TH13572A - ชั้วไฟฟ้าสำหรับชิ้นส่วนสารกึ่งตัวนำและอุปกรณ์?สารกึ่งตัวนำที่มีขั้วไฟฟ้าและกรรมวิธีในการผลิต?สิ่งเหล่านี้ - Google Patents
ชั้วไฟฟ้าสำหรับชิ้นส่วนสารกึ่งตัวนำและอุปกรณ์?สารกึ่งตัวนำที่มีขั้วไฟฟ้าและกรรมวิธีในการผลิต?สิ่งเหล่านี้Info
- Publication number
- TH13572A TH13572A TH9101000754A TH9101000754A TH13572A TH 13572 A TH13572 A TH 13572A TH 9101000754 A TH9101000754 A TH 9101000754A TH 9101000754 A TH9101000754 A TH 9101000754A TH 13572 A TH13572 A TH 13572A
- Authority
- TH
- Thailand
- Prior art keywords
- semiconductor
- length
- electrodes
- contact holes
- substrate
- Prior art date
Links
Abstract
ขั้วไฟฟ้าสำหรับชิ้นส่วนสารกึ่งตัวนำที่จะถูกเชื่อมต่อโดยตรงเข้ากับบริเวณสารกึ่งตัวนำของชิ้นส่วนสารกึ่งตัวนำ ถูก จัดรูปทรงให้มีลักษณะเป็นเสาสี่เหลี่ยม เมื่อความยาวของ ด้านหนึ่งของพื้นผิวที่สัมผัสกับบริเวณสารกึ่งตัวนำในขั้ว ไฟฟ้าดังกล่าวถูกนิยามให้เป็น L, ความยาวของอีกด้านหนึ่ง ให้เป็น W, และความยาวในทิศทางไขว้ในแนวดิ่งกับพื้นผิวดัง กล่าวให้เป็น H, ค่า L, W, H ดังกล่าวสอดคล้องกับความ สัมพันธ์ L > H > W
Claims (9)
1. ขั้วไฟฟ้าสำหรับชิ้นส่วนสารกึ่งตัวนำที่จะถูกเชื่อมต่อโดยตรงเข้ากับบริเวณสารกึ่งตัวนำของชิ้นส่วนสารกึ่งตัวนำ ซึ่งถูกจัดรูปทรงอยู่ในหลักสี่เหลี่ยม โดยมีลักษณะสำคัญคือ เมื่อความยาวของด้านหนึ่งของพื้นผิว ที่สัมผัสกับบริเวณสารกึ่งตัวนำในขั้วไฟฟ้าดังกล่าวถูก นิยามให้เป็น L, ความยาวของอีกด้านหนึ่งให้เป็น W, และความ ยาวในทิศทางไขว้ในแนวดิ่งกับพื้นผิวดังกล่าวให้เป็น H, ค่า L, W, H ดังกล่าวสอดคล้องกับความสัมพันธ์ L > H > W
2. ขั้วไฟฟ้าสำหรับชิ้นส่วนสารกึ่งตัวนำ ตามข้อถือสิทธิ 1 โดยที่ขั้วไฟฟ้าดังกล่าวประกอบด้วยผลึก A1 เชิงเดี่ยว
3. ขั้วไฟฟ้าสำหรับชิ้นส่วนสารกึ่งตัวนำ ตามข้อถือสิทธิ 1 โดยที่ขั้วไฟฟ้าดังกล่าวประกอบด้วยผลึก A1 เป็นหลัก
4. อุปกรณ์สารกึ่งตัวนำซึ่งประกอบด้วย ชิ้นสว่นสารกึ่งตัว นำที่ถูกสร้างขึ้นบนพื้นผิวหลักของชั้นฐาน (Substrate) สาร กึ่งตัวนำและขั้วไฟฟ้าซึ่งถูกเชื่อมต่อผ่านรูสัมผัสของ ฟิล์มฉนวนที่ถูกจัดไว้ให้บนพื้นผิวหลักดังกล่าว โดยมีลักษณะสำคัญคือรูสัมผัสดังกล่าวมีช่องเปิดลักษณะสี่ เหลี่ยมและเมื่อความยาวของด้านหนึ่งของพื้นผิวที่สัมผัสกับ บริเวณสารกึ่งตัวนำในขั้วไฟฟ้าดังกล่าวถูกนิยามให้เป็น L, ความยาวของอีกด้านหนึ่งให้เป็น W, และความยาวในทิศทางไขว้ ในแนวดิ่งกับพื้นผิวดังกล่าวให้เป็น H, ค่า L, W, H ดัง กล่าวสอดคล้องกับความสัมพันธ์ L > H > W
5. อุปกรณ์สารกึ่งตัวนำ ตามข้อถือสิทธิ 4 โดยที่ขั้วไฟฟ้า ภายในรูสัมผัสดังกล่าวประกอบด้วยผลึก A1 เชิงเดี่ยว
6. อุปกรณ์สารกึ่งตัวนำ ตามข้อถือสิทธิ 4 โดยที่ขั้วไฟฟ้า ภายในรูสัมผัสดังกล่าวประกอบด้วยผลึก A1 เป็นหลัก
7. กรรมวิธีสำหรับการเตรียมอุปกรณ์สารกึ่งตัวนำ ซึ่งประกอบ ด้วยชิ้นส่วนสารกึ่งตัวนำซึ่งถูกสร้างขึ้นบนพื้นผิวหลักของ ชั้นฐานสารกึ่งตัวนำและขั้วไฟฟ้าซึ่งถูกเชื่อมต่อผ่านรู สัมผัสของฟิล์มฉนวนที่ถูกจัดไว้ให้บนพื้นผิวหลักดังกล่าว ซึ่งประกอบด้วยขั้นตอนของ การสร้างรูสัมผัสโดยที่เมื่อความยาวของด้านหนึ่งของช่อง เปิดในรูสัมผัสดังกล่าวถูกนิยมให้เป็น L, ความยาวของอีก ด้านหนึ่งให้เป็น W, และความยาวในทิศทางไขว้ในแนวดิ่งกับ พื้นผิวดังกล่าวให้เป็น H, ค่า L, W, H ดังกล่าวสอดคล้อง กับความสัมพันธ์ L > H > W และ การเกาะสะสมของสารตัวนำ A1หรือที่ประกอบด้วย A1 เป็นหลัก ภายในรูสัมผัสดังกล่าวโดยวิธีการ CVD ซึ่งใช้อย่างน้อยที่ สุดแก๊สของแอลคิลอะลูมินัม ไฮไดรด์และไฮโดรเจน
8. กรรมวิธีสำหรับการเตรียมอุปกรณ์สารกึ่งตัวนำ ตามข้อถือ สิทธิ 7 โดยที่แอลคิลอะลูมินัม ไฮไดร์ดดังกล่าว คือ ไดเมททิลอะลูมินัม ไฮไดรด์
9. กรรมวิธีสำหรับการเตรียมอุปกรณ์สารกึ่งตัวนำ ตามข้อถือ สิทธิ 7 โดยที่ขั้นตอนของการสร้างรูสัมผัสดังกล่าวนั้น พื้นผิวที่ให้อิเล็กตรอนถูกเปลือยเผยออกในรูสัมผัสดังกล่าว และในขั้นตอนของการเกาะสะสมนั้น ตัวนำของ A1 ดังกล่าวหรือ ที่ประกอบด้วย A1 เป็นหลักดังกล่าวถูกเคลือบเชิงเลือกผ่าน ปฏิกิริยาพื้นผิวบนพื้นผิวให้อิเล็กตรอนดังกล่าว (ข้อถือสิทธิ 9 ข้อ, 2 หน้า, 12 รูป)
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| TH13572A true TH13572A (th) | 1993-12-15 |
Family
ID=
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPS5519857A (en) | Semiconductor | |
| JPS55163860A (en) | Manufacture of semiconductor device | |
| JPS5477081A (en) | Semiconductor device and production of the same | |
| EP1130628A4 (en) | SEMICONDUCTOR DEVICE AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME | |
| KR910020871A (ko) | 반도체 소자용 전극, 전극을 갖춘 반도체장치 및 그 제조방법 | |
| JPS54157485A (en) | Planar semiconductor device | |
| EP0282012A3 (en) | Superconducting semiconductor device | |
| CA2051778A1 (en) | Method for manufacturing superconducting device having a reduced thickness of oxide superconducting layer and superconducting device manufactured thereby | |
| EP0155698A3 (en) | A method for manufacturing a semiconductor integrated circuit device provided with an improved isolation structure | |
| JPS6437535A (en) | Thin film semiconductor element | |
| EP0347792A3 (en) | Multi-layer wirings on a semiconductor device and fabrication method | |
| JPS54159886A (en) | Production of semiconductor device | |
| JPS5661175A (en) | Thin-film solar cell | |
| JPS57160156A (en) | Semiconductor device | |
| JPH0556024B2 (th) | ||
| JPS5376752A (en) | Production of semionductor device | |
| JPS5353971A (en) | Production of semiconductor device | |
| JPS5565476A (en) | Manufacture of field effect transistor | |
| JPS5544734A (en) | Semiconductor device | |
| JPS55148422A (en) | Manufacturing of semiconductor device | |
| JPS5624939A (en) | Manufacture of semiconductor device | |
| JPS56165354A (en) | Semiconductor device | |
| JPS546775A (en) | Semiconductor device featuring stepped electrode structure | |
| JPS55117257A (en) | Fabrication of semiconductor device | |
| JPS5679461A (en) | Semiconductor system |