from approximately 1.0 to approximately 10.0 percent by weight.
37. วิธีการสำหรับการขัดวัสดุที่มีชั้นโลหะอย่างน้อยหนึ่งชั้น ซึ่งประกอบด้วยขั้นตอน ของ (a) การผสมสารขัดอย่างน้อยหนึ่งตัว สารออกซิไดซิ่งอย่างน้อยหนึ่งตัว สารเร่ง ปฏิกิริยาอย่างน้อยหนึ่งตัวที่มีสถานะออกซิเดชันหลายสถานะ และน้ำดีไอออไนซ์ เพื่อให้ได้ สเลอรี่เคมีสำหรับการขัดเชิงกล (b) การทาสเลอรี่เคมีสำหรับการขัดเชิงกลลงบนวัสดุ และ (c) กำจัดชั้นโลหะอย่างน้อยหนึ่งส่วนออกจากวัสดุโดยการนำแผ่นขัดมาสัมผัสกับวัสดุ และถูแผ่นขัดให้สัมพันธ์กับวัสดุนั้น37. A method for polishing materials containing at least one metallic layer, consisting of the following steps: (a) mixing at least one abrasive, at least one oxidizing agent, at least one catalyst of multiple oxidation states, and deionizing water to obtain a mechanical polishing chemical slurry; (b) applying the mechanical polishing chemical slurry to the material; and (c) removing at least one metallic layer from the material by bringing the abrasive pad into contact with the material and rubbing the pad relative to the material.
38. วิธีการตามข้อถือสิทธิข้อ 37 โดยที่วัสดุนั้นรวมถึงชั้นโลหะที่มีทังสเตนอยู่ โดยที่ อย่างน้อยส่วนหนึ่งของชั้นทังสเตนถูกกำจัดออกในขั้นตอน (c)38. The method under claim 37 where the material includes a metal layer containing tungsten, where at least part of the tungsten layer is removed in step (c).
39. วิธีการตามข้อถือสิทธิข้อ 38 โดยที่วัสดุนั้นยังรวมถึงชั้นโลหะที่มีไทเทเนียม และ/หรือไททาเนียมไนไทรด์ โดยที่อย่างน้อยส่วนหนึ่งของชั้นไททาเนียมไนไทรล์ถูกกำจัดออก ในขั้นตอน (c)39. The method under claim 38 where the material includes a layer of titanium and/or titanium nitride, where at least part of the titanium nitride layer is removed in step (c).
40. วิธีการตามข้อถือสิทธิข้อ 38 โดยที่สารเร่งปฏิกิริยาถูกเลือกจากกลุ่มของสาร ประกอบอนินทรีย์ของเหล็ก และสารประกอบอินทรีย์ของเหล็ก40. The method pursuant to claim 38, whereby the catalyst is selected from the group of inorganic iron compounds and organic iron compounds.
41. วิธีการตามข้อถือสิทธิข้อ 40 โดยที่สารเร่งปฏิกิริยาคือเฟอริกไนเตรต41. Method pursuant to claim 40, where the catalyst is ferric nitrate.
42. วิธีการตามข้อถือสิทธิข้อ 41 โดยที่สารเร่งปฏิกิริยาเฟอริกไนเตรตจะมีอยู่ในสเลอรี่ ในปริมาณช่วงจากประมาณ 0.001 ถึงประมาณ 2.0 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนัก42. The method pursuant to claim 41, whereby ferric nitrate catalyst is present in the slurry in amounts ranging from approximately 0.001 to approximately 2.0 percent by weight.
43. วิธีการตามข้อถือสิทธิข้อ 37 โดยที่สารเร่งปฏิกิริยาถูกเลือกจากกลุ่มของสาร ประกอบอนินทรีย์ของทองแดง และสารประกอบอินทรีย์ของทองแดง43. The method pursuant to claim 37, whereby the catalyst is selected from the group of inorganic copper compounds and organic copper compounds.
44. วิธีการตามข้อถือสิทธิข้อ 37 ซึ่งสารขัดคือโลหะออกไซต์44. Method pursuant to claim 37, where the abrasive is metal oxide.
45. วิธีการตามข้อถือสิทธิข้อ 44 โดยที่สารขัดโลหะออกไซด์ถูกเลือกจากกลุ่มที่ ประกอบด้วยอลูมินา , ซีเรีย, เจอร์มาเนีย, ซิลิกา, ไททาเนีย, เซอร์โคเนียและสารเหล่านี้ผสมกัน45. The method pursuant to claim 44, whereby a metal oxide abrasive is selected from a group consisting of alumina, ceria, germanium, silica, titania, zirconia and a mixture of these.
46. วิธีการตามข้อถือสิทธิข้อ 37 ซึ่งสารขัดคือการกระจายตัวในน้ำของโลหะ ออกไซด์46. The method under claim 37, whereby the abrasive is a water dispersion of metal oxides.
47. วิธีการตามข้อถือสิทธิข้อ 37 โดยที่สารขัดถูกเลือกจากกลุ่มที่ประกอบด้วยอลูมินา ตกตะกอน อลูมินาฟูม ซิลิกาตกตะกอน ซิลิกาฟูม และสารเหล่านี้ผสมกัน47. The method under claim 37 whereby an abrasive is selected from a group consisting of precipitated alumina, alumina fume, precipitated silica, silica fume, and a mixture of these substances.
48. วิธีการตามข้อถือสิทธิข้อ 37 โดยที่สารขัดคือซิลิกา48. Method pursuant to claim 37, where the abrasive is silica.
49. วิธีการสำหรับการขัดวัสดุที่มีชั้นทังสเตน ประกอบด้วย (a) การผสมซิลิกาจากประมาณ 1.0 ถึงประมาณ 15.0 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนัก สารเร่ง ปฏิกิริยาเฟอริกไนเตรตจากประมาณ 0.001 ถึงประมาณ 2.0 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนัก สาร ออกซิไดซิ่งจากประมาณ 2.0 ถึงประมาณ 10 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนักที่ถูกเลือกจากกลุ่ม ที่ประกอบด้วยไฮโดรเจนเปอร์ออกไซด์ โมโนเปอร์ซัลเฟต และสารเหล่านี้ผสมกัน และน้ำ ดีไอออไนซ์เพื่อให้ได้สารเคมีสำหรับการขัดเชิงกล (b) การทาสเลอรี่เคมีสำหรับการขัดเชิงกลลงบนวัสดุ และ (c) การกำจัดชั้นทังสเตนอย่างน้อยหนึ่งส่วน โดยการนำแผ่นขัดมาสัมผัสกับวัสดุและถู แผ่นขัดให้สัมพันธ์กับวัสดุ49. The method for polishing materials containing a tungsten layer consists of (a) mixing silica from approximately 1.0 to approximately 15.0 percent by weight, a ferric nitrate catalyst from approximately 0.001 to approximately 2.0 percent by weight, an oxidizing agent from approximately 2.0 to approximately 10 percent by weight selected from the group containing hydrogen peroxide, monopersulfate, and these substances are mixed with deionizing water to obtain a chemical for mechanical polishing; (b) applying the chemical for mechanical polishing slurry to the material; and (c) removing at least one portion of the tungsten layer by bringing an abrasive pad into contact with the material and rubbing the pad relative to the material.
50. ส่วนประกอบเคมีสำหรับการขัดเชิงกลที่ประกอบด้วยการสผสมของ องค์ประกอบ (component) ที่หนึ่งที่มีสารออกซิไดซ์ซิ่งย่างน้อยหนึ่งต้ว และ องค์ประกอบ (component) ที่สองที่มีผลิตภัณฑ์ของผสมของสารเร่งปฏิกิริยา อย่างน้อยหนึ่งตัวที่มีสถานะออกซิเดชันหลายสถานะ และสารเสริมเสถียรภาพอย่างน้อยหนึ่งตัว50. A chemical composition for mechanical polishing consisting of a mixture of a first component containing at least one oxidizing agent and a second component containing a mixture of at least one catalyst product with multiple oxidation states and at least one stabilizer.
51. ส่วนประกอบเคมีสำหรับการขัดเชิงกลตามข้อถือสิทธิข้อ 50 ที่ซึ่งสารเสริม เสถียรภาพคือกรดอินทรีย์ กรดอนินทรีย์ ไนไทรล์หรือสารเหล่านี้ผสมกัน51. Chemical composition for mechanical polishing under claim 50 where the stabilizer is an organic acid, inorganic acid, nitrile, or a mixture of these.
52. ส่วนประกอบเคมีสำหรับการขัดเชิงกลตามข้อถือสิทธิข้อ 50 ที่ซึ่งสารเสริม เสถียรภาพคือกรดอินทรีย์52. Chemical composition for mechanical polishing according to claim 50, where the stabilizer is an organic acid.
53. ส่วนประกอบเคมีสำหรับการขัดเชิงกลตามข้อถือสิทธิข้อ 51 โดยที่สารเสริม เสถียรภาพถูกเลือกจากกลุ่มที่ประกอบด้วย กรดฟอสฟอริก กรดพทาลิก กรดซิตริก กรด มาโลนิก กรดฟอสโฟนิก กรดออกซาลิก กรดอะดิปิด เบนโซไนไทรล์ หรือสารเหล่านี้ผสมกัน53. Chemical composition for mechanical polishing according to claim 51, whereby a stabilizer is selected from a group containing phosphoric acid, phthalic acid, citric acid, malonic acid, phosphonic acid, oxalic acid, adipide acid, benzonitrile, or a mixture of these.
54. ส่วนประกอบเคมีสำหรับการขัดเชิงกลตามข้อถือสิทธิข้อ 53 โดยที่สารเสริม เสถียรภาพเป็นของผสมของกรดออกซาลิกจากประมาณ 0 สมมูลต่อสารเร่งปฏิกิริยาถึง ประมาณ 3 สมมูลต่อสารเร่งปฏิกิริยา และกรดอะติปิกจากประมาณ 0.2 ถึงประมาณ 1.0 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนัก54. Chemical composition for mechanical polishing according to claim 53, whereby the stabilizer is a mixture of oxalic acid from approximately 0 equivalent to catalyst to approximately 3 equivalent to catalyst and atipic acid from approximately 0.2 to approximately 1.0 percent by weight.
55. ส่วนประกอบเคมีสำหรับการขัดเชิงกลตามข้อถือสิทธิข้อ 53 โดยที่สารเสริม เสถียรภาพเป็นกรดมาโลนิกจากประมาณ 2 สมมูลต่อสารเร่งปฏิกิริยาถึงประมาณ 15 สมมูลต่อ สารเร่งปฏิกิริยา55. Chemical composition for mechanical polishing according to claim 53, whereby the stabilizer is malonic acid from approximately 2 equivalents to the catalyst to approximately 15 equivalents to the catalyst.
56. ส่วนประกอบเคมีสำหรับการขัดเชิงกลตามข้อถือสิทธิข้อ 53 โดยที่สารเสริม เสถียรภาพเป็นกรดพทาลิกจากประมาณ 3 สมมูลต่อสารเร่งปฏิกิริยาถึงประมาณ 3.0 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนัก56. Chemical composition for mechanical polishing according to claim 53, whereby the stabilizer is phthalic acid from approximately 3 equivalents to the catalyst to approximately 3.0 percent by weight.
57. ส่วนประกอบเคมีสำหรับการขัดเชิงกลตามข้อถือสิทธิข้อ 50 โดยที่สารออกซิไดซิ่ง คือ สารประกอบเปอร์ออกไซด์อินทรีย์, สารประกอบเปอร์ออกไซด์อนินทรีย์หรือสารเหล่านี้ ผสมกัน57. Chemical composition for mechanical abrasives under claim 50, where the oxidizing agent is an organic peroxide compound, an inorganic peroxide compound, or a mixture of these.
58. ส่วนประกอบเคมีสำหรับการขัดเชิงกลตามข้อถือสิทธิข้อ 50 โดยที่สารออกซิไดซิ่ง คือไฮโดรเจนเปอร์ออกไซด์จากประมาณ 0.5 ถึงประมาณ 10 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนัก58. Chemical composition for mechanical polishing according to claim 50, where the oxidizing agent is hydrogen peroxide from approximately 0.5 to approximately 10 percent by weight.
59. ส่วนประกอบเคมีเชิงกลตามข้อถือสิทธิข้อ 50 ที่มีสารขัดอย่างน้อยหนึ่งตัวเพื่อ ผลิตสเลอรี่เคมีสำหรับการขัดเชิงกล59. A chemical mechanical compound pursuant to claim 50 containing at least one abrasive to produce a chemical slurry for mechanical polishing.
60. สเลอรี่เคมีสำหรับการขัดเชิงกลตามข้อถือสิทธิที่ 59 ที่ซึ่งสารขัดคือสารขัดโลหะ ออกไซด์อย่างน้อยหนึ่งตัวที่ถูกเลือกจากกลุ่มที่ประกอบด้วยอลูมินา, ซีเรีย, เจอร์มาเนีย, ซิลิกา , ไททาเนีย, เซอร์โคเนียหรือสารเหล่านี้ผสมกัน60. Chemical slurry for mechanical polishing according to claim 59, where the abrasive is a metal abrasive, at least one oxide selected from the group consisting of alumina, ceria, germanium, silica, titania, zirconia, or a mixture of these.
61. สเลอรี่เคมีสำหรับการขัดเชิงกลตามข้อถือสิทธิที่ 60 โดยที่สารขัดโลหะออกไซด์ คืออลูมินาจากประมาณ 1.0 ถึงประมาณ 20.0 เปอร์เซ็นตโดยน้ำหนัก61. Chemical slurry for mechanical polishing according to claim 60, where the abrasive is alumina from approximately 1.0 to approximately 20.0 percent by weight.
62. ส่วนประกอบเคมีเชิงกลตามข้อถือสิทธิข้อ 50 โดยที่สารเร่งปฏิกิริยาคือสารเร่ง ปฏิกิริยาเหล็กที่เลือกจากกลุ่มที่ประกอบด้วยสารประกอบอนินทรีย์ของเหล็ก และสารประกอบ อินทรีย์ของเหล็ก โดยที่มีสถานะการออกซิเดชันหลายสถานะ62. Chemical and mechanical composition according to claim 50, whereby the catalyst is an iron catalyst selected from a group of inorganic iron compounds and organic iron compounds with multiple oxidation states.
63. ส่วนประกอบเคมีเชิงกลตามข้อถือสิทธิข้อ 62 โดยที่สารเร่งปฏิกิริยาเหล็กคือ เฟอริกไนเตรต จากประมาณ 0.01 ถึงประมาณ 0.5 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนัก63. Chemical and mechanical composition as per claim 62, where the iron catalyst is ferric nitrate, from approximately 0.01 to approximately 0.5 percent by weight.
64. สเลอรี่เคมีสำหรับการขัดเชิงกลซึ่งประกอบด้วย ซิลิกาจากประมาณ 3.0 ถึงประมาณ 7.0 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนัก ไฮโดรเจนเปอร์ออกไซด์จากประมาณ 0.5 ถึงประมาณ 10.0 เปอร์เซ็นต์โดย น้ำหนัก และ ผลิตภัณฑ์ของของผสมของสารเร่งปฏิกิริยาเฟอริกไนเตรตจากประมาณ 0.01 ถึง ประมาณ 0.05 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนัก และกรดมาโลนิกจากประมาณ 2 สมมูลต่อสารเร่ง ปฏิกิริยาถึงประมาณ 15 สมมูลต่อสารเร่งปฏิกิริยา64. Chemical slurries for mechanical polishing consisting of silica from approximately 3.0 to approximately 7.0 percent by weight, hydrogen peroxide from approximately 0.5 to approximately 10.0 percent by weight, and a product of a mixture of catalysts including ferric nitrate from approximately 0.01 to approximately 0.05 percent by weight, and malonic acid from approximately 2 equivalents to the catalyst to approximately 15 equivalents to the catalyst.
65. สเลอรี่เคมีสำหรับการขัดเชิงกลตามข้อถือสิทธิที่ 64 โดยที่ซิลิกามีพื้นที่ผิวระหว่าง ประมาณ 120 ตารางเมตร/กรัมถึงประมาณ 200 ตารางเมตร/กรัม65. Chemical slurry for mechanical abrasives according to claim 64, where silica has a surface area between approximately 120 m²/g and approximately 200 m²/g.
66. วิธีการสำหรับการขัดวัสดุที่มีชั้นโลหะอย่างน้อยหนึ่งชั้น ซึ่งประกอบด้วยขั้นตอน ของ (a) การเตรียมของผสมขององค์ประกอบที่หนึ่งที่มีสารออกซิไดซิ่งอย่างน้อยหนึ่งตัว และองค์ประกอบที่สองที่มีผลิตภัณฑ์ของของผสมของสารสารเร่งปฏิกิริยาอย่างน้อยหนึ่งตัวที่มี สถานะออกซิเดชันหลายสถานะและสารเสริมเสถียรภาพอย่างน้อยหนึ่งตัวและน้ำดีไอออไนซ์ เพื่อให้ได้ส่วนประกอบเคมีสำหรับการขัดเชิงกล (b) การทาส่วนประกอบเคมีสำหรับการขัดเชิงกลลงบนวัสดุ และ (c) กำจัดชั้นโลหะอย่างน้อยหนึ่งส่วนออกจากวัสดุโดยการนำแผ่นขัดมาสัมผัสกับวัสดุ และถูแผ่นขัดให้สัมพันธ์กับวัสดุนั้น66. A method for polishing materials with at least one metallic layer, consisting of the following steps: (a) preparation of a mixture of the first component containing at least one oxidizing agent and the second component containing the product of a mixture of at least one catalytic agent with multiple oxidation states and at least one stabilizer and deionizing water to obtain a chemical composition for mechanical polishing; (b) application of the chemical composition for mechanical polishing to the material; and (c) removal of at least one metallic layer from the material by bringing the abrasive pad into contact with the material and rubbing the pad relative to the material.
67. วิธีการตามข้อถือสิทธิที่ 66 โดยที่วัสดุนั้นรวมถึงชั้นโลหะที่มีทังสเตนอยู่ และ ชั้นโลหะที่มีไททาเนียมไนไทรด์ และโดยที่อย่างน้อยส่วนหนึ่งของชั้นทังสเตน และส่วนหนึ่งของ ชั้นไทเทเนียมไนไทรด์ถูกกำจัดออกในขั้นตอน (c)67. The method under claim 66 where the material includes a tungsten-containing layer and a titanium nitride-containing layer, and where at least part of the tungsten layer and part of the titanium nitride layer are removed in step (c).
68. วิธีการตามข้อถือสิทธิ 66 ที่ซึ่งสารเสริมเสถียรภาพ คือ กรดอินทรีย์, กรด อนินทรีย์, ไนไทรล์ สารเหล่านี้ผสมกัน68. The method under claim 66, in which stabilizers, namely organic acids, inorganic acids, and nitriles, are mixed.
69. วิธีการตามข้อถือสิทธิ 66 ที่ซึ่งสารเสริมเสถียรภาพ คือ กรดอินทรีย์ ถูกเลือก จากกลุ่มที่ประกอบด้วย กรดฟอสฟอริก, กรดพทาลิก, กรดซิตริก, กรดมาโลนิก, กรดฟอสโฟนิก, กรดออกซาลิก, กรดอะดิปิก, เบนโซไนไทรล์, หรือสารเหล่านี้ผสมกัน69. The method pursuant to claim 66, whereby an organic acid stabilizer is selected from a group consisting of phosphoric acid, phthalic acid, citric acid, malonic acid, phosphonic acid, oxalic acid, adipic acid, benzonitrile, or a mixture of these.
70. วิธีการตามข้อถือสิทธิ 69 โดยที่สารเสริมเสถียรภาพถูกเลือกจากของผสมของ กรดออกซาลิกจากประมาณ 0 สมมูลต่อสารเร่งปฏิกิริยาถึงประมาณ 3 สมมูล ต่อสารเร่งปฏิกิริยา, และกรดอะติกปิกจากประมาณ 0.2 ถึงประมาณ 1.0 เปอเปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนัก กรดมาโลนิก จาก ประมาณ 2 สมมูลต่อสารเร่งปฏิกิริยา ถึงประมาณ 15 สมมูลต่อสารเร่งปฏิกิริยา และกรดพทาลิกจาก ประมาณ 3 สมมูลต่อสารเร่งปฏิกิริยา ถึงประมาณ 3.0 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนัก70. Method according to claim 69, whereby stabilizers are selected from a mixture of oxalic acid from approximately 0 equivalents to catalyst to approximately 3 equivalents to catalyst, and atic acid from approximately 0.2 to approximately 1.0 percent by weight, malonic acid from approximately 2 equivalents to catalyst to approximately 15 equivalents to catalyst, and phthalic acid from approximately 3 equivalents to catalyst to approximately 3.0 percent by weight.
71. วิธีการตามข้อถือสิทธิข้อ 70 โดยที่สารออกซิไดซิ่ง คือ ไฮโดรเจนเปอร์ออกไซด์ ระหว่างประมาณ 0.5 ถึงประมาณ 10.0 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนัก และสารเร่งปฏิกิริยา คือ เฟอริก ไนเตรตในระหว่าง 0.01 ถึงประมาณ 0.5 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนัก71. The method under claim 70, where the oxidizing agent is hydrogen peroxide between approximately 0.5 and approximately 10.0 percent by weight, and the catalyst is ferric nitrate between 0.01 and approximately 0.5 percent by weight.
72. วิธีการตามข้อถือสิทธิข้อ 66 โดยที่ส่วนประกอบสำหรับการขัด ประกอบเพิ่มเติม ด้วย สารขัดโลหะออกไซด์อย่างน้อยหนึ่งตัว72. The method under claim 66, whereby the abrasive components are further composed of at least one metal oxide abrasive.
73. วิธีการตามข้อถือสิทธิข้อ 72 โดยที่สารขัดโลหะออกไซด์ คือ อลูมินา73. Method pursuant to claim 72, where the metal oxide abrasive is alumina.
74. วิธีการตามข้อถือสิทธิข้อ 72 โดยที่สารขัดโลหะออกไซด์ คือ ซิลิกา74. Method in accordance with claim 72, where the metal oxide abrasive is silica.
75. วิธีการตามข้อถือสิทธิข้อ 74 โดยที่ซิลิกามีพื้นที่ผิวระหว่างประมาณ 120 ตารางเมตร/กรัม ถึงประมาณ 200 ตารางเมตร/กรัม75. A method pursuant to claim 74 where silica has a surface area between approximately 120 m²/g and approximately 200 m²/g.
76. ตัวกลางส่วนประกอบเคมีสำหรับการขัดเชิงกลที่ประกอบด้วย ผลิตภัณฑ์ของ ของผสมของสารเร่งปฏิกิริยาอย่างน้อยหนึ่งตัว ที่มีสถานะออกซิเดชันหลายสถานะ และสารเสริม เสถียรภาพอย่างน้อยหนึ่งตัว76. A chemical intermediate for mechanical scrubbing consisting of the product of a mixture of at least one catalyst with multiple oxidation states and at least one stabilizer.
77. ตัวกลางส่วนประกอบเคมีสำหรับการขัดเชิงกลตามข้อถือสิทธิข้อ 76 โดยที่ สารเร่งปฏิกิริยาคือ สารเร่งปฏิกิริยาเหล็กที่เลือกจากกลุ่มที่ประกอบด้วย สารประกอบอนินทรีย์ของ เหล็ก ละสารประกอบอินทรีย์ของเหล็ก โดยที่มีสถานะการออกซิเดชันหลายสถานะ77. Chemical intermediates for mechanical polishing pursuant to claim paragraph 76, whereby the catalyst is a selected iron catalyst from a group of inorganic and organic iron compounds with multiple oxidation states.
78. ตัวกลางส่วนประกอบเคมีสำหรับการขัดเชิงกลตามข้อถือสิทธิข้อ 77 โดยที่สารเร่ง ปฏิกิริยาเหล็กคือเฟอริกไนเตรด ในระหว่างประมาณ 0.01 ถึงประมาณ 0.5 เปอร์เซ็นต์โดย น้ำหนัก78. Chemical intermediate for mechanical polishing pursuant to claim 77, whereby the iron catalyst is ferric nitrate, between approximately 0.01 and approximately 0.5 percent by weight.
79. ตัวกลางส่วนประกอบเคมีสำหรับการขัดเชิงกลตามข้อถือสิทธิข้อ 76 ที่ซึ่งสารเสริม เสถียรภาพคือกรดอินทรีย์ กรดอนินทรีย์ ไนไทรล์และสารเหล่านี้ผสมกัน79. Chemical intermediates for mechanical polishing according to claim 76, in which the stabilizers are organic acids, inorganic acids, nitriles and mixtures thereof.
80. ตัวกลางส่วนประกอบเคมีสำหรับการขัดเชิงกลตามข้อถือสิทธิข้อ 79 โดยที่สาร เสริมเสถียรภาพถูกเลือกจากกลุ่มที่ประกอบด้วย กรดฟอสฟอริก กรอพทาลิก กรดซิตริก กรด มาโลนิก กรดฟอสโฟนิก กรดออกซาลิก กรดอะดิปิก เบนโซไนไทรล์ หรือสารเหล่านี้ผสมกัน80. Chemical intermediates for mechanical polishing according to claim 79, whereby a stabilizer is chosen from a group consisting of phosphoric acid, grophthalic acid, citric acid, malonic acid, phosphonic acid, oxalic acid, adipic acid, benzonitrile, or a mixture of these.
81. ตัวกลางส่วนประกอบเคมีสำหรับการขัดเชิงกลตามข้อถือสิทธิข้อ 80 โดยที่สาร เสริมเสถียรภาพเป็นกรดมาโลนิกจากประมาณ 2 สมมูลต่อสารเร่งปฏิกิริยาถึงประมาณ 15 สมมูลต่อสารเร่งปฏิกิริยา81. Chemical intermediate for mechanical polishing according to claim 80, whereby malonic acid is used as a stabilizer from approximately 2 equivalents to the catalyst to approximately 15 equivalents to the catalyst.
82. ตัวกลางสเลอรี่เคมีมีสำหรับการขัดเชิงกลที่รวมถึงตัวกลางส่วนประกอบเคมีสำหรับ การขัดเชิงกลตามข้อถือสิทธิที่ 76 และสารขัดอย่างน้อยหนึ่งตัว82. Chemical slurry intermediates are available for mechanical abrasives that include the chemical composition intermediates for mechanical abrasives as per claim 76 and at least one abrasive.
83. ตัวกลางสเลอรี่เคมีสำหรับการขัดเชิงกลตามข้อถือสิทธิที่ 82 โดยที่สารขัดคือ สารขัดโลหะออกไซด์อย่างน้อยหนึ่งตัวที่ถูกเลือกจากกลุ่มที่ประกอบด้วยอลูมินา , ซีเรีย เจอร์มาเนีย, ซิลิกา, ไททาเนียม, เซอร์โคเนียหรือสารเหล่านี้ผสมกัน83. A chemical slurry intermediate for mechanical abrasives pursuant to claim 82, where the abrasive is at least one metal oxide abrasive selected from a group containing alumina, ceria, germanium, silica, titanium, zirconia, or a mixture of these.
84. ตัวกลางสเลอรี่เคมีสำหรับการขัดเชิงกลตามข้อถือสิทธิที่ 82 โดยที่สารขัดโลหะ ออกไซด์ คือซิลิกาจากประมาณ 1.0 ถึงประมาณ 20.0 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนัก84. Chemical slurry intermediates for mechanical abrasives pursuant to claim 82, where the abrasive is a silica oxide from approximately 1.0 to approximately 20.0 percent by weight.
85. ตัวกลางสเลอรี่เคมีสำหรับการขัดเชิงกลซึ่งประกอบด้วยสารละลายในน้ำของซิลิกา จากประมาณ 3.0 ถึงประมาณ 7.0 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนัก และผลิตภัณฑ์ของของผสมของ เฟอริกไนเตรตจากประมาณ 0.01 ถึงประมาณ 0.05 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนัก และกรดมาโลนิก จากประมาณ 2 สมมูลต่อสารเร่งปฏิกิริยาถึงประมาณ 15 สมมูลต่อสารเร่งปฏิกิริยา85. A chemical slurry intermediate for mechanical polishing consisting of an aqueous solution of silica from approximately 3.0 to approximately 7.0 percent by weight, and a product of a mixture of ferric nitrate from approximately 0.01 to approximately 0.05 percent by weight, and malonic acid from approximately 2 equivalents to approximately 15 equivalents to the catalyst.
86. วิธีการสำหรับการขัดวัสดุที่มีชั้นโลหะอย่างน้อยหนึ่งชั้น ซึ่งประกอบด้วยขั้นตอน ของ (a) การผสมสารเร่งปฏิกิริยาอย่างน้อยหนึ่งตัวที่มีสถานะออกซิเดชันหลายสถานะ สารเสริมเสถียรภาพอย่างน้อยหนึ่งตัว และน้ำดีไอออไนซ์ เพื่อให้ได้ส่วนประกอบเคมีสำหรับ การขัดเชิงกล (b) การผสมตัวกลางส่วนประกอบเคมีสำหรับการขัดเชิงกลกับสารออกซิไดซิ่งเพื่อ ให้ได้ส่วนประกอบเคมีสำหรับการขัดเชิงกล (c) การทาส่วนประกอบเคมีสำหรับการขัดเชิงกลลงบนวัสดุ และ (d) กำจัดชั้นโลหะอย่างน้อยหนึ่งส่วนออกจากวัสดุโดยการนำแผ่นขัดมาสัมผัส กับวัสดุและถูแผ่นขัดให้สัมพันธ์กับวัสดุนั้น86. A method for polishing materials containing at least one metallic layer, consisting of the following steps: (a) mixing at least one catalyst of multiple oxidation states, at least one stabilizer, and deionizing water to obtain a chemical composition for mechanical polishing; (b) mixing the chemical composition medium with an oxidizing agent to obtain a chemical composition for mechanical polishing; (c) applying the chemical composition for mechanical polishing to the material; and (d) removing at least one metallic layer from the material by bringing an abrasive pad into contact with the material and rubbing the pad relative to the material.
87. วิธีการตามข้อถือสิทธิข้อ 86 โดยที่วัสดุนั้นรวมถึงชั้นโลหะที่มีทังสเตนอยู่ และ โดยที่อย่างน้อยส่วนหนึ่งของชั้นทังสเตนถูกกำจัดออกในขั้นตอน (d)87. The method under claim 86 where the material includes a metal layer containing tungsten and where at least part of the tungsten layer is removed in step (d).
88. วิธีการตามข้อถือสิทธิข้อ 86 โดยที่สารเสริมเสถียรภาพ คือ กรดอินทรีย์ กรดอนินทรีย์ ไนไทรล์ หรือสารเหล่านี้ผสมกัน88. The method under claim 86, where the stabilizer is an organic acid, an inorganic acid, a nitrite, or a mixture of these.
89. วิธีการตามข้อถือสิทธิข้อ 88 โดยที่สารเสริมเสถียรภาพ คือ กรดมาโลนิก89. Method in accordance with claim 88, where the stabilizer is malonic acid.
90. วิธีการตามข้อถือสิทธิข้อ 86 โดยที่สารออกซิไดซิ่ง คือ ไฮโดรเจนเปอร์ออกไซด์ จากประมาณ 0.5 ถึงประมาณ 10.0 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนัก90. Method pursuant to claim 86, where the oxidizing agent is hydrogen peroxide from approximately 0.5 to approximately 10.0 percent by weight.
91. วิธีการตามข้อถือสิทธิข้อ 86 โดยที่สารเร่งปฏิกิริยา คือ เฟอริกไนเตรต จาก ประมาณ 0.01 ถึงประมาณ 0.5 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนัก91. Method in accordance with claim 86, where the catalyst is ferric nitrate from approximately 0.01 to approximately 0.5 percent by weight.
92. วิธีการตามข้อถือสิทธิข้อ 86 โดยที่ตัวกลางส่วนประกอบเคมีสำหรับการขัด เชิงกล ประกอบเพิ่มเติมด้วย สารขัดโลหะออกไซด์อย่างน้อยหนึ่งตัว92. The method under claim 86 whereby the chemical intermediate for mechanical abrasives contains at least one metal oxide abrasive.
93. วิธีการสำหรับการขัดวัสดุที่รวมถึงชั้นโลหะที่มีทังสเตน ประกอบด้วยขั้นตอน ของ (a) การผสมซิลิกาจากประมาณ 3.0 ถึงประมาณ 7.0 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนัก เฟอริกไนเตรต จากประมาณ 0.01 ถึงประมาณ 0.05 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนัก และกรดมาโลนิกจาก ประมาณ 2 สมมูลต่อสารเร่งปฏิกิริยา ถึงประมาณ 15 สมมูลต่อสารเร่งปฏิกิริยา เพื่อให้ได้ตัวกลาง สเลอรี่เคมีสำหรับการขัดเชิงกล (b) การผสมตัวกลางส่วนประกอบเคมีสำหรับ การขัดเชิงกลกับไฮโดรเจนเปอร์ ออกไซด์ เพื่อให้ได้สเลอรี่เคมีสำหรับการขัดเชิงกลที่มีไฮโดรเจนเปอร์ออกไซด์ จากประมาณ 0.5 ถึงประมาณ 10.0 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนัก (c) การทาสเลอรี่เคมีสำหรับการขัดเชิงกลลงบนวัสดุ และ (d) กำจัดชั้นโลหะทังสเตนอย่างน้อยหนึ่งส่วนออกจากวัสดุโดยการนำแผ่นขัดมา สัมผัสกับวัสดุ และถูกแผ่นขัดให้สัมพันธ์กับวัสดุนั้น93. The method for polishing materials including tungsten-containing metal layers consists of the following steps: (a) mixing silica from approximately 3.0 to approximately 7.0 percent by weight, ferric nitrate from approximately 0.01 to approximately 0.05 percent by weight, and malonic acid from approximately 2 equivalents to catalyst to approximately 15 equivalents to catalyst to obtain a mechanical polishing chemical slurry; (b) mixing the mechanical polishing chemical slurry with hydrogen peroxide to obtain a mechanical polishing chemical slurry containing hydrogen peroxide from approximately 0.5 to approximately 10.0 percent by weight; (c) applying the mechanical polishing chemical slurry to the material; and (d) removing at least one portion of the tungsten-containing metal layer from the material by bringing the abrasive pad into contact with the material and rubbing the pad relative to the material.