TH110594A - - Google Patents
Info
- Publication number
- TH110594A TH110594A TH801005823A TH0801005823A TH110594A TH 110594 A TH110594 A TH 110594A TH 801005823 A TH801005823 A TH 801005823A TH 0801005823 A TH0801005823 A TH 0801005823A TH 110594 A TH110594 A TH 110594A
- Authority
- TH
- Thailand
- Prior art keywords
- silica
- radiation
- low
- substrate
- cured
- Prior art date
Links
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract 29
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 claims abstract 13
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract 10
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims abstract 9
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 claims abstract 6
- 230000005855 radiation Effects 0.000 claims abstract 5
- 239000008119 colloidal silica Substances 0.000 claims abstract 3
- 230000005670 electromagnetic radiation Effects 0.000 claims abstract 3
- 239000000178 monomer Substances 0.000 claims abstract 3
- 239000002243 precursor Substances 0.000 claims abstract 3
- 238000003847 radiation curing Methods 0.000 claims abstract 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims abstract 2
- 238000000034 method Methods 0.000 claims 2
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 238000001723 curing Methods 0.000 claims 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 claims 1
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 claims 1
- RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N silicic acid Chemical compound O[Si](O)(O)O RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 230000003667 anti-reflective effect Effects 0.000 abstract 4
- 239000011521 glass Substances 0.000 abstract 4
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 abstract 2
- 239000010410 layer Substances 0.000 abstract 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 abstract 2
- 239000010703 silicon Substances 0.000 abstract 2
Abstract
DC60 (12/11/51) สารเคลือบบนพื้นฐานซิลิกาที่มีดัชนีต่ำอาจถูกทำขึ้นโดยการก่อรูปสารตั้งต้นซิลิกาที่มี องค์ประกอบที่สามารถบ่มได้ด้วยการแผ่รังสีที่รวมถึงโมโนเมอร์ที่สามารถบ่มได้ด้วยการแผ่รังสี และ/ หรือ ซิลิกาที่เป็นคอลลอยด์ สารตั้งต้นซิลิกาอาจถูกสะสมบนซับสเทรท (เช่น ซับสเทรทแก้ว หรือ แผ่นบางของซิลิคอน) เพื่อก่อรูปชั้นสารเคลือบ จากนั้นชั้นสารเคลือบอาจถูกบ่มผ่านการเปิดออกสู่ การแผ่รังสีแม่เหล็กไฟฟ้า เช่น การแผ่รังสี UV จากนั้น ชั้นสารเคลือบที่ถูกบ่มอาจถูกเผาโดยใช้ อุณหภูมิตั้งแต่ประมาณ 550 ถึง 700 องศาเซลเซียส ในการก่อรูปสารเคลือบบนพื้นฐานซิลิกาที่มีดัชนีต่ำ สาร เคลือบบนพื้นฐานซิลิกาที่มีดัชนีต่ำอาจถูกใช้เป็นฟิล์มต้านการสะท้อน (AR) บนซับสเทรทแก้ว ด้านหน้าของอุปกรณ์ที่สร้างแรงดันไฟฟ้าจากแสง (เช่น โซลาร์เซล) ในตัวอย่างที่แน่นอน สารเคลือบบนพื้นฐานซิลิกาที่มีดัชนีต่ำอาจถูกทำขึ้นโดยการก่อรูปสารตั้งต้นซิลิกาที่มี องค์ประกอบที่สามารถบ่มได้ด้วยการแผ่รังสีที่รวมถึงโมโนเมอร์ที่สามารถบ่มได้ด้วยการแผ่รังสี และ/ หรือ ซิลิกาที่เป็นคอลลอยด์ สารตั้งต้นซิลิกาอาจถูกสะสมบนซับสเทรท (เช่น ซับสเทรทแก้ว หรือ แผ่นบางของซิลิคอน) เพื่อก่อรูปชั้นสารเคลือบ จากนั้นชั้นสารเคลือบอาจถูกบ่มผ่านการเปิดออกสู่ การแผ่รังสีแม่เหล็กไฟฟ้า เช่น การแผ่รังสี UV จากนั้น ชั้นสารเคลือบที่ถูกบ่มอาจถูกเผาโดยใช้ อุณหภูมิตั้งแต่ประมาณ 550 ถึง 700 ํซ ในการก่อรูปสารเคลือบบนพื้นฐานซิลิกาที่มีดัชนีต่ำ สาร เคลือบบนพื้นฐานซิลิกาที่มีดัชนีต่ำอาจถูกใช้เป็นฟิล์มต้านการสะท้อน (AR) บนซับสเทรทแก้ว ด้านหน้าของอุปกรณ์ที่สร้างแรงดันไฟฟ้าจากแสง (เช่น โซลาร์เซล) ในตัวอย่างที่แน่นอน
Claims (1)
1. วิธีการของการทำสารเคลือบบนพื้นฐานซิลิกาที่มีดัชนีต่ำ วิธีการซึ่งประกอบด้วย การก่อรูปสารตั้งต้นซิลิกาที่ประกอบด้วย (a) องค์ประกอบที่สามารถบ่มได้ด้วยการแผ่รังสีที่ ประกอบด้วยโมโนเมอร์ที่สามารถบ่มได้ด้วยการแผ่รังสี และสารเริ่มต้นทางแสง และ (b) ซิลิกาโซลที่ ประกอบด้วยไซเลน และ/หรือ ซิลิกาที่เป็นคอลลอยด์; การสะสมของสารตั้งต้นซิลิกาบนซับสเทรทเพื่อก่อรูปชั้นสารเคลือบ; การบ่มชั้นสารเคลือบโดยใช้อย่างน้อยหนึ่งการเปิดออกไปสู่การแผ่รังสีแม่เหล็กไฟฟ้า และ หลัแท็ก :
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| TH110594A true TH110594A (th) | 2011-09-19 |
Family
ID=
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| WO2009017532A3 (en) | Method of making an antireflective silica coating, resulting product, and photovoltaic device comprising same | |
| JP6813553B2 (ja) | 光線透過率を高める塗料組成物及びそれからなるコーティング層 | |
| CN102341359B (zh) | 狭缝模具涂布方法 | |
| EP2347896A4 (en) | LOW BREAKING INDEX FILM AND METHOD FOR THE PRODUCTION, ANTI-REFLECTIONS AND PRODUCTION METHOD THEREFOR, COATING LIQUID FOR LOW BREAKING INDEX, SUBSTRATE WITH MICROPARTICELLAMINATED THIN LAYER AND METHOD FOR THE PRODUCTION THEREOF, AND OPTICAL ELEMENT | |
| US20110041913A1 (en) | Use of Hydrophobic Solvent-Based Pigment Preparations in Electronic Displays | |
| AR081052A1 (es) | Revestimientos antirreflejo y metodos de hacerlos | |
| US20110111203A1 (en) | Substrate with a sol-gel layer and method for producing a composite material | |
| RU2017122067A (ru) | Антибликовая сенсорная дисплейная панель и другие изделия с покрытием, а также способы их создания | |
| CN104927416B (zh) | 硅镁铝溶胶和掺杂核壳二氧化硅微球镀膜液及制备应用 | |
| DE102011003677A1 (de) | Verbundstoff und Verfahren zu seiner Herstellung | |
| EP3289394B1 (en) | Optical functional film and method for producing the same | |
| WO2012018199A3 (ko) | 점진적으로 굴절률이 변하는 실리콘 다층 무반사막 및 그 제조방법 및 이를 구비하는 태양전지 및 그 제조방법 | |
| RU2012147263A (ru) | Улучшение адгезии органических покрытий на стекле | |
| WO2011158119A3 (ja) | シリコンオキシナイトライド膜の形成方法およびそれにより製造されたシリコンオキシナイトライド膜付き基板 | |
| JP2019049717A (ja) | 光学位相差部材、光学位相差部材を備える複合光学部材、及び光学位相差部材の製造方法 | |
| BRPI0909306A2 (pt) | matriz de revestimentos de nanopartículas de óxido metálico carregado depositado por deposição por combustão | |
| CN103613283A (zh) | 一种SiO2-TiO2无机增透膜的制备方法 | |
| CN103757706B (zh) | 一种非线性光学晶体表面增透保护膜的制备方法 | |
| TW200633845A (en) | Manufacturing method of fine structure using organic/inorganic hybrid material and nano-imprinting technique and fine structure | |
| JP6347597B2 (ja) | シリカ系被膜形成用組成物及びこれを用いたシリカ系被膜の製造方法 | |
| ATE541065T1 (de) | Verfahren zur herstellung von dünnschichten und vorrichtungen | |
| US20120305071A1 (en) | Substrate having a metal film for producing photovoltaic cells | |
| TH110594A (th) | ||
| JP2017062371A (ja) | 反射防止膜を有する光学部材及びその反射防止膜の製造方法 | |
| CN103805057B (zh) | 白色涂料组合物及包含其所形成的涂层的装置 |