TH118280A - ซับสเตรทแก้วสำหรับดิสก์แม่เหล็ก และวิธีสำหรับการผลิตสิ่งเดียวกันนั้น - Google Patents

ซับสเตรทแก้วสำหรับดิสก์แม่เหล็ก และวิธีสำหรับการผลิตสิ่งเดียวกันนั้น

Info

Publication number
TH118280A
TH118280A TH901005355A TH0901005355A TH118280A TH 118280 A TH118280 A TH 118280A TH 901005355 A TH901005355 A TH 901005355A TH 0901005355 A TH0901005355 A TH 0901005355A TH 118280 A TH118280 A TH 118280A
Authority
TH
Thailand
Prior art keywords
polishing
resin foam
thickness
less
microns
Prior art date
Application number
TH901005355A
Other languages
English (en)
Inventor
มัตสึโมโตะ นายคัตสึฮิโร
มันนามิ นายคาซูโอะ
ชิดะ นายโนริฮิโตะ
อิชิดะ นายมิซูโฮ
Original Assignee
นางสาวปรับโยชน์ ศรีกิจจาภรณ์
นายจักรพรรดิ์ มงคลสิทธิ์
นายรุทร นพคุณ
อาซาฮี กลาสส์ คัมปะนี
Filing date
Publication date
Application filed by นางสาวปรับโยชน์ ศรีกิจจาภรณ์, นายจักรพรรดิ์ มงคลสิทธิ์, นายรุทร นพคุณ, อาซาฮี กลาสส์ คัมปะนี filed Critical นางสาวปรับโยชน์ ศรีกิจจาภรณ์
Publication of TH118280A publication Critical patent/TH118280A/th

Links

Abstract

DC60 (23/02/53) การประดิษฐ์นี้เกี่ยวข้องกับวิธีสำหรับการผลิตซับสเตรทแก้วสำหรับดิสก์แม่เหล็ก วิธีซึ่ง รวมถึงขั้นตอนของการขัดพื้นผิวหลักของแผ่นแก้วเชิงวงกลมในขณะที่จ่ายของเหลวคล้ายโคลน สำหรับการขัดที่มีวัสดุการขัด ซึ่งการขัดได้ถูกกระทำ หลังจากพื้นผิวการขัดถูกนำไปผ่านกรรมวิธี ตกแต่ง โดยการใช้เบาะรองขัดที่มี: ชั้นเรซิน โฟมแรกซึ่งขึ้นรูปพื้นผิวการขัด หมายรวมถึงเรซินโฟมที่ มีรูที่มีเส้นผ่าศูนย์กลางรูมากกว่า 20 ไมครอน และมีความหนา 400 ไมครอน หรือน้อยกว่า และชั้นเรซินโฟนที่ สองซึ่งถูกจัดให้มีระหว่างแผ่นสำหรับยึดเบาะรองขัดและชั้นเรซินโฟมแรก หมายรวมถึงเรซินโฟมที่ มีรูที่มีเส้นผ่าศูนย์กลางรู 20 ไมครอน หรือน้อยกว่าและมีความหนา 50 ถึง 250 ไมครอน และซึ่งความหนา ทั้งหมดของชั้นเรซินโฟมแรกและชั้นเรซินโฟมที่สองอยู่ที่ 550 ไมครอน หรือน้อยกว่า และระดับความ แข็งของยางนานาชาติของเบาะรองขัดซึ่งถูกวัดด้วยวิธี M ตาม JIS K6253 อยู่ที่ 40 IRHD หรือมากกว่า การประดิษฐ์นี้เกี่ยวข้องกับวิธีสำหรับการผลิตซับสเตรทแก้วสำหรับดิสก์แม่เหล็ก วิธีซึ่ง รวมถึงขั้นตอนของการขัดพื้นผิวหลักของแผ่นแก้วเชิงวงกลมในขณะที่จ่ายของเหลวคล้ายโคลน สำหรับการขันที่มีวัสดุการขัด ซึ่งการขัดได้ถูกกระทำ หลังจากพื้นผิวการขัดถูกนำไปผ่านกรรมวิธี ตกแต่ง โดยการใช้เบาะรองขัดที่มี: ชั้นเรซิน โฟมแรกซึ่งขึ้นรูปพื้นผิวการขัด หมายรวมถึงเรซินโฟมที่ มีรูที่มีเส้นผ่าศูนย์กลางรูมากกว่า 20 มิวm และมีความหนา 400 มิวm หรือน้อยกว่า และชั้นเรซินโฟนที่ สองซึ่งถูกจัดให้มีระหว่างแผ่นสำหรับยึดเบาะรองขัดและชั้นเรซินโฟมแรก หมายรวมถึงเรซินโฟมที่ มีรูที่มีเส้นผ่าศูนย์กลางรู 20 มิวm หรือน้อยกว่าและมีความหนา 50 ถึง 250 มิวm และซึ่งความหนา ทั้งหมดของชั้นเรซินโฟมแรกและชั้นเรซินโฟมที่สองอยู่ที่ 550 มิวm หรือน้อยกว่า และระดับความ แข็งของยางนานาชาติของเบาะรองขัดซึ่งถูกวัดด้วยวิธี M ตาม JIS K6253 อยู่ 40 IRHD หรือมากกว่า

Claims (1)

1. วิธีสำหรับการผลิตซับสเตรทแก้วสำหรับดิสก์แม่เหล็ก วิธีดังกล่าวซึ่งประกอบรวมด้วย ขั้นตอนของการขัดพื้นผิวหลักของแผ่นแก้วเชิงวงกลมในขณะที่จ่ายของเหลวคล้ายโคลนสำหรับการ ขัดที่มีวัสดุการขัด ซึ่งการขัดได้ถูกกระทำ หลังพื้นผิวการขัดถูกนำไปผ่านกรรมวิธีตกแต่ง โดยการใช้เบาะรอง ขัดที่ี: ชั้นเรซินโฟมแรกซึ่งขึ้นรูปพื้นผิวการขัด ประกอบรวมด้วยเรซินโฟมที่มีรูที่มีเส้นผ่าศูนย์กลาง รูมากกว่า 20 มิวm และมีความหนา 400 มิวm หรือน้อยกว่า และชั้นเรแท็ก :
TH901005355A 2009-11-30 ซับสเตรทแก้วสำหรับดิสก์แม่เหล็ก และวิธีสำหรับการผลิตสิ่งเดียวกันนั้น TH118280A (th)

Publications (1)

Publication Number Publication Date
TH118280A true TH118280A (th) 2012-11-30

Family

ID=

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US9238295B2 (en) Soft and conditionable chemical mechanical window polishing pad
MY148785A (en) Method for producing glass substrate for magnetic disk
SG149772A1 (en) Method for polishing a substrate composed of semiconductor material
SG170662A1 (en) Method for producing a semiconductor wafer
TW200416107A (en) Method of using a soft subpad for chemical mechanical polishing
SG155822A1 (en) Manufacturing method of glass substrate for magnetic disc
JP2013197425A5 (th)
PH12012000200A1 (en) Process for producing glass substrate for magnetic recording medium, and glass substrate for magnetic recording medium
EP2128896A3 (en) Method of polishing silicon wafer
US8574033B2 (en) Wafer support member, method for manufacturing the same and wafer polishing unit comprising the same
SG153742A1 (en) Manufacturing method of glass substrate for magnetic disc
TH118280A (th) ซับสเตรทแก้วสำหรับดิสก์แม่เหล็ก และวิธีสำหรับการผลิตสิ่งเดียวกันนั้น
JP2012157936A (ja) 研磨パッド及び半導体装置の製造方法
JP2006326795A (ja) 研磨用砥石
JP5350853B2 (ja) ガラス基板の製造方法、及び磁気記録媒体の製造方法
CN113442057B (zh) 带有具有设计的开放空隙空间的突起结构的cmp抛光垫
PH12011000429A1 (en) Dresser for polishing pad, method for manufacturing the dresser, glass substrate, method for manufacturing the glass substrate, glass substrate for magnetic recording medium, and method for manufacturing the glass substrate for magnetic recording medium
JP4982037B2 (ja) 研磨布用ドレッシングプレート及び研磨布のドレッシング方法並びにワークの研磨方法
JP7337095B2 (ja) 適合性研磨物品
JP4384136B2 (ja) 研磨パッド
JP2011140075A (ja) 両面研削装置を用いたガラス基板の研削方法、及び該研削方法を用いたガラス基板の製造方法
JP5265429B2 (ja) ガラス基板の製造方法、及び磁気記録媒体の製造方法
JP2009214278A5 (th)
JP2015069683A5 (th)
JP7792201B2 (ja) 支持体上の研磨要素を有するcmp研磨パッド