TH11064A - โครงสร้างและกรรมวิธีเพื่อการประดิษฐ์แคโทดปล่อย?สนาม - Google Patents
โครงสร้างและกรรมวิธีเพื่อการประดิษฐ์แคโทดปล่อย?สนามInfo
- Publication number
- TH11064A TH11064A TH9001001807A TH9001001807A TH11064A TH 11064 A TH11064 A TH 11064A TH 9001001807 A TH9001001807 A TH 9001001807A TH 9001001807 A TH9001001807 A TH 9001001807A TH 11064 A TH11064 A TH 11064A
- Authority
- TH
- Thailand
- Prior art keywords
- field
- called
- emitting
- cathode structure
- layer
- Prior art date
Links
Abstract
การประดิษฐ์นี้เกี่ยวข้องโดยทั่วไปกับโครงสร้างใหม่สำหรับแคโทดปล่อยสนามและกรรมวิธีเพื่อประดิษฐ์มันการปล่อยสนามถูกกระทำโดยวัสดุใด ๆที่สามารถปล่อยอิเล็กตรอนออกภายใต้อิทธิพลของศักย์ไฟฟ้า แคโทดปล่อยสนามมีโครงสร้างสามมิติที่ไม่เหมือนใครหลายอย่างโครงสร้างพื้นฐานประกอบด้วยชั้นวัสดุกับยอดของแทโทด สำหรับโครงสร้างที่ซับซ้อนยิ่งขึ้นยอดของแคโทดถูกจัดของอย่างแม่นยำในโครงสร้างอิเล็กโทรดกำเนิด/ควบคุมในสภาพแวดล้อมสูญญากาศโครงสร้างตามการประดิษฐ์นี้จะถูกประดิษฐ์ในถูกต่อกับแคโทดปล่อยสนามที่คล้ายกันหรือกับอุปกรณ์อิเล็กทรอนิกส์อื่น ๆ
Claims (128)
1.กรรมวิธีในการทำโครงสร้างแคโทดปล่อยสนามอย่างน้อยหนึ่งตัวที่ประกอบด้วยขั้นตอนของ ก) การจัดเตรียมรูอย่างน้อยหนึ่งรูในฐาน ข) การวางนอนอย่างน้อยชั้นวัสดุอันดับแรกและการเติมให้เต็มอย่างน้อยส่วนหนึ่งของรูดังกล่าวให้พอที่จะขึ้นรูปปลายแหลม ค) การวางนอนอย่างน้อยชั้นหนึ่งของวัสดุสามารถปล่อยอิเล็กตรอนออกภายในอิทธิพลของสนามไฟฟ้า และการเติมให้เต็มอย่างน้อยส่วนหนึ่งของยอดของปลายแหลมดังกล่าว และ ง) การเอาวัสดุอันดับแรกดังกล่าวออกจากข้างใต้ปลายแหลมเพื่อเปิดให้เห็นอย่างน้อยส่วนหนึ่งของยอดแหลมของวัสดุปล่อยอิเล็กตรอนดังกล่าวและที่โดยเหตุนี้ขึ้นรูปโครงสร้างแคโทดปล่อยสนามอย่างน้อยหนึ่งตัวดังกล่าว
2.กรรมวิธีตามข้อถือสิทธิข้อ 1 ในที่ซึ่งฐานดังกล่าวเป็นโครงสร้างชั้นเดียว
3.กรรมวิธีตามข้อถือสิทธิข้อ 1 ในที่ซึ่งฐานดังกล่าวเป็นโครงสร้างมากชั้น
4.กรรมวิธีตามข้อถือสิทธิข้อ 3 ในที่ซึ่งโครงสร้างมากชั้นดังกล่าวประกอบด้วยชั้นที่สลับกันของฉนวนกับวัสดุนำไฟฟ้า
5.กรรมวิธีตามข้อถือสิทธิข้อ 1 ในที่ซึ่งรูดังกล่าวถูกสร้างขึ้นโดยกรรมวิธีที่เลือกมาจากกลุ่มที่ประกอบด้วยการขูด การเจาะ การกัดน้ำยา การเซาะด้วยอิออน การตัดอกหรือการหล่อแบบ
6.กรรมวิธีตามข้อถือสิทธิข้อ 1 ในที่ซึ่งรูดังกล่าวถูกกัดโดยใช้เทคนิคการกัดที่เลือกมาจากกลุ่มที่ประกอบด้วย การกัดแบบแอนิโซโทรบิก การกัดแบบลำอิออน การกัดแบบไอโซโทรบิก การกัดแบบอิออนรีแอคทีฟ การกัดด้วยพลาสมาหรือการกัดแบบเบียก
7.กรรมวิธีตามข้อถือสิทธิข้อ 1 ในที่ซึ่งวัสดุอันดับแรกดังกล่าวถูกวางนอนเข้ารูป
8.กรรมวิธีตามข้อถือสิทธิข้อ 1 ในที่ซึ่งวัสดุอันดับแรกดังกล่าวเป็นฉนวนไฟฟ้า
9.กรรมวิธีตามข้อถือสิทธิข้อ 1 ในที่ซึ่งวัสดุอันดับแรกดังกล่าวเป็นสารกึ่งตัวนำ
10.กรรมวิธีตามข้อถือสิทธิข้อ 1 ในที่ซึ่งวัสดุอันดับแรกดังกล่าวเป็นวัสดุนำไฟฟ้า
11.กรรมวิธีตามข้อถือสิทธิข้อ 1 ในที่ซึ่งวัสดุอันดับแรกดังกล่าวประกอบด้วยชั้นหลายชั้น
12.กรรมวิธีตามข้อถือสิทธิข้อ 1 ในที่ซึ่งวัสดุอันดับแรกดังกล่าวประกอบด้วยชั้นปลดปล่อย
13.กรรมวิธีตามข้อถือสิทธิข้อ 1 ในที่ซึ่งวัสดุอันดับแรกดังกล่าวเป็นวัสดุชั้นเดียว
14.กรรมวิธีตามข้อถือสิทธิข้อ 1 ในที่ซึ่งวัสดุอิเล็กตรอนดังกล่าวเป็นหลายชั้น
15.กรรมวิธีตามข้อถือสิทธิข้อ 1 ในที่ซึ่งวัสดุอันดับแรกดังกล่าวข้างใต้ปลายแหลมถูกเอาออกโดยกรรมวิธีที่เลือกมาจากกลุ่มที่ประกอบด้วยการละลาย การกัดการระเหย การหลอมเหลวหรือการขัดออก
16.กรรมวิธีตามข้อถือสิทธิข้อ 1 ในที่ซึ่งฐานทั้งหมดข้างใต้ชั้นวัสดุปล่อยอิเล็กตรอนถูกเอาออกอย่างสมบูรณ์
17.กรรมวิธีตามข้อถือสิทธิข้อ 16 ในที่ซึ่งวัสดุอันดับแรกดังกล่าวทั้งหมดข้างใต้วัสดุปล่อยอิเล็กตรอนถูกเอาออกโดยสมบูรณ์
18.กรรมวิธีตามข้อถือสิทธิข้อ 1 ในที่ซึ่งรูดังกล่าวมีเค้าโครงที่ขนาดรูคงที่ตามความลึก
19.กรรมวิธีตามข้อถือสิทธิข้อ 1 ในที่ซึ่งรูดังกล่าวมีเค้าโครงที่ขนาดรูแบ่งมันตามความลึก
20.กรรมวิธีตามข้อถือสิทธิข้อ 1 ในที่ซึ่งชั้นขวางกั้นถูกสร้างขึ้นก่อนการวางนอนวัสดุปล่อยอิเล็กตรอนดังกล่าว
21.กรรมวิธีตามข้อถือสิทธิข้อ 20 ในที่ซึ่งชั้นขวางกั้นดังกล่าวถูกเอาออกได้ตามการเลือก
22.กรรมวิธีตามข้อถือสิทธิข้อ 1 ในที่ซึ่งยอดแหลมดังกล่าวถูกเคลือบด้วยวัสดุปล่อยอิเล็กตรอน
23.กรรมวิธีตามข้อถือสิทธิข้อ 1 ในที่ซึ่งยอดแหลมดังกล่าวถูกกลับให้คมตามการเลือกด้วยกรรมวิธีที่เลือกมาจากกลุ่มที่ประกอบด้วยการกัดช้าแบบไอโซโทรบิดหรือการออกซิเดชัน
24.กรรมวิธีตามข้อถือสิทธิข้อ 1 ในที่ซึ่งชั้นรองรับถูกสร้างขึ้นบนหลังของโครงสร้างดังกล่าว
25.กรรมวิธีตามข้อถือสิทธิข้อ 1 ในที่ซึ่งปลดปล่อยถูกสร้างขึ้นก่อนการวางนอนวัสดุปล่อยอิเล็กตรอนดังกล่าว
26.กรรมวิธีของการทำโครงสร้างแคโทดปล่อยสนามของข้อถือสิทธิข้อที่ 1, ในที่นี้เรียกว่าวัสดุปล่อยอิเล็กตรอนจะคัดเลือกจากกลุ่มซึ่งประกอบด้วย Mo, W, Ta, Re, Pt, Au, Ag, Al,Cu, Nb, Ni, Cr, Ti, Zr, Hf และโลหะผสมของมัน หรือสารละลายของของแข็งซึ่งประกอบด้วยส่วนประกอบเหล่านี้สองชนิดหรือมากกว่า
27.กรรมวิธีของการทำโครงสร้างแคโทดปล่อยสนามของข้อถือสิทธิข้อที่ 1, ในที่นี้ที่เรียกว่าวัสดุปล่อยอิเล็กตรอนจะคัดเลือกมาจากกลุ่มซึ่งประกอบด้วยสารกึ่งตัวนำที่ผ่านการเจือปนแล้ว และสารกึ่งตัวนำที่ยังไม่มีการเจือปน
28.กรรมวิธีในการทำโครงสร้างแคโทดปล่อยสนามอย่างน้อยหนึ่งตัวที่ประกอบด้วยขั้นตอนของ ก) การขึ้นรูปวัสดุนำไฟฟ้าอย่างน้อยหนึ่งชั้นเหนือชั้นฐาน ข) การขึ้นรูปรูอย่างน้อยหนึ่งรูที่อย่างน้อยทะลุผ่านชั้นตัวนำไฟฟ้าอย่างน้อยหนึ่งชั้นดังกล่าว ค) การวางนอนวัสดุเป็นฉนวนอย่างน้อยหนึ่งตัวเหนือชั้นตัวนำไฟฟ้าอย่างน้อยชั้นดังกล่าวและการเติมให้เติมอย่างน้อยส่วนหนึ่งของรูดังกล่าวให้พอที่จะขึ้นรูปหลายแหลม ง) การวางนอนอย่างน้อยชั้นหนึ่งของวัสดุซึ่งสามารถปล่อยอิเล็กตรอนออกภายใต้อิทธิพลของสนามไฟฟ้าลงเหนือวัสดุเป็นฉนวนดังกล่าวในขั้นตอน (ค) และการเติมให้เต็มอย่างน้อยส่วนหนึ่งของยอดของปลายแหลมดังกล่าว และ จ) การเอาวัสดุข้างใต้ปลายแหลมออกเพื่อเเปิดให้เป็นอย่างน้อยส่วนหนึ่งของวัสดุปล่อยอิเล็กตรอนดังกล่าวและที่โดยเหตุนี้ขึ้นรูปอย่างน้อยโครงสร้างแคโทดปล่อยสนามหนึ่งตัวดังกล่าว
29.กรรมวิธีของการทำโครงสร้างแคโทดปล่อยสนามของข้อถือสิทธิข้อที่ 28, ในที่นี้เรียกว่าวัสดุปล่อยอิเล็กตรอนจะคัดเลือกจากกลุ่มซึ่งประกอบด้วย Mo, W, Ta, Re, Pt, Au, Ag,Al, Cu, Nb, Ni, Cr, Ti, Zr, Hf และโลหะผสมของมัน หรือสารละลายของของแข็งซึ่งประกอบด้วยส่วนประกอบเหล่านี้สองชนิดหรือมากกว่า
30.กรรมวิธีของการทำโครงสร้างแคโทดปล่อยสนามของข้อถือสิทธิข้อที่ 28 ในที่นี้ที่เรียกว่าวัสดุฉนวนจะคัดเลือกมาจากกลุ่มซึ่งประกอบด้วยแซปไฟร์, แก้วหรืออกไซด์ของ Si, Al, Mg และ Ce
31.กรรมวิธีของการทำโครงสร้างแคโทดปล่อยสนามของข้อถือสิทธิข้อที่ 28, ในที่นี้เรียกว่าวัสดุปล่อยอิเล็กตรอน จะคัดเลือกมาจากกลุ่มซึ่งประกอบด้วยสารกึ่งตัวนำที่ผ่านการเจือปนแล้ว และสารกึ่งตัวนำที่ยังไม่มีการเจือปน
32.กรรมวิธีของการทำโครงสร้างแคโทดปล่อยสนามของข้อถือสิทธิข้อที่ 28, ในที่นี้อย่างน้อยที่สุดส่วนหนึ่งของที่เรียกว่าวัสดุฉนวนอย่างน้อยที่สุดหนึ่งชนิดซึ่งปิดคลุมพื้นผิวของผนังของที่เรียกว่าวัสดุนำไฟฟ้าอย่างน้อยที่สุดหนึ่งชนิดที่อยู่ชิดกับที่เรียกว่าวัสดุปล่อยอิเล็กตรอนที่เผยออกจะได้รับการกำจัดออกไป
33.กรรมวิธีของการทำโครงสร้างแคโทดปล่อยสนามของข้อถือสิทธิข้อที่ 28, ในที่นี้ที่เรียกว่ารูในที่เรียกว่าวัสดุฐานรองจะก่อขึ้นโดยกรรมวิธีที่คัดเลือกมาจากกลุ่มซึ่งประกอบด้วยการขูด, การเจาะ, การกัดสลักด้วยน้ำยา, การเซาะด้วยไอออน,การตัดออกหรือการหล่อแบบ
34.กรรมวิธีของการทำโครงสร้างแคโทดปล่อยสนามของข้อถือสิทธิข้อที่ 28, ในที่นี้ที่เรียกว่ารูในที่เรียกว่าวัสดุฐานรองจะผ่านการกัดสลักด้วยน้ำยา,โดยการใช้กลวิธีของการกัดสลักที่คัดเลือกมาจากกลุ่มซึ่งประกอบด้วยการกัดสลักแบบแอบิโซโทรบิก, การกัดสลักด้วยจำไอออน, การกัดสลักแบบไอโซโทรบิก,การกัดสลักด้วยไอออนรีแอคทีฟ, การกัดสลักด้วยพลาสมาหรือการกัดสลักแบบเปียก,
35.กรรมวิธีของการทำโครงสร้างแคโทดปล่อยสนามของข้อถือสิทธิข้อ 28, ในที่นี้ที่เรียกว่าวัสดุอันดับแรกเป็นวัสดุฉนวน
36.กรรมวิธีของการทำโครงสร้างแคโทดปล่อยสนามของข้อถือสิทธิข้อ 28, ในที่นี้ที่เรียกว่าวัสดุอันดับแรกเป็นวัสดุสารกึ่งตัวนำ
37.กรรมวิธีของการทำโครงสร้างแคโทดปล่อยสนามของข้อถือสิทธิข้อ 28, ในที่นี้ที่เรียกว่าวัสดุอันดับแรกเป็นวัสดุนำไฟฟ้า
38.กรรมวิธีของการทำโครงสร้างแคโทดปล่อยสนามของข้อถือสิทธิข้อ 28, ในที่นี้ที่เรียกว่าวัสดุอันดับแรกประกอบด้วยชั้นหลายชั้น
39.กรรมวิธีของการทำโครงสร้างแคโทดปล่อยสนามของข้อถือสิทธิข้อ 28, ในที่นี้ที่เรียกว่าวัสดุอันดับแรกประกอบด้วยชั้นปลดปล่อย
40.กรรมวิธีของการทำโครงสร้างแคโทดปล่อยสนามของข้อถือสิทธิข้อ 28, ในที่นี้ที่เรียกว่าวัสดุปล่อยอิเล็กตรอนเป็นวัสดุที่ทำเป็นชั้นเดียว
41.กรรมวิธีของการทำโครงสร้างแคโทดปล่อยสนามของข้อถือสิทธิข้อ 28, ในที่นี้ที่เรียกว่าวัสดุปล่อยอิเล็กตรอนจะทำให้เป็นชั้นหลายชั้น
42.กรรมวิธีของการทำโครงสร้างแคโทดปล่อยสนามของข้อถือสิทธิข้อ 28, ในที่นี้ที่เรียกว่าวัสดุที่หนึ่งใต้ปลายแหลมจะกำจัดออกไปด้วยกรรมวิธีที่คัดเลือกมาจากกลุ่มซึ่งประกอบด้วย, การละลาย, การกัดสลักด้วยน้ำยา, การระเหย, การหลอมเหลว, หรือการขัดออก
43.กรรมวิธีของการทำโครงสร้างแคโทดปล่อยสนามของข้อถือสิทธิข้อ 28, ในที่นี้วัสดุฐานรองทั้งหมดที่อยู่ใต้ชั้นของวัสดุปล่อยอิเล็กตรอนจะได้รับการกำจัดออกไปโดยสิ้นเชิง
44.กรรมวิธีของการทำโครงสร้างแคโทดปล่อยสนามของข้อถือสิทธิข้อ 43, ในที่นี้ที่เรียกว่าวัสดุอันดับแรกทั้งหมดที่อยู่ใต้วัสดุปล่อยอิเล็กตรอนจะได้รับการกำจัดออกไปโดยสิ้นเชิง
45.กรรมวิธีของการทำโครงสร้างแคโทดปล่อยสนามของข้อถือสิทธิข้อ 28, ในที่นี้ที่เรียกว่ารูในวัสดุฐานรองดังกล่าวมีรูปโครงร่างที่ซึ่งขนาดรูเป็นค่าคงที่ตามความลึก
46.กรรมวิธีของการทำโครงสร้างแคโทดปล่อยสนามของข้อถือสิทธิข้อ 28, ในที่นี้ที่เรียกว่ารูในวัสดุฐานรองดังกล่าวมีรูปโครงร่างที่ซึ่งขนาดของรูปแปรผันความลึก
47.กรรมวิธีของการทำโครงสร้างแคโทดปล่อยสนามของข้อถือสิทธิข้อ 28, ในที่นี้ชั้นขวางกั้นจะก่อรูปขึ้นก่อนการพอกพูนของที่เรียกว่าวัสดุปล่อยอิเล็กตรอน
48.กรรมวิธีของการทำโครงสร้างแคโทดปล่อยสนามของข้อถือสิทธิข้อ 47, ในที่นี้ที่เรียกว่าชั้นขวางกั้นจะกำจัดออกไปแบบเลือกได้
49.กรรมวิธีของการทำโครงสร้างแคโทดปล่อยสนามของข้อถือสิทธิข้อที่ 28, ในที่นี้ที่เรียกว่ายอดแหลมจะเคลือบด้วยวัสดุปล่อยอิเล็กตรอน
50.กรรมวิธีของการทำโครงสร้างแคโทดปล่อยสนามของข้อถือสิทธิข้อที่ 28, ในที่นี้ที่เรียกว่ายอดแหลมจะสับให้คมแบบเลือกได้ด้วยกรรมวิธีที่คัดเลือกมาจากกลุ่มซึ่งประกอบด้วยการกัดสลักด้วยน้ำยาแบบไอโซโทรบิกช้าๆ หรือการออกซิเตชัน
51.กรรมวิธีของการทำโครงสร้างแคโทดปล่อยสนามของข้อถือสิทธิข้อที่ 28, ในที่นี้จะก่อขึ้นรูปชั้นรองรับไว้บนส่วนหลังของโครงสร้างดังกล่าว
52.กรรมวิธีของการทำโครงสร้างแคโทดปล่อยสนามของข้อถือสิทธิข้อที่ 28, ในที่นี้จะก่อขึ้นรูปชั้นปลดปล่อยก่อนการพอกพูนของที่เรียกว่าวัสดุปล่อยอิเล็กตรอน
53.กรรมวิธีในการทำอย่างน้อยโครงสร้างแคโทดปล่อยสนามหนึ่งตัวที่ประกอบด้วยชั้นด้วยขั้นตอนของ ก) การขึ้นรูปวัสดุนำไฟฟ้าอย่างน้อยหนึ่งชั้นเหนือชั้นฐานโดยที่ชั้นวัสดุนำไฟฟ้าดังกล่าวแต่ละชั้นถูกกั้นแยกด้วยวัสดุฉนวน ข) การขึ้นรูปรูอย่างน้อยหนึ่งรูที่อย่างน้อยทะลุผ่านชั้นวัสดุนำไฟฟ้าดังกล่าว ค) การวางนอนวัสดุเป็นฉนวนอย่างน้อยหนึ่งตัวเหนือชั้นวัสดุตัวนำไฟฟ้าดังกล่าวและการเติมให้เต็มอย่างน้อยหนึ่งส่วนหนึ่งของรูดังกล่าวให้พอที่จะขึ้นรูปปลายแหลม ง) การวางนอนอย่างน้อยชั้นหนึ่งของวัสดุซึ่งสามารถปล่อยอิเล็กตรอนออกภายใต้อิทธิพลของสนามไฟฟ้าลงเหนือวัสดุเป็นฉนวนดังกล่าวในขั้นตอน (ค) และการเติมให้เต็มอย่างน้อยส่วนหนึ่งของยอดของปลายแหลมดังกล่าว และ จ) การเอาวัสดุข้างใต้ปลายแหลมออกเพื่อเเปิดให้เป็นอย่างน้อยส่วนหนึ่งของวัสดุปล่อยอิเล็กตรอนดังกล่าวและที่โดยเหตุนี้ขึ้นรูปอย่างน้อยโครงสร้างแคโทดปล่อยสนามหนึ่งตัวดังกล่าว
54.กรรมวิธีของการทำโครงสร้างแคโทดปล่อยสนามของข้อถือสิทธิข้อที่ 53, ในที่นี้ที่เรียกว่าวัสดุปล่อยอิเล็กตรอนจะคัดเลือกมาจากกลุ่มซึ่งประกอบด้วย Mo, W, Ta, Re, Pt, Au, Ag,Al, Cu, Nb, Ni, Cr, Ti, Zr, Hf และโลหะผสมของมัน หรือสารละลายของของแข็งซึ่งประกอบด้วยส่วนประกอบเหล่านี้สองชนิดหรือมากกว่า
55.กรรมวิธีของการทำโครงสร้างแคโทดปล่อยสนามของข้อถือสิทธิข้อที่ 53, ในที่นี้ที่เรียกว่าวัสดุฉนวนจะคัดเลือกมาจากกลุ่มซึ่งประกอบด้วยแซปไฟร์, แก้วหรือออกไซด์ของ Si, Al,Mg และ Ce
56.กรรมวิธีของการทำโครงสร้างแคโทดปล่อยสนามของข้อถือสิทธิข้อที่ 53, ในที่นี้ที่เรียกว่าวัสดุปล่อยอิเล็กตรอนจะคัดเลือกมาจากกลุ่มซึ่งประกอบด้วยสารกึ่งตัวนำที่ผ่านการเจือบนแล้ว และสารกึ่งตัวนำที่ยังไม่มีการเจือปน
57.กรรมวิธีของการทำโครงสร้างแคโทดปล่อยสนามของข้อถือสิทธิข้อที่ 53, ในที่นี้อย่างน้อยที่สุดส่วนหนึ่งของที่เรียกว่าวัสดุฉนวนอย่างน้อยที่สุดหนึ่งขนิดหนึ่งซึ่งปิดคลุมพื้นผิวของผนังของที่เรียกว่าวัสดุนำไฟฟ้าอย่างน้อยที่สุดหนึ่งชนิดที่อยู่ชิดกับที่เรียกว่าวัสดุปล่อยอิเล็กตรอนที่เผยออกจะได้รับการกำจัดออกไป
58.กรรมวิธีของการทำโครงสร้างแคโทดปล่อยสนามของข้อถือสิทธิข้อที่ 53, ในที่นี้ที่เรียกว่ารูในวัสดุฐานของจะก่อรูปขึ้นโดยกรรมวิธีที่คัดเลือกมาจากกลุ่มซึ่งประกอบด้วยการขูด, การเจาะ, การกัดสลักด้วยน้ำยา, การเซาะด้วยไอออน, การตัดออกหรือการหล่อแบบ
59.กรรมวิธีของการทำโครงสร้างแคโทดปล่อยสนามของข้อถือสิทธิข้อที่ 53, ในที่นี้ที่เรียกว่ารูในที่เรียกว่าวัสดุฐานรองจะผ่านการกัดสลักด้วยน้ำยา,โดยการใช้กลวิธีของการกัดสลักที่คัดเลือกมาจากกลุ่มซึ่งประกอบด้วยการกัดสลักแบบแอนิโซโทรบิก, การกัดสลักด้วยลำไอออนการกัดสลักแบบไอโซโทรบิก,การกัดสลักด้วยไอออนรีแอกทีฟ, การกัดสลักด้วยพลาสมา หรือ การกัดสลักแบบเปียก
60.กรรมวิธีของการทำโครงสร้างแคโทดปล่อยสนามของข้อถือสิทธิข้อที่ 53, ในที่นี้ที่เรียกว่าวัสดุอันดับแรกเป็นวัสดุฉนวน
61.กรรมวิธีของการทำโครงสร้างแคโทดปล่อยสนามของข้อถือสิทธิข้อที่ 53, ในที่นี้ที่เรียกว่าวัสดุอันดับแรกเป็นวัสดุกึ่งตัวนำ
62.กรรมวิธีของการทำโครงสร้างแคโทดปล่อยสนามของข้อถือสิทธิข้อที่ 53, ในที่นี้ที่เรียกว่าวัสดุอันดับแรกเป็นวัสดุนำไฟฟ้า
63.กรรมวิธีของการทำโครงสร้างแคโทดปล่อยสนามของข้อถือสิทธิข้อที่ 53, ในที่นี้ที่เรียกว่าวัสดุอันดับแรกประกอบด้วยชั้นหลายชั้น 64.กรรมวิธีของการทำโครงสร้างแคโทดปล่อยสนามของข้อถือสิทธิข้อที่ 53, ในที่นี้ที่เรียกว่าวัสดุอันดับแรกประกอบด้วยชั้นหลายชั้น
64.กรรมวิธีของการทำโครงสร้างแคโทดปล่อยสนามของข้อถือสิทธิข้อที่ 53, ในที่นี้ที่เรียกว่าวัสดุอันดับแรกประกอบด้วยชั้นปลดปล่อย
65.กรรมวิธีของการทำโครงสร้างแคโทดปล่อยสนามของข้อถือสิทธิข้อที่ 53, ในที่นี้ที่เรียกว่าวัสดุปล่อยอิเล็กตรอนเป็นวัสดุที่ทำเป็นชั้นเดียว
66.กรรมวิธีของการทำโครงสร้างแคโทดปล่อยสนามของข้อถือสิทธิข้อที่ 53, ในที่นี้ที่เรียกว่าวัสดุปล่อยอิเล็กตรอนจะทำเป็นชั้นหลายชั้น
67.กรรมวิธีของการทำโครงสร้างแคโทดปล่อยสนามของข้อถือสิทธิข้อที่ 53, ในที่นี้ที่เรียกว่าวัสดุอันดับแรกใต้ปลายแหลมจะกำจัดออกไปด้วยกรรมวิธีคัดเลือกมาจากกลุ่มซึ่งประกอบด้วยการละลาย, การกัดสลักด้วยน้ำยา, การระเหย, การหลอมเหลวหรือการขัดออก
68.กรรมวิธีของการทำโครงสร้างแคโทดปล่อยสนามของข้อถือสิทธิข้อที่ 53, ในที่นี้วัสดุฐานรองทั้งหมดที่อยู่ใต้ชั้นของวัสดุปล่อยอิเล็กตรอนจะได้รับการกำจัดออกไปโดยสิ้นเชิง
69.กรรมวิธีของการทำโครงสร้างแคโทดปล่อยสนามของข้อถือสิทธิข้อที่ 68, ในที่นี้ที่เรียกว่าวัสดุอันดับแรกทั้งหมดที่อยู่ใต้วัสดุปล่อยอิเล็กตรอนจะได้รับการกำจัดออกไปโดยสิ้นเชิง
70.กรรมวิธีของการทำโครงสร้างแคโทดปล่อยสนามของข้อถือสิทธิข้อที่ 53, ในที่นี้ที่เรียกว่ารูในที่เรียกว่าวัสดุฐานรองมีรูปโครงร่าง ที่ซึ่งขนาดของรูเป็นค่าคงที่ตามความลึก
71.กรรมวิธีของการทำโครงสร้างแคโทดปล่อยสนามของข้อถือสิทธิข้อที่ 53, ในที่นี้ที่เรียกว่ารูในที่เรียกว่าวัสดุฐานรองมีรูปโครงร่าง ที่ซึ่งขนาดของรูแปรผันตามความลึก
72.กรรมวิธีของการทำโครงสร้างแคโทดปล่อยสนามของข้อถือสิทธิข้อที่ 53, ในที่นี้ชั้นขวางกั้นจะก่อรูปขึ้นก่อนการพอกพูนของที่เรียกว่าวัสดุปล่อยอิเล็กตรอน
73.กรรมวิธีของการทำโครงสร้างแคโทดปล่อยสนามของข้อถือสิทธิข้อที่ 72, ในที่นี้ที่เรียกว่าชั้นขวางกั้นจะกำจัดออกไปแบบเลือกได้
74.กรรมวิธีของการทำโครงสร้างแคโทดปล่อยสนามของข้อถือสิทธิข้อที่ 53, ในที่นี้ที่เรียกว่ายอดแหลมจะเคลือบด้วยวัสดุปล่อยอิเล็กตรอน
75.กรรมวิธีของการทำโครงสร้างแคโทดปล่อยสนามของข้อถือสิทธิข้อที่ 53, ในที่นี้ที่เรียกว่ายอดแหลมจะสับให้คมแบบเลือกได้ด้วยกรรมวิธีที่คัดเลือกมาจากกลุ่มซึ่งประกอบด้วยการกัดสลักด้วยน้ำยาแบบไอโซโทรปีกช้าๆ หรือการออกซิเดชัน
76.กรรมวิธีของการทำโครงสร้างแคโทดปล่อยสนามของข้อถือสิทธิข้อที่ 53, ในที่นี้จะก่อขึ้นรูปชั้นรองรับไว้บนส่วนหลังของโครงสร้างดังกล่าว
77.กรรมวิธีของการทำโครงสร้างแคโทดปล่อยสนามของข้อถือสิทธิข้อที่ 53, ในที่นี้จะก่อขึ้นรูปชั้นปลดปล่อยก่อนการพอกพูนของที่เรียกว่าวัสดุปล่อยอิเล็กตรอน
78.โครงสร้างของแคโทดปล่อยสนามประกอบด้วยชั้นของวัสดุอย่างน้อยที่สุดหนึ่งชนิดซึ่งสามารถปล่อยอิเล็กตรอนภายใต้อิทธิพลของสนามไฟฟ้า,และมียอดแหลมสำหรับการปล่อยอิเล็กตรอนอย่างน้อยที่สุดหนึ่งยอดที่ก่อรูปขึ้นด้วยกรรมวิธีซึ่งประกอบด้วยขั้นตอนของ: (a)การจัดให้มีรูไว้ในวัสดุฐานรองอย่างน้อยที่สุดหนึ่งรู, (b)ทำการพอกพูนอย่างน้อยที่สุดวัสดุอันดับแรกและทำการเติมอย่างน้อยที่สุดส่วนหนึ่งของรูดังกล่าวให้เพียงพอต่อการขึ้นรูปปลายแหลม, (c)ทำการพอกพูนที่เรียกว่าชั้นของวัสดุอย่างน้อยที่สุดหนึ่งชั้นซึ่งสามารถปล่อยอิเล็กตรอนภายใต้อิทธิพลของสนามไฟฟ้า,และทำการเติมอย่างน้อยที่สุดส่วนหนึ่งของที่เรียกว่าปลายแหลมเพื่อก่อรูปเป็นที่เรียกว่าชั้นปล่อยอิเล็กตรอนอย่างน้อยที่สุดหนึ่งชั้น,ในที่นี้ที่เรียกว่าชั้นปล่อยอิเล็กตรอนมีพื้นผิวด้านบนกับพื้นผิวด้านล่าง,ที่เรียกว่าพื้นผิวด้านบนมีปลายแหลมที่สองอย่างน้อยที่สุดหนึ่งปลาย,ที่เรียกว่าพื้นผิวด้านล่างมียอดแหลมอย่างน้อยที่สุดหนึ่งยอด,โดยที่ยอดแหลมอย่างน้อยที่สุดหนึ่งยอดจะอยู่ตรงกันข้ามกันที่เรียกว่าปลายแหลมอย่างน้อยที่สุดหนึ่งปลาย,และในที่นี้ส่วนของพื้นผิวของที่เรียกยอดแหลมอย่างน้อยที่สุดส่วนหนึ่งจะเว้าเข้าและในที่นี้ที่เรียกว่ายอดแหลมอย่างน้อยที่สุดหนึ่งยอดจะใช้สำหรับการปล่อยที่เรียกว่าอิเล็กตรอน,และ (d)การกำจัดที่เรียกว่าวัสดุฐานรองอย่างน้อยที่สุดส่วนหนึ่งกับที่เรียกว่าวัสดุอันดับแรกอย่างน้อยที่สุดส่วนหนึ่งออกไปเพื่อเปิดเผยที่เรียกว่ายอดแหลมของที่เรียกว่าวัสดุอิเล็กตรอนอย่าสงน้อยที่สุดส่วนหนึ่งและโดยลักษณะนี้เป็นการก่อรูปที่เรียกว่าโครงสร้างของแคโทดปล่อยสนามอย่างน้อยที่สุดหนึ่งโครงสร้าง
79.โครงสร้างแคโทดปล่อยสนามของข้อถือสิทธิข้อที่ 78, ในที่นี้ที่เรียกว่าชั้นปล่อยอิเล็กตรอนเป็นโครงสร้างที่มีหลายชั้น
80.โครงสร้างแคโทดปล่อยสนามของข้อถือสิทธิข้อที่ 78, โดยที่ยอดแหลมของที่เรียกว่าชั้นปล่อยอิเล็กตรอนอย่างน้อยที่สุดหนึ่งยอดเป็นโครงสร้างที่มีหลายชั้น
81.โครงสร้างแคโทดปล่อยสนามของข้อถือสิทธิข้อที่ 78,ในที่นี้ที่เรียกว่าชั้นปล่อยอิเล็กตรอนยังประกอบเพิ่มเติมด้วยชั้นรองรับ.
82.โครงสร้างแคโทดปล่อยสนามของข้อถือสิทธิข้อที่ 78,ยังประกอบเพิ่มเติมด้วยวัสดุนำไฟฟ้าอย่างน้อยที่สุดหนึ่งชนิดไว้บนด้านที่เป็นยอดแหลมของชั้นปล่อยอิเล็กตรอน ซึ่งจะแยกออกจากที่เรียกว่าชั้นปล่อยอิเล็กตรอนด้วยวัสดุฉนวนอย่างน้อยที่สุดหนึ่งชนิดโดยที่เรียกว่ายอดแหลมที่เป็นตัวปล่อยจะเผยออกอย่างน้อยที่สุดหนึ่งยอด
83.โครงสร้างแคโทดปล่อยสนามของข้อถือสิทธิข้อที่ 82,ในที่นี้ที่เรียกว่าชั้นปล่อยอิเล็กตรอนเป็นโครงสร้างที่มีหลายชั้น
84.โครงสร้างแคโทดปล่อยสนามของข้อถือสิทธิข้อที่ 82,ในที่นี้ ยอดแหลมของที่เรียกว่าชั้นปล่อยอิเล็กตรอนอย่างน้อยที่สุดหนึ่งยอดเป็นโครงสร้างที่มีหลายชั้น
85.โครงสร้างแคโทดปล่อยสนามของข้อถือสิทธิข้อที่ 82,ในที่นี้เรียกว่าชั้นปล่อยอิเล็กตรอนยังประกอบเพิ่มเติมด้วยชั้นรองรับ
86.โครงสร้างแคโทดปล่อยสนามของข้อถือสิทธิข้อที่ 78,ยังประกอบเพิ่มเติมด้วยวัสดุนำไฟฟ้ากลุ่มหนึ่งบนด้านที่เป็นยอดแหลมของชั้นปล่อยอิเล็กตรอน, ชั้นของวัสดุนำไฟฟ้าแต่ละชั้นจะแยกออกจากกันและกัน และแยกออกจากที่เรียกว่าชั้นปล่อยอิเล็กตรอนด้วยวัสดุฉนวนอย่างน้อยที่สุดหนึ่งชนิดโดยที่ที่เรียกว่ายอดแหลมที่เป็นตัวปล่อยจะเผยออกอย่างน้อยที่หนึ่งยอด
87.โครงสร้างแคโทดปล่อยสนามของข้อถือสิทธิข้อที่ 86, ในที่นี้ที่เรียกว่าชั้นปล่อยอิเล็กตรอนเป็นโครงสร้างที่มีหลายชั้น
88.โครงสร้างแคโทดปล่อยสนามของข้อถือสิทธิข้อที่ 86, ในที่นี้ยอดแหลมของที่เรียกว่าชั้นปล่อยอิเล็กตรอนอย่างน้อยที่สุดหนึ่งยอดเป็นโครงสร้างที่มีหลายชั้น
89.โครงสร้างแคโทดปล่อยสนามของข้อถือสิทธิข้อที่ 86, ในที่นี้ที่เรียกว่าชั้นปล่อยอิเล็กตรอนยังประกอบเพิ่มเติมด้วยชั้นรองรับ
90.โครงสร้างแคโทดปล่อยสนามของข้อถือสิทธิข้อที่ 78, ยังประกอบเพิ่มเติมด้วยชั้นขวางกั้นอย่างน้อยที่สุดหนึ่งชั้นบนด้านที่เป็นยอดแหลมของชั้นปล่อยอิเล็กตรอน,ซึ่งจะกำจัดออกไปแบบเลือกได้เพื่อเปิดเผยที่เรียกว่ายอดแหลม
91.โครงสร้างแคโทดปล่อยสนามของข้อถือสิทธิข้อที่ 90, ในที่นี้เรียกว่าชั้นปล่อยอิเล็กตรอนเป็นโครงสร้างที่มีหลายชั้น
92.โครงสร้างแคโทดปล่อยสนามของข้อถือสิทธิข้อที่ 90, ในที่นี้ยอดแหลมของที่เรียกว่าชั้นปล่อยอิเล็กตรอนอย่างน้อยที่สุดหนึ่งยอดเป็นโครงสร้างที่มีหลายชั้น
93.โครงสร้างแคโทดปล่อยสนามของข้อถือสิทธิข้อที่ 90, ในที่นี้ที่เรียกว่าชั้นปล่อยอิเล็กตรอนยังประกอบเพิ่มเติมด้วยชั้นรองรับ
94.โครงสร้างแคโทดปล่อยสนามของข้อถือสิทธิข้อที่ 78, ในที่นี้เรียกว่ายอดแหลมมีชั้นผิวเคลือบที่เป็นวัสดุปล่อยอิเล็กตรอน
95.โครงสร้างแคโทดปล่อยสนามของข้อถือสิทธิข้อที่ 78, ในที่นี้ที่เรียกว่ายอดแหลมจะลับให้คม,
96.โครงสร้างแคโทดปล่อยสนามของข้อถือสิทธิข้อที่ 78, ในที่นี้ที่เรียกว่ายอดแหลมจะใช้เป็นแหล่งกำเนิดอิเล็กตรอน
97.โครงสร้างแคโทดปล่อยสนามของข้อถือสิทธิข้อที่ 78, ในที่นี้ยอดแหลมอย่างน้อยที่สุดหนึ่งยอดจะแยกออกไฟฟ้าจากยอดแหลมอื่น
98.โครงสร้างแคโทดปล่อยสนามของข้อถือสิทธิข้อที่ 78, ในที่นี้ยอดแหลมอย่างน้อยที่สุดหนึ่งยอดจะเชื่อมต่อทางไฟฟ้ากับส่วนประกอบอิเล็กทรอ นิกส์อื่น
99.โครงสร้างแคโทดปล่อยสนามของข้อถือสิทธิข้อที่ 78, ในที่นี้ที่เรียกว่ายอดแหลมจะใช้ในอุปกรณ์แสดงผลเชิงอิเล็กทรอนิกส์,
100.โครงสร้างแคโทดปล่อยสนามของข้อถือสิทธิข้อที่ 78, ในที่นี้ที่เรียกว่ายอดแหลมที่มีรูปโครงร่าง เป็นแบบจุดหรือเป็นแบบใบมีด
101.โครงสร้างแคโทดปล่อยสนามของข้อถือสิทธิข้อที่ 78, ในที่นี้ที่เรียกว่าวัสดุปล่อยอิเล็กตรอนคัดเลือกมาจากกลุ่มซึ่งประกอบด้วย mo,w,Ta,Re,Pt,Au,Ag,Al,Cu,Nb,Ni,Cr,Ti,Zr,Hf และ โลหะผสมของวัสดุเหล่านี้ หรือสารละลายของของแข็งซึ่งประกอบด้วยธาตุเหล่านี้สองชนิดหรือมากกว่า
102.โครงสร้างแคโทดปล่อยสนามของข้อถือสิทธิข้อที่ 78, ในที่นี้ที่เรียกว่าวัสดุปล่อนอิเล็กตรอนคัดเลือกมาจากกลุ่มซึ่งประกอบด้วยสารกึ่งตัวนำที่ผ่านการเจือป่นแล้ว และสารกึ่งตัวนำที่ยังไม่มีการเจือปน
103.โครงสร้างแคโทดปล่อยสนามของข้อถือสิทธิข้อที่ 78, ในที่นี้ที่เรียกว่าวัสดุอันดับแรกอย่างน้อยที่สุดเป็นวัสดุที่มีหลายชั้น
104.โครงสร้างแคโทดปล่อยสนามของข้อถือสิทธิข้อที่ 103, ในที่นี้ชั้นของที่เรียกว่าวัสดุที่มีหลายชั้นอย่างน้อยที่สุดหนึ่งชั้นเป็นวัสดุขวางกั้น
105.โครงสร้างแคโทดปล่อยสนามของข้อถือสิทธิข้อที่ 78, ในที่นี้ที่เรียกว่าโครงสร้างมีแคโทดอย่างน้อยที่สุดสองแคโทดและในที่นี้อย่างน้อยที่สุดส่วนหนึ่งของแคโทดอันหนึ่งจะแยกออกทางไฟฟ้าจากส่วนหนึ่งของแคโทอันที่สอง
106.โครงสร้างแคโทดปล่อยสนามของข้อถือสิทธิข้อที่ 78, ในที่นี้ที่เรียกว่าโครงสร้างจะมีแคโทดอย่างน้อยที่สุดสองแคโทดและในที่นี้อย่างน้อยที่สุดส่วนหนึ่งของแคโทดอันหนึ่งจะเชื่อมต่อทางไฟฟ้ากับส่วนหนึ่งของแคโทดอันที่สอง
107.โครงสร้างแคโทดปล่อยสนามประกอบด้วยชั้นของวัสดุอย่างน้อยที่สุดหนึ่งชั้นซึ่งสามารถปล่อยอิเล็กตรอนภายใต้อิทธิพลของสนามไฟฟ้า,และมียอดแหลมสำหรับการปล่อยอิเล็กตรอนอย่างน้อยที่สุดหนึ่งยอดที่ก่อรูปขึ้นด้วยกระบวนการซึ่งประกอบด้วยขั้นตอนของ: (a)ทำการก่อขึ้นรูปชั้นของวัสดุนำไฟฟ้าอย่างน้อยที่สุดหนึ่งชั้นไว้บนชั้นฐาน, (b)ทำการก่อขึ้นรูปรูอย่างน้อยที่สุดหนึ่งรูอย่างน้อยที่สุดทะลุผ่านที่เรียกว่าชั้นนำไฟฟ้าอย่างน้อยที่สุดหนึ่งชั้น, (c)ทำการพอกพูนวัสดุฉนวนอย่างน้อยที่สุดหนึ่งชนิดไว้บนที่เรียกว่าชั้นนำไฟฟ้าอย่างน้อยที่สุดหนึ่งชั้นและทำการเติมอย่างน้อยที่สุดส่วนหนึ่งของที่เรียกว่ารูให้เพียงพอต่อการก่อขึ้นรูปปลายแหลม, (d)ทำการพอกพูนชั้นของวัสดุอย่างน้อยที่สุดหนึ่งชั้น ซึ่งสามารถปล่อยอิเล็กตรอนภายใต้อิทธิพลของสนามไฟฟ้า,บนที่เรียกว่าวัสดุฉนวนอย่างน้อยที่สุดหนึ่งชนิดของขั้นตอน(e),และทำการเติมอย่างน้อยที่สุดส่วนหนึ่งของที่เรียกว่าปลายแหลมเพื่อก่อขึ้นรูปที่เรียกว่าชั้นปล่อยอิเล็กตรอน อย่างน้อยที่สุดหนึ่งชั้น,ในที่นี้ที่เรียกว่าชั้นปล่อยอิเล็กตรอนมีพื้นผิวด้านบนกับพื้นผิวด้านล่าง,ที่เรียกว่าพื้นผิวด้านบนมีปลายแหลมที่สองอย่างน้อยที่สุดหนึ่งยอดจะอยู่ตรงกันข้ามกันที่เรียกว่าปลายแหลมที่สองอย่างน้อยที่สุดหนึ่งปลาย,และในที่นี้อย่างน้อยที่สุดส่วนหนึ่งของพื้นผิวของที่เรียกว่ายอดแหลมจะเว้าเข้าและในที่นี้ที่เรียกว่ายอดแหลมอย่างน้อยที่สุดหนึ่งยอดจะใช้สำหรับการปล่อยอิเล็กตรอนดังกล่าว,และ (e)การกำจัดที่เรียกว่าวัสดุที่อยู่ใต้ที่เรียกว่ายอดแหลมออกไปอย่างน้อยที่สุดส่วนหนึ่งเพื่อเปิดเผยที่เรียกว่ายอดแหลมของที่เรียกว่าวัสดุปล่อยอิเล็กตรอนอย่างน้อยที่สุดส่วนหนึ่งและโดยวิธีการนี้การก่อขึ้นรูปโครงสร้างของแคโทดปล่อยสนามอย่างน้อยที่สุดหนึ่งโครงสร้าง
108.โครงสร้างแคโทดปล่อยสนามของข้อถือสิทธิข้อที่ 107, ในที่นี้ที่เรียกว่าวัสดุปล่อยอิเล็กตรอนคัดเลือกมาจากกลุ่มซึ่งประกอบด้วย mo,w,Ta,Re,Pt,Au,Ag,Al,Cu,Nb,Ni,Cr,Ti,Zr,Hf และ โลหะผสมของวัสดุเหล่านี้ หรือสารละลายของของแข็งซึ่งประกอบด้วยธาตุเหล่านี้สองชนิดหรือมากกว่า
109.โครงสร้างแคโทดปล่อยสนามของข้อถือสิทธิข้อที่ 107, ในที่นี้ที่เรียกว่าวัสดุฉนวนจะคัดเลือกมาจากกลุ่มซึ่งประกอบด้วยแซปไฟร์,แก้วหรือออกไซด์ของ Si,Al,Mg และ Ce
110.โครงสร้างแคโทดปล่อยสนามของข้อถือสิทธิข้อที่ 107, ในที่นี้ที่เรียกว่าวัสดุปล่อยอิเล็กตรอนจะคัดเลือกมาจากกลุ่มซึ่งประกอบด้วยสารกึ่งตัวนำที่ผ่านการเจือปนแล้วและสารกึ่งตัวนำที่ยังไม่มีการเจือปน
111.โครงสร้างแคโทดปล่อยสนามของข้อถือสิทธิข้อที่ 107, ในที่นี้ที่เรียกว่าวัสดุฉนวนอย่างน้อยที่สุดหนึ่งชนิดเป็นวัสดุที่มีหลายชั้น
112.โครงสร้างแคโทดปล่อยสนามของข้อถือสิทธิข้อที่ 111, โดยที่ชั้นของที่เรียกว่าวัสดุที่มีหลายชั้นอย่างน้อยที่สุดหนึ่งชั้นเป็นวัสดุขวางกั้น
113.โครงสร้างแคโทดปล่อยสนามของข้อถือสิทธิข้อที่ 107, ในที่นี้ที่เรียกว่าโครงสร้างจะมีแคโทดอย่างน้อยที่สุดสองแคโทดและในที่นี้อย่างน้อยที่สุดส่วนหนึ่งของแคโทดอันหนึ่งจะแยกออกทางไฟฟ้าจากส่วนหนึ่งของแคโทดอันที่สอง
114.โครงสร้างแคโทดปล่อยสนามของข้อถือสิทธิข้อที่ 107, ในที่นี้ที่เรียกว่าโครงสร้างจะมีแคโทดอย่างน้อยที่สุดสองแคโทดและในที่นี้อย่างน้อยที่สุดส่วนหนึ่งของแคโทดอันหนึ่งจะเชื่อมต่อทางไฟฟ้าจากส่วนหนึ่งของแคโทดอันที่สอง
115.โครงสร้างแคโทดปล่อยสนามของข้อถือสิทธิข้อที่ 107, โดยที่อย่างน้อยที่สุดส่วนหนึ่งของที่เรียกว่าวัสดุฉนวนอย่างน้อยที่สุดหนึ่งชนิดซึ่งปิดคลุมพื้นผิวของผนังของที่เรียกว่าวัสดุนำไฟฟ้าอย่างน้อยที่สุดหนึ่งชนิดที่อยู่ชิดกันที่เรียกว่าวัสดุปล่อยอิเล็กตรอนที่เผยออกจะได้รับการกำจัดออกไป
116.โครงสร้างแคโทดปล่อยสนามประกอบด้วยชั้นของวัสดุอย่างน้อยที่สุดหนึ่งชั้นซึ่งสามารถปล่อยอิเล็กตรอนภายใต้อิทธิพลของสนามไฟฟ้า,และมียอดแหลมสำหรับการปล่อยอิเล็กตรอนอย่างน้อยที่สุดหนึ่งยอดที่ก่อรูปขึ้นด้วยกระบวนการซึ่งประกอบด้วยขั้นตอนของ: (a)ทำการก่อขึ้นรูปชั้นของวัสดุนำไฟฟ้าอย่างน้อยที่สุดหนึ่งชั้นไว้บนชั้นฐาน,โดยที่ชั้นของวัสดุนำไฟฟ้าดังกล่าวแต่ละชั้นจะแยกออกจากกันด้วยวัสดุฉนวน (b)ทำการก่อขึ้นรูปรูอย่างน้อยที่สุดหนึ่งรูอย่างน้อยที่สุดทะลุผ่านที่เรียกว่าชั้นนำไฟฟ้า, (c)ทำการพอกพูนวัสดุฉนวนอย่างน้อยที่สุดหนึ่งชนิดไว้บนที่เรียกว่าชั้นนำไฟฟ้าอย่างน้อยที่สุดหนึ่งชั้นและทำการเติมอย่างน้อยที่สุดส่วนหนึ่งของที่เรียกว่ารูให้เพียงพอต่อการก่อขึ้นรูปปลายแหลม, (d)ทำการพอกพูนชั้นของวัสดุอย่างน้อยที่สุดหนึ่งชั้น ซึ่งสามารถปล่อยอิเล็กตรอนภายใต้อิทธิพลของสนามไฟฟ้า,บนที่เรียกว่าวัสดุฉนวนอย่างน้อยที่สุดหนึ่งชนิดของขั้นตอน(c),และทำการเติมอย่างน้อยที่สุดส่วนหนึ่งของที่เรียกว่าปลายแหลมเพื่อก่อขึ้นรูปที่เรียกว่าชั้นปล่อยอิเล็กตรอนอย่างน้อยที่สุดหนึ่งชั้น,ในที่นี้ที่เรียกว่าชั้นปล่อยอิเล็กตรอนมีพื้นผิวด้านบนกับพื้นผิวด้านล่าง,ที่เรียกว่าพื้นผิวด้านบนมีปลายแหลมที่สองอย่างน้อยที่สุดหนึ่งยอดจะอยู่ตรงกันข้ามกันที่เรียกว่าปลายแหลมที่สองอย่างน้อยที่สุดหนึ่งปลาย,และในที่นี้อย่างน้อยที่สุดส่วนหนึ่งของพื้นผิวของที่เรียกว่ายอดแหลมจะเว้าเข้าและในที่นี้ที่เรียกว่ายอดแหลมอย่างน้อยที่สุดหนึ่งยอดจะใช้สำหรับการปล่อยอิเล็กตรอนดังกล่าว,และ (e)การกำจัดที่เรียกว่าวัสดุที่อยู่ใต้ที่เรียกว่ายอดแหลมออกไปอย่างน้อยที่สุดส่วนหนึ่งเพื่อเปิดเผยที่เรียกว่ายอดแหลมของที่เรียกว่าวัสดุปล่อยอิเล็กตรอนอย่างน้อยที่สุดส่วนหนึ่งและโดยวิธีการนี้การก่อขึ้นรูปโครงสร้างของแคโทดปล่อยสนามอย่างน้อยที่สุดหนึ่งโครงสร้าง
117.โครงสร้างแคโทดปล่อยสนามของข้อถือสิทธิข้อที่ 116, ในที่นี้ที่เรียกว่าวัสดุปล่อยอิเล็กตรอนคัดเลือกมาจากกลุ่มซึ่งประกอบด้วย mo,w,Ta,Re,Pt,Au,Ag,Al,Cu,Nb,Ni,Cr,Ti,Zr,Hf และ โลหะผสมของวัสดุเหล่านี้ หรือสารละลายของของแข็งซึ่งประกอบด้วยธาตุเหล่านี้สองชนิดหรือมากกว่า
118.โครงสร้างแคโทดปล่อยสนามของข้อถือสิทธิข้อที่ 116, ในที่นี้ที่เรียกว่าวัสดุฉนวนจะคัดเลือกมาจากกลุ่มซึ่งประกอบด้วยแซปไฟร์,แก้วหรือออกไซด์ของ Si,Al,Mg และ Ce
119.โครงสร้างแคโทดปล่อยสนามของข้อถือสิทธิข้อที่ 116, ในที่นี้ที่เรียกว่าวัสดุปล่อยอิเล็กตรอนจะคัดเลือกมาจากกลุ่มซึ่งประกอบด้วยสารกึ่งตัวนำที่ผ่านการเจือปนแล้วและสารกึ่งตัวนำที่ยังไม่มีการเจือปน
120.โครงสร้างแคโทดปล่อยสนามของข้อถือสิทธิข้อที่ 116, ในที่นี้ที่เรียกว่าวัสดุฉนวนอย่างน้อยที่สุดหนึ่งชนิดเป็นวัสดุที่มีหลายชั้น
121.โครงสร้างแคโทดปล่อยสนามของข้อถือสิทธิข้อที่ 120, ในที่ชั้นของที่เรียกว่าวัสดุที่มีหลายชั้นอย่างน้อยที่สุดหนึ่งชั้นเป็นวัสดุขวางกั้น
122.โครงสร้างแคโทดปล่อยสนามของข้อถือสิทธิข้อที่ 116, ในที่นี้ที่เรียกว่าโครงสร้างมีแคโทดอย่างน้อยที่สุดสองแคโทดและในที่นี้อย่างน้อยที่สุดส่วนหนึ่งของแคโทดอันหนึ่งจะแยกออกทางไฟฟ้าจากส่วนหนึ่งของแคโทอันที่สอง
123.โครงสร้างแคโทดปล่อยสนามของข้อถือสิทธิข้อที่ 116, ในที่นี้ที่เรียกว่าโครงสร้างจะมีแคโทดอย่างน้อยที่สุดสองแคโทดและในที่นี้อย่างน้อยที่สุดส่วนหนึ่งของแคโทดอันหนึ่งจะเชื่อมต่อทางไฟฟ้าจากส่วนหนึ่งของแคโทดอันที่สอง
124.โครงสร้างแคโทดปล่อยสนามของข้อถือสิทธิข้อที่ 116, โดยที่อย่างน้อยที่สุดส่วนหนึ่งของที่เรียกว่าวัสดุฉนวนอย่างน้อยที่สุดหนึ่งชนิดซึ่งปิดคลุมพื้นผิวของผนังของที่เรียกว่าวัสดุนำไฟฟ้าอย่างน้อยที่สุดหนึ่งชนิดที่อยู่ชิดกันที่เรียกว่าวัสดุปล่อยอิเล็กตรอนที่เผยออกจะได้รับการกำจัดออกไป
125.โครงสร้างแคโทดปล่อยสนามประกอบด้วยชั้นของวัสดุอย่างน้อยที่สุดหนึ่งชั้นซึ่งสามารถปล่อยอิเล็กตรอนภายใต้อิทธิพลของสนามไฟฟ้า,และมียอดแหลมสำหรับการปล่อยอิเล็กตรอนอย่างน้อยที่สุดหนึ่งยอด,ในที่นี้ที่เรียกว่าชั้นปล่อยอิเล็กตรอนมีพื้นผิวด้านบนกับพื้นผิวด้านล่าง,ที่เรียกว่าพื้นผิวด้านบนมีปลายแหลมที่สองอย่างน้อยที่สุดหนึ่งปลาย ที่เรียกว่าพื้นผิวด้านล่างมียอดแหลมอย่างน้อยที่สุดหนึ่งยอด,โดยที่ยอดแหลมอย่างน้อยที่สุดหนึ่งยอดจะอยู่ตรงกันข้ามกับที่เรียกว่าปลายแหลมที่สองอย่างน้อยที่สุดหนึ่งปลาย,และในที่นี้อย่างน้อยที่สุดส่วนหนึ่งของพื้นผิวของที่เรียกว่ายอดแหลมจะเว้าเข้าและในที่นี้ที่เรียกว่ายอดแหลมอย่างน้อยที่สุดหนึ่งยอดจะใช้สำหรับการปล่อยอิเล็กตรอนดังกล่าว,และโดยลักษณะนี้เป็นการก่อขึ้นรูปที่เรียกว่าโครงสร้างของแคโทดปล่อยสนามอย่างน้อยที่สุดหนึ่งโครงสร้าง
126.โครงสร้างแคโทดปล่อยสนามของข้อถือสิทธิข้อที่ 125, ในที่นี้ที่เรียกว่าวัสดุปล่อยอิเล็กตรอนคัดเลือกมาจากกลุ่มซึ่งประกอบด้วย mo,w,Ta,Re,Pt,Au,Ag,Al,Cu,Nb,Ni,Cr,Ti,Zr,Hf และ โลหะผสมของวัสดุเหล่านี้ หรือสารละลายของของแข็งซึ่งประกอบด้วยธาตุเหล่านี้สองชนิดหรือมากกว่า
127.โครงสร้างแคโทดปล่อยสนามของข้อถือสิทธิข้อที่ 125, ในที่นี้ที่เรียกว่าวัสดุปล่อยอิเล็กตรอนจะคัดเลือกมาจากกลุ่มซึ่งประกอบด้วยสารกึ่งตัวนำที่ผ่านการเจือปนแล้วและสารกึ่งตัวนำที่ยังไม่มีการเจือปน
128.โครงสร้างแคโทดปล่อยสนามของข้อถือสิทธิข้อที่ 125, ในที่นี้ที่เรียกว่ายอดแหลมที่มีรูปโครงร่าง เป็นแบบจุดหรือรูปโครงร่างแบบใบมีด
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| TH11064A true TH11064A (th) | 1992-05-01 |
Family
ID=
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US5203731A (en) | Process and structure of an integrated vacuum microelectronic device | |
| EP0544663B1 (en) | Process and structure of an integrated vacuum microelectronic device | |
| US5151061A (en) | Method to form self-aligned tips for flat panel displays | |
| US6204596B1 (en) | Filamentary electron-emission device having self-aligned gate or/and lower conductive/resistive region | |
| US5057047A (en) | Low capacitance field emitter array and method of manufacture therefor | |
| US5562516A (en) | Field-emitter fabrication using charged-particle tracks | |
| US5150192A (en) | Field emitter array | |
| EP0379298B1 (en) | Method of forming an electrode for an electron emitting device | |
| US5315206A (en) | Electron emission elements integrated substrate | |
| US4253221A (en) | Method of producing low voltage field emission cathode structure | |
| EP0520780A1 (en) | Fabrication method for field emission arrays | |
| KR20010030783A (ko) | 전해조 내에서 스스로 동작하는 갈바니 작용을 이용한재료의 선택적 제거방법 | |
| JP2000500266A (ja) | 電界エミッタ装置、およびそれを製作するためのベールプロセス | |
| CN1021389C (zh) | 用于制造场致发射阴极的方法 | |
| KR20000016555A (ko) | 게이트 개구부를 한정하기 위해 분사 입자를 이용하는 게이트제어된 전자방출 장치 및 그 제조방법 | |
| US5624872A (en) | Method of making low capacitance field emission device | |
| US5145435A (en) | Method of making composite field-emitting arrays | |
| JP3832840B2 (ja) | 電界放射ディスプレイのためのゲート化されたフィラメント構造の製造方法 | |
| US5981304A (en) | Self-alignment process usable in microelectronics, and application to creating a focusing grid for micropoint flat screens | |
| JP3084768B2 (ja) | 電界放出型陰極装置 | |
| JPH08148083A (ja) | フィールドエミッタの表面改質方法 | |
| US5202602A (en) | Metal-glass composite field-emitting arrays | |
| CA2085981C (en) | Process and structure of an integrated vacuum microelectronic device | |
| JPH11213864A (ja) | 電界放出型冷陰極及びその製造方法 | |
| JP2800706B2 (ja) | 電界放射型冷陰極の製造方法 |