TH11064A - โครงสร้างและกรรมวิธีเพื่อการประดิษฐ์แคโทดปล่อย?สนาม - Google Patents

โครงสร้างและกรรมวิธีเพื่อการประดิษฐ์แคโทดปล่อย?สนาม

Info

Publication number
TH11064A
TH11064A TH9001001807A TH9001001807A TH11064A TH 11064 A TH11064 A TH 11064A TH 9001001807 A TH9001001807 A TH 9001001807A TH 9001001807 A TH9001001807 A TH 9001001807A TH 11064 A TH11064 A TH 11064A
Authority
TH
Thailand
Prior art keywords
field
called
emitting
cathode structure
layer
Prior art date
Application number
TH9001001807A
Other languages
English (en)
Inventor
เอ็มซิมเมอร์แมน นายสตีเวน
Original Assignee
อินเตอร์เนชั่นแนล บีซิเนสส์ มะชีนส์ คอร์ปอเรชั่น
Filing date
Publication date
Application filed by อินเตอร์เนชั่นแนล บีซิเนสส์ มะชีนส์ คอร์ปอเรชั่น filed Critical อินเตอร์เนชั่นแนล บีซิเนสส์ มะชีนส์ คอร์ปอเรชั่น
Publication of TH11064A publication Critical patent/TH11064A/th

Links

Abstract

การประดิษฐ์นี้เกี่ยวข้องโดยทั่วไปกับโครงสร้างใหม่สำหรับแคโทดปล่อยสนามและกรรมวิธีเพื่อประดิษฐ์มันการปล่อยสนามถูกกระทำโดยวัสดุใด ๆที่สามารถปล่อยอิเล็กตรอนออกภายใต้อิทธิพลของศักย์ไฟฟ้า แคโทดปล่อยสนามมีโครงสร้างสามมิติที่ไม่เหมือนใครหลายอย่างโครงสร้างพื้นฐานประกอบด้วยชั้นวัสดุกับยอดของแทโทด สำหรับโครงสร้างที่ซับซ้อนยิ่งขึ้นยอดของแคโทดถูกจัดของอย่างแม่นยำในโครงสร้างอิเล็กโทรดกำเนิด/ควบคุมในสภาพแวดล้อมสูญญากาศโครงสร้างตามการประดิษฐ์นี้จะถูกประดิษฐ์ในถูกต่อกับแคโทดปล่อยสนามที่คล้ายกันหรือกับอุปกรณ์อิเล็กทรอนิกส์อื่น ๆ

Claims (128)

1.กรรมวิธีในการทำโครงสร้างแคโทดปล่อยสนามอย่างน้อยหนึ่งตัวที่ประกอบด้วยขั้นตอนของ ก) การจัดเตรียมรูอย่างน้อยหนึ่งรูในฐาน ข) การวางนอนอย่างน้อยชั้นวัสดุอันดับแรกและการเติมให้เต็มอย่างน้อยส่วนหนึ่งของรูดังกล่าวให้พอที่จะขึ้นรูปปลายแหลม ค) การวางนอนอย่างน้อยชั้นหนึ่งของวัสดุสามารถปล่อยอิเล็กตรอนออกภายในอิทธิพลของสนามไฟฟ้า และการเติมให้เต็มอย่างน้อยส่วนหนึ่งของยอดของปลายแหลมดังกล่าว และ ง) การเอาวัสดุอันดับแรกดังกล่าวออกจากข้างใต้ปลายแหลมเพื่อเปิดให้เห็นอย่างน้อยส่วนหนึ่งของยอดแหลมของวัสดุปล่อยอิเล็กตรอนดังกล่าวและที่โดยเหตุนี้ขึ้นรูปโครงสร้างแคโทดปล่อยสนามอย่างน้อยหนึ่งตัวดังกล่าว
2.กรรมวิธีตามข้อถือสิทธิข้อ 1 ในที่ซึ่งฐานดังกล่าวเป็นโครงสร้างชั้นเดียว
3.กรรมวิธีตามข้อถือสิทธิข้อ 1 ในที่ซึ่งฐานดังกล่าวเป็นโครงสร้างมากชั้น
4.กรรมวิธีตามข้อถือสิทธิข้อ 3 ในที่ซึ่งโครงสร้างมากชั้นดังกล่าวประกอบด้วยชั้นที่สลับกันของฉนวนกับวัสดุนำไฟฟ้า
5.กรรมวิธีตามข้อถือสิทธิข้อ 1 ในที่ซึ่งรูดังกล่าวถูกสร้างขึ้นโดยกรรมวิธีที่เลือกมาจากกลุ่มที่ประกอบด้วยการขูด การเจาะ การกัดน้ำยา การเซาะด้วยอิออน การตัดอกหรือการหล่อแบบ
6.กรรมวิธีตามข้อถือสิทธิข้อ 1 ในที่ซึ่งรูดังกล่าวถูกกัดโดยใช้เทคนิคการกัดที่เลือกมาจากกลุ่มที่ประกอบด้วย การกัดแบบแอนิโซโทรบิก การกัดแบบลำอิออน การกัดแบบไอโซโทรบิก การกัดแบบอิออนรีแอคทีฟ การกัดด้วยพลาสมาหรือการกัดแบบเบียก
7.กรรมวิธีตามข้อถือสิทธิข้อ 1 ในที่ซึ่งวัสดุอันดับแรกดังกล่าวถูกวางนอนเข้ารูป
8.กรรมวิธีตามข้อถือสิทธิข้อ 1 ในที่ซึ่งวัสดุอันดับแรกดังกล่าวเป็นฉนวนไฟฟ้า
9.กรรมวิธีตามข้อถือสิทธิข้อ 1 ในที่ซึ่งวัสดุอันดับแรกดังกล่าวเป็นสารกึ่งตัวนำ
10.กรรมวิธีตามข้อถือสิทธิข้อ 1 ในที่ซึ่งวัสดุอันดับแรกดังกล่าวเป็นวัสดุนำไฟฟ้า
11.กรรมวิธีตามข้อถือสิทธิข้อ 1 ในที่ซึ่งวัสดุอันดับแรกดังกล่าวประกอบด้วยชั้นหลายชั้น
12.กรรมวิธีตามข้อถือสิทธิข้อ 1 ในที่ซึ่งวัสดุอันดับแรกดังกล่าวประกอบด้วยชั้นปลดปล่อย
13.กรรมวิธีตามข้อถือสิทธิข้อ 1 ในที่ซึ่งวัสดุอันดับแรกดังกล่าวเป็นวัสดุชั้นเดียว
14.กรรมวิธีตามข้อถือสิทธิข้อ 1 ในที่ซึ่งวัสดุอิเล็กตรอนดังกล่าวเป็นหลายชั้น
15.กรรมวิธีตามข้อถือสิทธิข้อ 1 ในที่ซึ่งวัสดุอันดับแรกดังกล่าวข้างใต้ปลายแหลมถูกเอาออกโดยกรรมวิธีที่เลือกมาจากกลุ่มที่ประกอบด้วยการละลาย การกัดการระเหย การหลอมเหลวหรือการขัดออก
16.กรรมวิธีตามข้อถือสิทธิข้อ 1 ในที่ซึ่งฐานทั้งหมดข้างใต้ชั้นวัสดุปล่อยอิเล็กตรอนถูกเอาออกอย่างสมบูรณ์
17.กรรมวิธีตามข้อถือสิทธิข้อ 16 ในที่ซึ่งวัสดุอันดับแรกดังกล่าวทั้งหมดข้างใต้วัสดุปล่อยอิเล็กตรอนถูกเอาออกโดยสมบูรณ์
18.กรรมวิธีตามข้อถือสิทธิข้อ 1 ในที่ซึ่งรูดังกล่าวมีเค้าโครงที่ขนาดรูคงที่ตามความลึก
19.กรรมวิธีตามข้อถือสิทธิข้อ 1 ในที่ซึ่งรูดังกล่าวมีเค้าโครงที่ขนาดรูแบ่งมันตามความลึก
20.กรรมวิธีตามข้อถือสิทธิข้อ 1 ในที่ซึ่งชั้นขวางกั้นถูกสร้างขึ้นก่อนการวางนอนวัสดุปล่อยอิเล็กตรอนดังกล่าว
21.กรรมวิธีตามข้อถือสิทธิข้อ 20 ในที่ซึ่งชั้นขวางกั้นดังกล่าวถูกเอาออกได้ตามการเลือก
22.กรรมวิธีตามข้อถือสิทธิข้อ 1 ในที่ซึ่งยอดแหลมดังกล่าวถูกเคลือบด้วยวัสดุปล่อยอิเล็กตรอน
23.กรรมวิธีตามข้อถือสิทธิข้อ 1 ในที่ซึ่งยอดแหลมดังกล่าวถูกกลับให้คมตามการเลือกด้วยกรรมวิธีที่เลือกมาจากกลุ่มที่ประกอบด้วยการกัดช้าแบบไอโซโทรบิดหรือการออกซิเดชัน
24.กรรมวิธีตามข้อถือสิทธิข้อ 1 ในที่ซึ่งชั้นรองรับถูกสร้างขึ้นบนหลังของโครงสร้างดังกล่าว
25.กรรมวิธีตามข้อถือสิทธิข้อ 1 ในที่ซึ่งปลดปล่อยถูกสร้างขึ้นก่อนการวางนอนวัสดุปล่อยอิเล็กตรอนดังกล่าว
26.กรรมวิธีของการทำโครงสร้างแคโทดปล่อยสนามของข้อถือสิทธิข้อที่ 1, ในที่นี้เรียกว่าวัสดุปล่อยอิเล็กตรอนจะคัดเลือกจากกลุ่มซึ่งประกอบด้วย Mo, W, Ta, Re, Pt, Au, Ag, Al,Cu, Nb, Ni, Cr, Ti, Zr, Hf และโลหะผสมของมัน หรือสารละลายของของแข็งซึ่งประกอบด้วยส่วนประกอบเหล่านี้สองชนิดหรือมากกว่า
27.กรรมวิธีของการทำโครงสร้างแคโทดปล่อยสนามของข้อถือสิทธิข้อที่ 1, ในที่นี้ที่เรียกว่าวัสดุปล่อยอิเล็กตรอนจะคัดเลือกมาจากกลุ่มซึ่งประกอบด้วยสารกึ่งตัวนำที่ผ่านการเจือปนแล้ว และสารกึ่งตัวนำที่ยังไม่มีการเจือปน
28.กรรมวิธีในการทำโครงสร้างแคโทดปล่อยสนามอย่างน้อยหนึ่งตัวที่ประกอบด้วยขั้นตอนของ ก) การขึ้นรูปวัสดุนำไฟฟ้าอย่างน้อยหนึ่งชั้นเหนือชั้นฐาน ข) การขึ้นรูปรูอย่างน้อยหนึ่งรูที่อย่างน้อยทะลุผ่านชั้นตัวนำไฟฟ้าอย่างน้อยหนึ่งชั้นดังกล่าว ค) การวางนอนวัสดุเป็นฉนวนอย่างน้อยหนึ่งตัวเหนือชั้นตัวนำไฟฟ้าอย่างน้อยชั้นดังกล่าวและการเติมให้เติมอย่างน้อยส่วนหนึ่งของรูดังกล่าวให้พอที่จะขึ้นรูปหลายแหลม ง) การวางนอนอย่างน้อยชั้นหนึ่งของวัสดุซึ่งสามารถปล่อยอิเล็กตรอนออกภายใต้อิทธิพลของสนามไฟฟ้าลงเหนือวัสดุเป็นฉนวนดังกล่าวในขั้นตอน (ค) และการเติมให้เต็มอย่างน้อยส่วนหนึ่งของยอดของปลายแหลมดังกล่าว และ จ) การเอาวัสดุข้างใต้ปลายแหลมออกเพื่อเเปิดให้เป็นอย่างน้อยส่วนหนึ่งของวัสดุปล่อยอิเล็กตรอนดังกล่าวและที่โดยเหตุนี้ขึ้นรูปอย่างน้อยโครงสร้างแคโทดปล่อยสนามหนึ่งตัวดังกล่าว
29.กรรมวิธีของการทำโครงสร้างแคโทดปล่อยสนามของข้อถือสิทธิข้อที่ 28, ในที่นี้เรียกว่าวัสดุปล่อยอิเล็กตรอนจะคัดเลือกจากกลุ่มซึ่งประกอบด้วย Mo, W, Ta, Re, Pt, Au, Ag,Al, Cu, Nb, Ni, Cr, Ti, Zr, Hf และโลหะผสมของมัน หรือสารละลายของของแข็งซึ่งประกอบด้วยส่วนประกอบเหล่านี้สองชนิดหรือมากกว่า
30.กรรมวิธีของการทำโครงสร้างแคโทดปล่อยสนามของข้อถือสิทธิข้อที่ 28 ในที่นี้ที่เรียกว่าวัสดุฉนวนจะคัดเลือกมาจากกลุ่มซึ่งประกอบด้วยแซปไฟร์, แก้วหรืออกไซด์ของ Si, Al, Mg และ Ce
31.กรรมวิธีของการทำโครงสร้างแคโทดปล่อยสนามของข้อถือสิทธิข้อที่ 28, ในที่นี้เรียกว่าวัสดุปล่อยอิเล็กตรอน จะคัดเลือกมาจากกลุ่มซึ่งประกอบด้วยสารกึ่งตัวนำที่ผ่านการเจือปนแล้ว และสารกึ่งตัวนำที่ยังไม่มีการเจือปน
32.กรรมวิธีของการทำโครงสร้างแคโทดปล่อยสนามของข้อถือสิทธิข้อที่ 28, ในที่นี้อย่างน้อยที่สุดส่วนหนึ่งของที่เรียกว่าวัสดุฉนวนอย่างน้อยที่สุดหนึ่งชนิดซึ่งปิดคลุมพื้นผิวของผนังของที่เรียกว่าวัสดุนำไฟฟ้าอย่างน้อยที่สุดหนึ่งชนิดที่อยู่ชิดกับที่เรียกว่าวัสดุปล่อยอิเล็กตรอนที่เผยออกจะได้รับการกำจัดออกไป
33.กรรมวิธีของการทำโครงสร้างแคโทดปล่อยสนามของข้อถือสิทธิข้อที่ 28, ในที่นี้ที่เรียกว่ารูในที่เรียกว่าวัสดุฐานรองจะก่อขึ้นโดยกรรมวิธีที่คัดเลือกมาจากกลุ่มซึ่งประกอบด้วยการขูด, การเจาะ, การกัดสลักด้วยน้ำยา, การเซาะด้วยไอออน,การตัดออกหรือการหล่อแบบ
34.กรรมวิธีของการทำโครงสร้างแคโทดปล่อยสนามของข้อถือสิทธิข้อที่ 28, ในที่นี้ที่เรียกว่ารูในที่เรียกว่าวัสดุฐานรองจะผ่านการกัดสลักด้วยน้ำยา,โดยการใช้กลวิธีของการกัดสลักที่คัดเลือกมาจากกลุ่มซึ่งประกอบด้วยการกัดสลักแบบแอบิโซโทรบิก, การกัดสลักด้วยจำไอออน, การกัดสลักแบบไอโซโทรบิก,การกัดสลักด้วยไอออนรีแอคทีฟ, การกัดสลักด้วยพลาสมาหรือการกัดสลักแบบเปียก,
35.กรรมวิธีของการทำโครงสร้างแคโทดปล่อยสนามของข้อถือสิทธิข้อ 28, ในที่นี้ที่เรียกว่าวัสดุอันดับแรกเป็นวัสดุฉนวน
36.กรรมวิธีของการทำโครงสร้างแคโทดปล่อยสนามของข้อถือสิทธิข้อ 28, ในที่นี้ที่เรียกว่าวัสดุอันดับแรกเป็นวัสดุสารกึ่งตัวนำ
37.กรรมวิธีของการทำโครงสร้างแคโทดปล่อยสนามของข้อถือสิทธิข้อ 28, ในที่นี้ที่เรียกว่าวัสดุอันดับแรกเป็นวัสดุนำไฟฟ้า
38.กรรมวิธีของการทำโครงสร้างแคโทดปล่อยสนามของข้อถือสิทธิข้อ 28, ในที่นี้ที่เรียกว่าวัสดุอันดับแรกประกอบด้วยชั้นหลายชั้น
39.กรรมวิธีของการทำโครงสร้างแคโทดปล่อยสนามของข้อถือสิทธิข้อ 28, ในที่นี้ที่เรียกว่าวัสดุอันดับแรกประกอบด้วยชั้นปลดปล่อย
40.กรรมวิธีของการทำโครงสร้างแคโทดปล่อยสนามของข้อถือสิทธิข้อ 28, ในที่นี้ที่เรียกว่าวัสดุปล่อยอิเล็กตรอนเป็นวัสดุที่ทำเป็นชั้นเดียว
41.กรรมวิธีของการทำโครงสร้างแคโทดปล่อยสนามของข้อถือสิทธิข้อ 28, ในที่นี้ที่เรียกว่าวัสดุปล่อยอิเล็กตรอนจะทำให้เป็นชั้นหลายชั้น
42.กรรมวิธีของการทำโครงสร้างแคโทดปล่อยสนามของข้อถือสิทธิข้อ 28, ในที่นี้ที่เรียกว่าวัสดุที่หนึ่งใต้ปลายแหลมจะกำจัดออกไปด้วยกรรมวิธีที่คัดเลือกมาจากกลุ่มซึ่งประกอบด้วย, การละลาย, การกัดสลักด้วยน้ำยา, การระเหย, การหลอมเหลว, หรือการขัดออก
43.กรรมวิธีของการทำโครงสร้างแคโทดปล่อยสนามของข้อถือสิทธิข้อ 28, ในที่นี้วัสดุฐานรองทั้งหมดที่อยู่ใต้ชั้นของวัสดุปล่อยอิเล็กตรอนจะได้รับการกำจัดออกไปโดยสิ้นเชิง
44.กรรมวิธีของการทำโครงสร้างแคโทดปล่อยสนามของข้อถือสิทธิข้อ 43, ในที่นี้ที่เรียกว่าวัสดุอันดับแรกทั้งหมดที่อยู่ใต้วัสดุปล่อยอิเล็กตรอนจะได้รับการกำจัดออกไปโดยสิ้นเชิง
45.กรรมวิธีของการทำโครงสร้างแคโทดปล่อยสนามของข้อถือสิทธิข้อ 28, ในที่นี้ที่เรียกว่ารูในวัสดุฐานรองดังกล่าวมีรูปโครงร่างที่ซึ่งขนาดรูเป็นค่าคงที่ตามความลึก
46.กรรมวิธีของการทำโครงสร้างแคโทดปล่อยสนามของข้อถือสิทธิข้อ 28, ในที่นี้ที่เรียกว่ารูในวัสดุฐานรองดังกล่าวมีรูปโครงร่างที่ซึ่งขนาดของรูปแปรผันความลึก
47.กรรมวิธีของการทำโครงสร้างแคโทดปล่อยสนามของข้อถือสิทธิข้อ 28, ในที่นี้ชั้นขวางกั้นจะก่อรูปขึ้นก่อนการพอกพูนของที่เรียกว่าวัสดุปล่อยอิเล็กตรอน
48.กรรมวิธีของการทำโครงสร้างแคโทดปล่อยสนามของข้อถือสิทธิข้อ 47, ในที่นี้ที่เรียกว่าชั้นขวางกั้นจะกำจัดออกไปแบบเลือกได้
49.กรรมวิธีของการทำโครงสร้างแคโทดปล่อยสนามของข้อถือสิทธิข้อที่ 28, ในที่นี้ที่เรียกว่ายอดแหลมจะเคลือบด้วยวัสดุปล่อยอิเล็กตรอน
50.กรรมวิธีของการทำโครงสร้างแคโทดปล่อยสนามของข้อถือสิทธิข้อที่ 28, ในที่นี้ที่เรียกว่ายอดแหลมจะสับให้คมแบบเลือกได้ด้วยกรรมวิธีที่คัดเลือกมาจากกลุ่มซึ่งประกอบด้วยการกัดสลักด้วยน้ำยาแบบไอโซโทรบิกช้าๆ หรือการออกซิเตชัน
51.กรรมวิธีของการทำโครงสร้างแคโทดปล่อยสนามของข้อถือสิทธิข้อที่ 28, ในที่นี้จะก่อขึ้นรูปชั้นรองรับไว้บนส่วนหลังของโครงสร้างดังกล่าว
52.กรรมวิธีของการทำโครงสร้างแคโทดปล่อยสนามของข้อถือสิทธิข้อที่ 28, ในที่นี้จะก่อขึ้นรูปชั้นปลดปล่อยก่อนการพอกพูนของที่เรียกว่าวัสดุปล่อยอิเล็กตรอน
53.กรรมวิธีในการทำอย่างน้อยโครงสร้างแคโทดปล่อยสนามหนึ่งตัวที่ประกอบด้วยชั้นด้วยขั้นตอนของ ก) การขึ้นรูปวัสดุนำไฟฟ้าอย่างน้อยหนึ่งชั้นเหนือชั้นฐานโดยที่ชั้นวัสดุนำไฟฟ้าดังกล่าวแต่ละชั้นถูกกั้นแยกด้วยวัสดุฉนวน ข) การขึ้นรูปรูอย่างน้อยหนึ่งรูที่อย่างน้อยทะลุผ่านชั้นวัสดุนำไฟฟ้าดังกล่าว ค) การวางนอนวัสดุเป็นฉนวนอย่างน้อยหนึ่งตัวเหนือชั้นวัสดุตัวนำไฟฟ้าดังกล่าวและการเติมให้เต็มอย่างน้อยหนึ่งส่วนหนึ่งของรูดังกล่าวให้พอที่จะขึ้นรูปปลายแหลม ง) การวางนอนอย่างน้อยชั้นหนึ่งของวัสดุซึ่งสามารถปล่อยอิเล็กตรอนออกภายใต้อิทธิพลของสนามไฟฟ้าลงเหนือวัสดุเป็นฉนวนดังกล่าวในขั้นตอน (ค) และการเติมให้เต็มอย่างน้อยส่วนหนึ่งของยอดของปลายแหลมดังกล่าว และ จ) การเอาวัสดุข้างใต้ปลายแหลมออกเพื่อเเปิดให้เป็นอย่างน้อยส่วนหนึ่งของวัสดุปล่อยอิเล็กตรอนดังกล่าวและที่โดยเหตุนี้ขึ้นรูปอย่างน้อยโครงสร้างแคโทดปล่อยสนามหนึ่งตัวดังกล่าว
54.กรรมวิธีของการทำโครงสร้างแคโทดปล่อยสนามของข้อถือสิทธิข้อที่ 53, ในที่นี้ที่เรียกว่าวัสดุปล่อยอิเล็กตรอนจะคัดเลือกมาจากกลุ่มซึ่งประกอบด้วย Mo, W, Ta, Re, Pt, Au, Ag,Al, Cu, Nb, Ni, Cr, Ti, Zr, Hf และโลหะผสมของมัน หรือสารละลายของของแข็งซึ่งประกอบด้วยส่วนประกอบเหล่านี้สองชนิดหรือมากกว่า
55.กรรมวิธีของการทำโครงสร้างแคโทดปล่อยสนามของข้อถือสิทธิข้อที่ 53, ในที่นี้ที่เรียกว่าวัสดุฉนวนจะคัดเลือกมาจากกลุ่มซึ่งประกอบด้วยแซปไฟร์, แก้วหรือออกไซด์ของ Si, Al,Mg และ Ce
56.กรรมวิธีของการทำโครงสร้างแคโทดปล่อยสนามของข้อถือสิทธิข้อที่ 53, ในที่นี้ที่เรียกว่าวัสดุปล่อยอิเล็กตรอนจะคัดเลือกมาจากกลุ่มซึ่งประกอบด้วยสารกึ่งตัวนำที่ผ่านการเจือบนแล้ว และสารกึ่งตัวนำที่ยังไม่มีการเจือปน
57.กรรมวิธีของการทำโครงสร้างแคโทดปล่อยสนามของข้อถือสิทธิข้อที่ 53, ในที่นี้อย่างน้อยที่สุดส่วนหนึ่งของที่เรียกว่าวัสดุฉนวนอย่างน้อยที่สุดหนึ่งขนิดหนึ่งซึ่งปิดคลุมพื้นผิวของผนังของที่เรียกว่าวัสดุนำไฟฟ้าอย่างน้อยที่สุดหนึ่งชนิดที่อยู่ชิดกับที่เรียกว่าวัสดุปล่อยอิเล็กตรอนที่เผยออกจะได้รับการกำจัดออกไป
58.กรรมวิธีของการทำโครงสร้างแคโทดปล่อยสนามของข้อถือสิทธิข้อที่ 53, ในที่นี้ที่เรียกว่ารูในวัสดุฐานของจะก่อรูปขึ้นโดยกรรมวิธีที่คัดเลือกมาจากกลุ่มซึ่งประกอบด้วยการขูด, การเจาะ, การกัดสลักด้วยน้ำยา, การเซาะด้วยไอออน, การตัดออกหรือการหล่อแบบ
59.กรรมวิธีของการทำโครงสร้างแคโทดปล่อยสนามของข้อถือสิทธิข้อที่ 53, ในที่นี้ที่เรียกว่ารูในที่เรียกว่าวัสดุฐานรองจะผ่านการกัดสลักด้วยน้ำยา,โดยการใช้กลวิธีของการกัดสลักที่คัดเลือกมาจากกลุ่มซึ่งประกอบด้วยการกัดสลักแบบแอนิโซโทรบิก, การกัดสลักด้วยลำไอออนการกัดสลักแบบไอโซโทรบิก,การกัดสลักด้วยไอออนรีแอกทีฟ, การกัดสลักด้วยพลาสมา หรือ การกัดสลักแบบเปียก
60.กรรมวิธีของการทำโครงสร้างแคโทดปล่อยสนามของข้อถือสิทธิข้อที่ 53, ในที่นี้ที่เรียกว่าวัสดุอันดับแรกเป็นวัสดุฉนวน
61.กรรมวิธีของการทำโครงสร้างแคโทดปล่อยสนามของข้อถือสิทธิข้อที่ 53, ในที่นี้ที่เรียกว่าวัสดุอันดับแรกเป็นวัสดุกึ่งตัวนำ
62.กรรมวิธีของการทำโครงสร้างแคโทดปล่อยสนามของข้อถือสิทธิข้อที่ 53, ในที่นี้ที่เรียกว่าวัสดุอันดับแรกเป็นวัสดุนำไฟฟ้า
63.กรรมวิธีของการทำโครงสร้างแคโทดปล่อยสนามของข้อถือสิทธิข้อที่ 53, ในที่นี้ที่เรียกว่าวัสดุอันดับแรกประกอบด้วยชั้นหลายชั้น 64.กรรมวิธีของการทำโครงสร้างแคโทดปล่อยสนามของข้อถือสิทธิข้อที่ 53, ในที่นี้ที่เรียกว่าวัสดุอันดับแรกประกอบด้วยชั้นหลายชั้น
64.กรรมวิธีของการทำโครงสร้างแคโทดปล่อยสนามของข้อถือสิทธิข้อที่ 53, ในที่นี้ที่เรียกว่าวัสดุอันดับแรกประกอบด้วยชั้นปลดปล่อย
65.กรรมวิธีของการทำโครงสร้างแคโทดปล่อยสนามของข้อถือสิทธิข้อที่ 53, ในที่นี้ที่เรียกว่าวัสดุปล่อยอิเล็กตรอนเป็นวัสดุที่ทำเป็นชั้นเดียว
66.กรรมวิธีของการทำโครงสร้างแคโทดปล่อยสนามของข้อถือสิทธิข้อที่ 53, ในที่นี้ที่เรียกว่าวัสดุปล่อยอิเล็กตรอนจะทำเป็นชั้นหลายชั้น
67.กรรมวิธีของการทำโครงสร้างแคโทดปล่อยสนามของข้อถือสิทธิข้อที่ 53, ในที่นี้ที่เรียกว่าวัสดุอันดับแรกใต้ปลายแหลมจะกำจัดออกไปด้วยกรรมวิธีคัดเลือกมาจากกลุ่มซึ่งประกอบด้วยการละลาย, การกัดสลักด้วยน้ำยา, การระเหย, การหลอมเหลวหรือการขัดออก
68.กรรมวิธีของการทำโครงสร้างแคโทดปล่อยสนามของข้อถือสิทธิข้อที่ 53, ในที่นี้วัสดุฐานรองทั้งหมดที่อยู่ใต้ชั้นของวัสดุปล่อยอิเล็กตรอนจะได้รับการกำจัดออกไปโดยสิ้นเชิง
69.กรรมวิธีของการทำโครงสร้างแคโทดปล่อยสนามของข้อถือสิทธิข้อที่ 68, ในที่นี้ที่เรียกว่าวัสดุอันดับแรกทั้งหมดที่อยู่ใต้วัสดุปล่อยอิเล็กตรอนจะได้รับการกำจัดออกไปโดยสิ้นเชิง
70.กรรมวิธีของการทำโครงสร้างแคโทดปล่อยสนามของข้อถือสิทธิข้อที่ 53, ในที่นี้ที่เรียกว่ารูในที่เรียกว่าวัสดุฐานรองมีรูปโครงร่าง ที่ซึ่งขนาดของรูเป็นค่าคงที่ตามความลึก
71.กรรมวิธีของการทำโครงสร้างแคโทดปล่อยสนามของข้อถือสิทธิข้อที่ 53, ในที่นี้ที่เรียกว่ารูในที่เรียกว่าวัสดุฐานรองมีรูปโครงร่าง ที่ซึ่งขนาดของรูแปรผันตามความลึก
72.กรรมวิธีของการทำโครงสร้างแคโทดปล่อยสนามของข้อถือสิทธิข้อที่ 53, ในที่นี้ชั้นขวางกั้นจะก่อรูปขึ้นก่อนการพอกพูนของที่เรียกว่าวัสดุปล่อยอิเล็กตรอน
73.กรรมวิธีของการทำโครงสร้างแคโทดปล่อยสนามของข้อถือสิทธิข้อที่ 72, ในที่นี้ที่เรียกว่าชั้นขวางกั้นจะกำจัดออกไปแบบเลือกได้
74.กรรมวิธีของการทำโครงสร้างแคโทดปล่อยสนามของข้อถือสิทธิข้อที่ 53, ในที่นี้ที่เรียกว่ายอดแหลมจะเคลือบด้วยวัสดุปล่อยอิเล็กตรอน
75.กรรมวิธีของการทำโครงสร้างแคโทดปล่อยสนามของข้อถือสิทธิข้อที่ 53, ในที่นี้ที่เรียกว่ายอดแหลมจะสับให้คมแบบเลือกได้ด้วยกรรมวิธีที่คัดเลือกมาจากกลุ่มซึ่งประกอบด้วยการกัดสลักด้วยน้ำยาแบบไอโซโทรปีกช้าๆ หรือการออกซิเดชัน
76.กรรมวิธีของการทำโครงสร้างแคโทดปล่อยสนามของข้อถือสิทธิข้อที่ 53, ในที่นี้จะก่อขึ้นรูปชั้นรองรับไว้บนส่วนหลังของโครงสร้างดังกล่าว
77.กรรมวิธีของการทำโครงสร้างแคโทดปล่อยสนามของข้อถือสิทธิข้อที่ 53, ในที่นี้จะก่อขึ้นรูปชั้นปลดปล่อยก่อนการพอกพูนของที่เรียกว่าวัสดุปล่อยอิเล็กตรอน
78.โครงสร้างของแคโทดปล่อยสนามประกอบด้วยชั้นของวัสดุอย่างน้อยที่สุดหนึ่งชนิดซึ่งสามารถปล่อยอิเล็กตรอนภายใต้อิทธิพลของสนามไฟฟ้า,และมียอดแหลมสำหรับการปล่อยอิเล็กตรอนอย่างน้อยที่สุดหนึ่งยอดที่ก่อรูปขึ้นด้วยกรรมวิธีซึ่งประกอบด้วยขั้นตอนของ: (a)การจัดให้มีรูไว้ในวัสดุฐานรองอย่างน้อยที่สุดหนึ่งรู, (b)ทำการพอกพูนอย่างน้อยที่สุดวัสดุอันดับแรกและทำการเติมอย่างน้อยที่สุดส่วนหนึ่งของรูดังกล่าวให้เพียงพอต่อการขึ้นรูปปลายแหลม, (c)ทำการพอกพูนที่เรียกว่าชั้นของวัสดุอย่างน้อยที่สุดหนึ่งชั้นซึ่งสามารถปล่อยอิเล็กตรอนภายใต้อิทธิพลของสนามไฟฟ้า,และทำการเติมอย่างน้อยที่สุดส่วนหนึ่งของที่เรียกว่าปลายแหลมเพื่อก่อรูปเป็นที่เรียกว่าชั้นปล่อยอิเล็กตรอนอย่างน้อยที่สุดหนึ่งชั้น,ในที่นี้ที่เรียกว่าชั้นปล่อยอิเล็กตรอนมีพื้นผิวด้านบนกับพื้นผิวด้านล่าง,ที่เรียกว่าพื้นผิวด้านบนมีปลายแหลมที่สองอย่างน้อยที่สุดหนึ่งปลาย,ที่เรียกว่าพื้นผิวด้านล่างมียอดแหลมอย่างน้อยที่สุดหนึ่งยอด,โดยที่ยอดแหลมอย่างน้อยที่สุดหนึ่งยอดจะอยู่ตรงกันข้ามกันที่เรียกว่าปลายแหลมอย่างน้อยที่สุดหนึ่งปลาย,และในที่นี้ส่วนของพื้นผิวของที่เรียกยอดแหลมอย่างน้อยที่สุดส่วนหนึ่งจะเว้าเข้าและในที่นี้ที่เรียกว่ายอดแหลมอย่างน้อยที่สุดหนึ่งยอดจะใช้สำหรับการปล่อยที่เรียกว่าอิเล็กตรอน,และ (d)การกำจัดที่เรียกว่าวัสดุฐานรองอย่างน้อยที่สุดส่วนหนึ่งกับที่เรียกว่าวัสดุอันดับแรกอย่างน้อยที่สุดส่วนหนึ่งออกไปเพื่อเปิดเผยที่เรียกว่ายอดแหลมของที่เรียกว่าวัสดุอิเล็กตรอนอย่าสงน้อยที่สุดส่วนหนึ่งและโดยลักษณะนี้เป็นการก่อรูปที่เรียกว่าโครงสร้างของแคโทดปล่อยสนามอย่างน้อยที่สุดหนึ่งโครงสร้าง
79.โครงสร้างแคโทดปล่อยสนามของข้อถือสิทธิข้อที่ 78, ในที่นี้ที่เรียกว่าชั้นปล่อยอิเล็กตรอนเป็นโครงสร้างที่มีหลายชั้น
80.โครงสร้างแคโทดปล่อยสนามของข้อถือสิทธิข้อที่ 78, โดยที่ยอดแหลมของที่เรียกว่าชั้นปล่อยอิเล็กตรอนอย่างน้อยที่สุดหนึ่งยอดเป็นโครงสร้างที่มีหลายชั้น
81.โครงสร้างแคโทดปล่อยสนามของข้อถือสิทธิข้อที่ 78,ในที่นี้ที่เรียกว่าชั้นปล่อยอิเล็กตรอนยังประกอบเพิ่มเติมด้วยชั้นรองรับ.
82.โครงสร้างแคโทดปล่อยสนามของข้อถือสิทธิข้อที่ 78,ยังประกอบเพิ่มเติมด้วยวัสดุนำไฟฟ้าอย่างน้อยที่สุดหนึ่งชนิดไว้บนด้านที่เป็นยอดแหลมของชั้นปล่อยอิเล็กตรอน ซึ่งจะแยกออกจากที่เรียกว่าชั้นปล่อยอิเล็กตรอนด้วยวัสดุฉนวนอย่างน้อยที่สุดหนึ่งชนิดโดยที่เรียกว่ายอดแหลมที่เป็นตัวปล่อยจะเผยออกอย่างน้อยที่สุดหนึ่งยอด
83.โครงสร้างแคโทดปล่อยสนามของข้อถือสิทธิข้อที่ 82,ในที่นี้ที่เรียกว่าชั้นปล่อยอิเล็กตรอนเป็นโครงสร้างที่มีหลายชั้น
84.โครงสร้างแคโทดปล่อยสนามของข้อถือสิทธิข้อที่ 82,ในที่นี้ ยอดแหลมของที่เรียกว่าชั้นปล่อยอิเล็กตรอนอย่างน้อยที่สุดหนึ่งยอดเป็นโครงสร้างที่มีหลายชั้น
85.โครงสร้างแคโทดปล่อยสนามของข้อถือสิทธิข้อที่ 82,ในที่นี้เรียกว่าชั้นปล่อยอิเล็กตรอนยังประกอบเพิ่มเติมด้วยชั้นรองรับ
86.โครงสร้างแคโทดปล่อยสนามของข้อถือสิทธิข้อที่ 78,ยังประกอบเพิ่มเติมด้วยวัสดุนำไฟฟ้ากลุ่มหนึ่งบนด้านที่เป็นยอดแหลมของชั้นปล่อยอิเล็กตรอน, ชั้นของวัสดุนำไฟฟ้าแต่ละชั้นจะแยกออกจากกันและกัน และแยกออกจากที่เรียกว่าชั้นปล่อยอิเล็กตรอนด้วยวัสดุฉนวนอย่างน้อยที่สุดหนึ่งชนิดโดยที่ที่เรียกว่ายอดแหลมที่เป็นตัวปล่อยจะเผยออกอย่างน้อยที่หนึ่งยอด
87.โครงสร้างแคโทดปล่อยสนามของข้อถือสิทธิข้อที่ 86, ในที่นี้ที่เรียกว่าชั้นปล่อยอิเล็กตรอนเป็นโครงสร้างที่มีหลายชั้น
88.โครงสร้างแคโทดปล่อยสนามของข้อถือสิทธิข้อที่ 86, ในที่นี้ยอดแหลมของที่เรียกว่าชั้นปล่อยอิเล็กตรอนอย่างน้อยที่สุดหนึ่งยอดเป็นโครงสร้างที่มีหลายชั้น
89.โครงสร้างแคโทดปล่อยสนามของข้อถือสิทธิข้อที่ 86, ในที่นี้ที่เรียกว่าชั้นปล่อยอิเล็กตรอนยังประกอบเพิ่มเติมด้วยชั้นรองรับ
90.โครงสร้างแคโทดปล่อยสนามของข้อถือสิทธิข้อที่ 78, ยังประกอบเพิ่มเติมด้วยชั้นขวางกั้นอย่างน้อยที่สุดหนึ่งชั้นบนด้านที่เป็นยอดแหลมของชั้นปล่อยอิเล็กตรอน,ซึ่งจะกำจัดออกไปแบบเลือกได้เพื่อเปิดเผยที่เรียกว่ายอดแหลม
91.โครงสร้างแคโทดปล่อยสนามของข้อถือสิทธิข้อที่ 90, ในที่นี้เรียกว่าชั้นปล่อยอิเล็กตรอนเป็นโครงสร้างที่มีหลายชั้น
92.โครงสร้างแคโทดปล่อยสนามของข้อถือสิทธิข้อที่ 90, ในที่นี้ยอดแหลมของที่เรียกว่าชั้นปล่อยอิเล็กตรอนอย่างน้อยที่สุดหนึ่งยอดเป็นโครงสร้างที่มีหลายชั้น
93.โครงสร้างแคโทดปล่อยสนามของข้อถือสิทธิข้อที่ 90, ในที่นี้ที่เรียกว่าชั้นปล่อยอิเล็กตรอนยังประกอบเพิ่มเติมด้วยชั้นรองรับ
94.โครงสร้างแคโทดปล่อยสนามของข้อถือสิทธิข้อที่ 78, ในที่นี้เรียกว่ายอดแหลมมีชั้นผิวเคลือบที่เป็นวัสดุปล่อยอิเล็กตรอน
95.โครงสร้างแคโทดปล่อยสนามของข้อถือสิทธิข้อที่ 78, ในที่นี้ที่เรียกว่ายอดแหลมจะลับให้คม,
96.โครงสร้างแคโทดปล่อยสนามของข้อถือสิทธิข้อที่ 78, ในที่นี้ที่เรียกว่ายอดแหลมจะใช้เป็นแหล่งกำเนิดอิเล็กตรอน
97.โครงสร้างแคโทดปล่อยสนามของข้อถือสิทธิข้อที่ 78, ในที่นี้ยอดแหลมอย่างน้อยที่สุดหนึ่งยอดจะแยกออกไฟฟ้าจากยอดแหลมอื่น
98.โครงสร้างแคโทดปล่อยสนามของข้อถือสิทธิข้อที่ 78, ในที่นี้ยอดแหลมอย่างน้อยที่สุดหนึ่งยอดจะเชื่อมต่อทางไฟฟ้ากับส่วนประกอบอิเล็กทรอ นิกส์อื่น
99.โครงสร้างแคโทดปล่อยสนามของข้อถือสิทธิข้อที่ 78, ในที่นี้ที่เรียกว่ายอดแหลมจะใช้ในอุปกรณ์แสดงผลเชิงอิเล็กทรอนิกส์,
100.โครงสร้างแคโทดปล่อยสนามของข้อถือสิทธิข้อที่ 78, ในที่นี้ที่เรียกว่ายอดแหลมที่มีรูปโครงร่าง เป็นแบบจุดหรือเป็นแบบใบมีด
101.โครงสร้างแคโทดปล่อยสนามของข้อถือสิทธิข้อที่ 78, ในที่นี้ที่เรียกว่าวัสดุปล่อยอิเล็กตรอนคัดเลือกมาจากกลุ่มซึ่งประกอบด้วย mo,w,Ta,Re,Pt,Au,Ag,Al,Cu,Nb,Ni,Cr,Ti,Zr,Hf และ โลหะผสมของวัสดุเหล่านี้ หรือสารละลายของของแข็งซึ่งประกอบด้วยธาตุเหล่านี้สองชนิดหรือมากกว่า
102.โครงสร้างแคโทดปล่อยสนามของข้อถือสิทธิข้อที่ 78, ในที่นี้ที่เรียกว่าวัสดุปล่อนอิเล็กตรอนคัดเลือกมาจากกลุ่มซึ่งประกอบด้วยสารกึ่งตัวนำที่ผ่านการเจือป่นแล้ว และสารกึ่งตัวนำที่ยังไม่มีการเจือปน
103.โครงสร้างแคโทดปล่อยสนามของข้อถือสิทธิข้อที่ 78, ในที่นี้ที่เรียกว่าวัสดุอันดับแรกอย่างน้อยที่สุดเป็นวัสดุที่มีหลายชั้น
104.โครงสร้างแคโทดปล่อยสนามของข้อถือสิทธิข้อที่ 103, ในที่นี้ชั้นของที่เรียกว่าวัสดุที่มีหลายชั้นอย่างน้อยที่สุดหนึ่งชั้นเป็นวัสดุขวางกั้น
105.โครงสร้างแคโทดปล่อยสนามของข้อถือสิทธิข้อที่ 78, ในที่นี้ที่เรียกว่าโครงสร้างมีแคโทดอย่างน้อยที่สุดสองแคโทดและในที่นี้อย่างน้อยที่สุดส่วนหนึ่งของแคโทดอันหนึ่งจะแยกออกทางไฟฟ้าจากส่วนหนึ่งของแคโทอันที่สอง
106.โครงสร้างแคโทดปล่อยสนามของข้อถือสิทธิข้อที่ 78, ในที่นี้ที่เรียกว่าโครงสร้างจะมีแคโทดอย่างน้อยที่สุดสองแคโทดและในที่นี้อย่างน้อยที่สุดส่วนหนึ่งของแคโทดอันหนึ่งจะเชื่อมต่อทางไฟฟ้ากับส่วนหนึ่งของแคโทดอันที่สอง
107.โครงสร้างแคโทดปล่อยสนามประกอบด้วยชั้นของวัสดุอย่างน้อยที่สุดหนึ่งชั้นซึ่งสามารถปล่อยอิเล็กตรอนภายใต้อิทธิพลของสนามไฟฟ้า,และมียอดแหลมสำหรับการปล่อยอิเล็กตรอนอย่างน้อยที่สุดหนึ่งยอดที่ก่อรูปขึ้นด้วยกระบวนการซึ่งประกอบด้วยขั้นตอนของ: (a)ทำการก่อขึ้นรูปชั้นของวัสดุนำไฟฟ้าอย่างน้อยที่สุดหนึ่งชั้นไว้บนชั้นฐาน, (b)ทำการก่อขึ้นรูปรูอย่างน้อยที่สุดหนึ่งรูอย่างน้อยที่สุดทะลุผ่านที่เรียกว่าชั้นนำไฟฟ้าอย่างน้อยที่สุดหนึ่งชั้น, (c)ทำการพอกพูนวัสดุฉนวนอย่างน้อยที่สุดหนึ่งชนิดไว้บนที่เรียกว่าชั้นนำไฟฟ้าอย่างน้อยที่สุดหนึ่งชั้นและทำการเติมอย่างน้อยที่สุดส่วนหนึ่งของที่เรียกว่ารูให้เพียงพอต่อการก่อขึ้นรูปปลายแหลม, (d)ทำการพอกพูนชั้นของวัสดุอย่างน้อยที่สุดหนึ่งชั้น ซึ่งสามารถปล่อยอิเล็กตรอนภายใต้อิทธิพลของสนามไฟฟ้า,บนที่เรียกว่าวัสดุฉนวนอย่างน้อยที่สุดหนึ่งชนิดของขั้นตอน(e),และทำการเติมอย่างน้อยที่สุดส่วนหนึ่งของที่เรียกว่าปลายแหลมเพื่อก่อขึ้นรูปที่เรียกว่าชั้นปล่อยอิเล็กตรอน อย่างน้อยที่สุดหนึ่งชั้น,ในที่นี้ที่เรียกว่าชั้นปล่อยอิเล็กตรอนมีพื้นผิวด้านบนกับพื้นผิวด้านล่าง,ที่เรียกว่าพื้นผิวด้านบนมีปลายแหลมที่สองอย่างน้อยที่สุดหนึ่งยอดจะอยู่ตรงกันข้ามกันที่เรียกว่าปลายแหลมที่สองอย่างน้อยที่สุดหนึ่งปลาย,และในที่นี้อย่างน้อยที่สุดส่วนหนึ่งของพื้นผิวของที่เรียกว่ายอดแหลมจะเว้าเข้าและในที่นี้ที่เรียกว่ายอดแหลมอย่างน้อยที่สุดหนึ่งยอดจะใช้สำหรับการปล่อยอิเล็กตรอนดังกล่าว,และ (e)การกำจัดที่เรียกว่าวัสดุที่อยู่ใต้ที่เรียกว่ายอดแหลมออกไปอย่างน้อยที่สุดส่วนหนึ่งเพื่อเปิดเผยที่เรียกว่ายอดแหลมของที่เรียกว่าวัสดุปล่อยอิเล็กตรอนอย่างน้อยที่สุดส่วนหนึ่งและโดยวิธีการนี้การก่อขึ้นรูปโครงสร้างของแคโทดปล่อยสนามอย่างน้อยที่สุดหนึ่งโครงสร้าง
108.โครงสร้างแคโทดปล่อยสนามของข้อถือสิทธิข้อที่ 107, ในที่นี้ที่เรียกว่าวัสดุปล่อยอิเล็กตรอนคัดเลือกมาจากกลุ่มซึ่งประกอบด้วย mo,w,Ta,Re,Pt,Au,Ag,Al,Cu,Nb,Ni,Cr,Ti,Zr,Hf และ โลหะผสมของวัสดุเหล่านี้ หรือสารละลายของของแข็งซึ่งประกอบด้วยธาตุเหล่านี้สองชนิดหรือมากกว่า
109.โครงสร้างแคโทดปล่อยสนามของข้อถือสิทธิข้อที่ 107, ในที่นี้ที่เรียกว่าวัสดุฉนวนจะคัดเลือกมาจากกลุ่มซึ่งประกอบด้วยแซปไฟร์,แก้วหรือออกไซด์ของ Si,Al,Mg และ Ce
110.โครงสร้างแคโทดปล่อยสนามของข้อถือสิทธิข้อที่ 107, ในที่นี้ที่เรียกว่าวัสดุปล่อยอิเล็กตรอนจะคัดเลือกมาจากกลุ่มซึ่งประกอบด้วยสารกึ่งตัวนำที่ผ่านการเจือปนแล้วและสารกึ่งตัวนำที่ยังไม่มีการเจือปน
111.โครงสร้างแคโทดปล่อยสนามของข้อถือสิทธิข้อที่ 107, ในที่นี้ที่เรียกว่าวัสดุฉนวนอย่างน้อยที่สุดหนึ่งชนิดเป็นวัสดุที่มีหลายชั้น
112.โครงสร้างแคโทดปล่อยสนามของข้อถือสิทธิข้อที่ 111, โดยที่ชั้นของที่เรียกว่าวัสดุที่มีหลายชั้นอย่างน้อยที่สุดหนึ่งชั้นเป็นวัสดุขวางกั้น
113.โครงสร้างแคโทดปล่อยสนามของข้อถือสิทธิข้อที่ 107, ในที่นี้ที่เรียกว่าโครงสร้างจะมีแคโทดอย่างน้อยที่สุดสองแคโทดและในที่นี้อย่างน้อยที่สุดส่วนหนึ่งของแคโทดอันหนึ่งจะแยกออกทางไฟฟ้าจากส่วนหนึ่งของแคโทดอันที่สอง
114.โครงสร้างแคโทดปล่อยสนามของข้อถือสิทธิข้อที่ 107, ในที่นี้ที่เรียกว่าโครงสร้างจะมีแคโทดอย่างน้อยที่สุดสองแคโทดและในที่นี้อย่างน้อยที่สุดส่วนหนึ่งของแคโทดอันหนึ่งจะเชื่อมต่อทางไฟฟ้าจากส่วนหนึ่งของแคโทดอันที่สอง
115.โครงสร้างแคโทดปล่อยสนามของข้อถือสิทธิข้อที่ 107, โดยที่อย่างน้อยที่สุดส่วนหนึ่งของที่เรียกว่าวัสดุฉนวนอย่างน้อยที่สุดหนึ่งชนิดซึ่งปิดคลุมพื้นผิวของผนังของที่เรียกว่าวัสดุนำไฟฟ้าอย่างน้อยที่สุดหนึ่งชนิดที่อยู่ชิดกันที่เรียกว่าวัสดุปล่อยอิเล็กตรอนที่เผยออกจะได้รับการกำจัดออกไป
116.โครงสร้างแคโทดปล่อยสนามประกอบด้วยชั้นของวัสดุอย่างน้อยที่สุดหนึ่งชั้นซึ่งสามารถปล่อยอิเล็กตรอนภายใต้อิทธิพลของสนามไฟฟ้า,และมียอดแหลมสำหรับการปล่อยอิเล็กตรอนอย่างน้อยที่สุดหนึ่งยอดที่ก่อรูปขึ้นด้วยกระบวนการซึ่งประกอบด้วยขั้นตอนของ: (a)ทำการก่อขึ้นรูปชั้นของวัสดุนำไฟฟ้าอย่างน้อยที่สุดหนึ่งชั้นไว้บนชั้นฐาน,โดยที่ชั้นของวัสดุนำไฟฟ้าดังกล่าวแต่ละชั้นจะแยกออกจากกันด้วยวัสดุฉนวน (b)ทำการก่อขึ้นรูปรูอย่างน้อยที่สุดหนึ่งรูอย่างน้อยที่สุดทะลุผ่านที่เรียกว่าชั้นนำไฟฟ้า, (c)ทำการพอกพูนวัสดุฉนวนอย่างน้อยที่สุดหนึ่งชนิดไว้บนที่เรียกว่าชั้นนำไฟฟ้าอย่างน้อยที่สุดหนึ่งชั้นและทำการเติมอย่างน้อยที่สุดส่วนหนึ่งของที่เรียกว่ารูให้เพียงพอต่อการก่อขึ้นรูปปลายแหลม, (d)ทำการพอกพูนชั้นของวัสดุอย่างน้อยที่สุดหนึ่งชั้น ซึ่งสามารถปล่อยอิเล็กตรอนภายใต้อิทธิพลของสนามไฟฟ้า,บนที่เรียกว่าวัสดุฉนวนอย่างน้อยที่สุดหนึ่งชนิดของขั้นตอน(c),และทำการเติมอย่างน้อยที่สุดส่วนหนึ่งของที่เรียกว่าปลายแหลมเพื่อก่อขึ้นรูปที่เรียกว่าชั้นปล่อยอิเล็กตรอนอย่างน้อยที่สุดหนึ่งชั้น,ในที่นี้ที่เรียกว่าชั้นปล่อยอิเล็กตรอนมีพื้นผิวด้านบนกับพื้นผิวด้านล่าง,ที่เรียกว่าพื้นผิวด้านบนมีปลายแหลมที่สองอย่างน้อยที่สุดหนึ่งยอดจะอยู่ตรงกันข้ามกันที่เรียกว่าปลายแหลมที่สองอย่างน้อยที่สุดหนึ่งปลาย,และในที่นี้อย่างน้อยที่สุดส่วนหนึ่งของพื้นผิวของที่เรียกว่ายอดแหลมจะเว้าเข้าและในที่นี้ที่เรียกว่ายอดแหลมอย่างน้อยที่สุดหนึ่งยอดจะใช้สำหรับการปล่อยอิเล็กตรอนดังกล่าว,และ (e)การกำจัดที่เรียกว่าวัสดุที่อยู่ใต้ที่เรียกว่ายอดแหลมออกไปอย่างน้อยที่สุดส่วนหนึ่งเพื่อเปิดเผยที่เรียกว่ายอดแหลมของที่เรียกว่าวัสดุปล่อยอิเล็กตรอนอย่างน้อยที่สุดส่วนหนึ่งและโดยวิธีการนี้การก่อขึ้นรูปโครงสร้างของแคโทดปล่อยสนามอย่างน้อยที่สุดหนึ่งโครงสร้าง
117.โครงสร้างแคโทดปล่อยสนามของข้อถือสิทธิข้อที่ 116, ในที่นี้ที่เรียกว่าวัสดุปล่อยอิเล็กตรอนคัดเลือกมาจากกลุ่มซึ่งประกอบด้วย mo,w,Ta,Re,Pt,Au,Ag,Al,Cu,Nb,Ni,Cr,Ti,Zr,Hf และ โลหะผสมของวัสดุเหล่านี้ หรือสารละลายของของแข็งซึ่งประกอบด้วยธาตุเหล่านี้สองชนิดหรือมากกว่า
118.โครงสร้างแคโทดปล่อยสนามของข้อถือสิทธิข้อที่ 116, ในที่นี้ที่เรียกว่าวัสดุฉนวนจะคัดเลือกมาจากกลุ่มซึ่งประกอบด้วยแซปไฟร์,แก้วหรือออกไซด์ของ Si,Al,Mg และ Ce
119.โครงสร้างแคโทดปล่อยสนามของข้อถือสิทธิข้อที่ 116, ในที่นี้ที่เรียกว่าวัสดุปล่อยอิเล็กตรอนจะคัดเลือกมาจากกลุ่มซึ่งประกอบด้วยสารกึ่งตัวนำที่ผ่านการเจือปนแล้วและสารกึ่งตัวนำที่ยังไม่มีการเจือปน
120.โครงสร้างแคโทดปล่อยสนามของข้อถือสิทธิข้อที่ 116, ในที่นี้ที่เรียกว่าวัสดุฉนวนอย่างน้อยที่สุดหนึ่งชนิดเป็นวัสดุที่มีหลายชั้น
121.โครงสร้างแคโทดปล่อยสนามของข้อถือสิทธิข้อที่ 120, ในที่ชั้นของที่เรียกว่าวัสดุที่มีหลายชั้นอย่างน้อยที่สุดหนึ่งชั้นเป็นวัสดุขวางกั้น
122.โครงสร้างแคโทดปล่อยสนามของข้อถือสิทธิข้อที่ 116, ในที่นี้ที่เรียกว่าโครงสร้างมีแคโทดอย่างน้อยที่สุดสองแคโทดและในที่นี้อย่างน้อยที่สุดส่วนหนึ่งของแคโทดอันหนึ่งจะแยกออกทางไฟฟ้าจากส่วนหนึ่งของแคโทอันที่สอง
123.โครงสร้างแคโทดปล่อยสนามของข้อถือสิทธิข้อที่ 116, ในที่นี้ที่เรียกว่าโครงสร้างจะมีแคโทดอย่างน้อยที่สุดสองแคโทดและในที่นี้อย่างน้อยที่สุดส่วนหนึ่งของแคโทดอันหนึ่งจะเชื่อมต่อทางไฟฟ้าจากส่วนหนึ่งของแคโทดอันที่สอง
124.โครงสร้างแคโทดปล่อยสนามของข้อถือสิทธิข้อที่ 116, โดยที่อย่างน้อยที่สุดส่วนหนึ่งของที่เรียกว่าวัสดุฉนวนอย่างน้อยที่สุดหนึ่งชนิดซึ่งปิดคลุมพื้นผิวของผนังของที่เรียกว่าวัสดุนำไฟฟ้าอย่างน้อยที่สุดหนึ่งชนิดที่อยู่ชิดกันที่เรียกว่าวัสดุปล่อยอิเล็กตรอนที่เผยออกจะได้รับการกำจัดออกไป
125.โครงสร้างแคโทดปล่อยสนามประกอบด้วยชั้นของวัสดุอย่างน้อยที่สุดหนึ่งชั้นซึ่งสามารถปล่อยอิเล็กตรอนภายใต้อิทธิพลของสนามไฟฟ้า,และมียอดแหลมสำหรับการปล่อยอิเล็กตรอนอย่างน้อยที่สุดหนึ่งยอด,ในที่นี้ที่เรียกว่าชั้นปล่อยอิเล็กตรอนมีพื้นผิวด้านบนกับพื้นผิวด้านล่าง,ที่เรียกว่าพื้นผิวด้านบนมีปลายแหลมที่สองอย่างน้อยที่สุดหนึ่งปลาย ที่เรียกว่าพื้นผิวด้านล่างมียอดแหลมอย่างน้อยที่สุดหนึ่งยอด,โดยที่ยอดแหลมอย่างน้อยที่สุดหนึ่งยอดจะอยู่ตรงกันข้ามกับที่เรียกว่าปลายแหลมที่สองอย่างน้อยที่สุดหนึ่งปลาย,และในที่นี้อย่างน้อยที่สุดส่วนหนึ่งของพื้นผิวของที่เรียกว่ายอดแหลมจะเว้าเข้าและในที่นี้ที่เรียกว่ายอดแหลมอย่างน้อยที่สุดหนึ่งยอดจะใช้สำหรับการปล่อยอิเล็กตรอนดังกล่าว,และโดยลักษณะนี้เป็นการก่อขึ้นรูปที่เรียกว่าโครงสร้างของแคโทดปล่อยสนามอย่างน้อยที่สุดหนึ่งโครงสร้าง
126.โครงสร้างแคโทดปล่อยสนามของข้อถือสิทธิข้อที่ 125, ในที่นี้ที่เรียกว่าวัสดุปล่อยอิเล็กตรอนคัดเลือกมาจากกลุ่มซึ่งประกอบด้วย mo,w,Ta,Re,Pt,Au,Ag,Al,Cu,Nb,Ni,Cr,Ti,Zr,Hf และ โลหะผสมของวัสดุเหล่านี้ หรือสารละลายของของแข็งซึ่งประกอบด้วยธาตุเหล่านี้สองชนิดหรือมากกว่า
127.โครงสร้างแคโทดปล่อยสนามของข้อถือสิทธิข้อที่ 125, ในที่นี้ที่เรียกว่าวัสดุปล่อยอิเล็กตรอนจะคัดเลือกมาจากกลุ่มซึ่งประกอบด้วยสารกึ่งตัวนำที่ผ่านการเจือปนแล้วและสารกึ่งตัวนำที่ยังไม่มีการเจือปน
128.โครงสร้างแคโทดปล่อยสนามของข้อถือสิทธิข้อที่ 125, ในที่นี้ที่เรียกว่ายอดแหลมที่มีรูปโครงร่าง เป็นแบบจุดหรือรูปโครงร่างแบบใบมีด
TH9001001807A 1990-12-07 โครงสร้างและกรรมวิธีเพื่อการประดิษฐ์แคโทดปล่อย?สนาม TH11064A (th)

Publications (1)

Publication Number Publication Date
TH11064A true TH11064A (th) 1992-05-01

Family

ID=

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US5203731A (en) Process and structure of an integrated vacuum microelectronic device
EP0544663B1 (en) Process and structure of an integrated vacuum microelectronic device
US5151061A (en) Method to form self-aligned tips for flat panel displays
US6204596B1 (en) Filamentary electron-emission device having self-aligned gate or/and lower conductive/resistive region
US5057047A (en) Low capacitance field emitter array and method of manufacture therefor
US5562516A (en) Field-emitter fabrication using charged-particle tracks
US5150192A (en) Field emitter array
EP0379298B1 (en) Method of forming an electrode for an electron emitting device
US5315206A (en) Electron emission elements integrated substrate
US4253221A (en) Method of producing low voltage field emission cathode structure
EP0520780A1 (en) Fabrication method for field emission arrays
KR20010030783A (ko) 전해조 내에서 스스로 동작하는 갈바니 작용을 이용한재료의 선택적 제거방법
JP2000500266A (ja) 電界エミッタ装置、およびそれを製作するためのベールプロセス
CN1021389C (zh) 用于制造场致发射阴极的方法
KR20000016555A (ko) 게이트 개구부를 한정하기 위해 분사 입자를 이용하는 게이트제어된 전자방출 장치 및 그 제조방법
US5624872A (en) Method of making low capacitance field emission device
US5145435A (en) Method of making composite field-emitting arrays
JP3832840B2 (ja) 電界放射ディスプレイのためのゲート化されたフィラメント構造の製造方法
US5981304A (en) Self-alignment process usable in microelectronics, and application to creating a focusing grid for micropoint flat screens
JP3084768B2 (ja) 電界放出型陰極装置
JPH08148083A (ja) フィールドエミッタの表面改質方法
US5202602A (en) Metal-glass composite field-emitting arrays
CA2085981C (en) Process and structure of an integrated vacuum microelectronic device
JPH11213864A (ja) 電界放出型冷陰極及びその製造方法
JP2800706B2 (ja) 電界放射型冷陰極の製造方法