TH106948A

TH106948A - แผ่นเหล็กเหนียวชุบดีบุกและวิธีการสำหรับการผลิตสิ่งนั้น

Info

Publication number: TH106948A
Application number: TH601005140A
Authority: TH
Inventors: มากิอิชิ นางโนริโกะ; ทานากะ นายทากูมิ; ซูซูกิ นายทาเคชิ; ชิเกกูนิ นายโทโมฟูมิ; อิวาซะ นายฮิโรกิ
Original assignee: เจเอ็ฟอี สตีล คอร์ปอเรชั่น; นางสาวอุไรวรรณ ดำรงค์สุนันท์
Filing date: 2006-10-19
Publication date: 2011-03-30

Abstract

DC60 (11/01/50) แผ่นเหล็กเหนียวชุบดีบุกประกอบด้วยชั้นชุบที่มีดีบุกบนอย่างน้อยผิวหน้าด้านหนึ่งของแผ่น เหล็กเหนียว และการฉาบผิวที่เปลี่ยนแปลงทางเคมีที่มีฟอสฟอรัสและดีบุกบนชั้นชุบถูกจัดให้มีขึ้น ใน แผ่นเหล็กเหนียวข้างต้น ปริมาณฉาบของการฉาบผิวที่เปลี่ยนแปลงทางเคมีต่อผิวหน้าเป็น 1 . 0 ถึง 50 mg/ตารางเมตร ในแง่ของฟอสฟอรัส, อัตราส่วนอะตอมดีบุก/ฟอสฟอรัสที่ได้จากความเข้มของยอด P2p และอัตราส่วนอะตอมดีบุก/ฟอสฟอรัสที่ได้จากความเข้มของยอด Sn3d เป็น1 . 0 ถึง 1 . 5, ความ เข้มถูกวัดที่ผิวหน้าโดยใช้วิธีการสเปคโตรสโคป อีเล็คตรอนพลังแสงรังสีเอ็กซ์ (x-ray photoelectron spectroscopic method), และอัตราส่วนอะตอมออกซิเจน/ ฟอสฟอรัสที่ได้จากความเข้มของยอด P2p และอัตราส่วนอะตอมออกซิเจน/ฟอสฟอรัสที่ได้จากความ เข้มของยอด 01s เป็น 4 . 0 ถึง 9 . 0 การฉาบผิวที่เปลี่ยนแปลงทางเคมีที่มีกรดฟอสฟอริคเป็นพื้น ของแผ่นเหล็กเหนียวชุบดีบุกนี้ สามารถยับยั้งการเลวลงในการทำงาน ซึ่งถูกทำให้เกิดขึ้นจากการเติบโต ของชั้นออกไซด์ดีบุกบนผิวหน้า แทนที่การฉาบผิวด้วยโครเมตแบบที่ใช้กัน แผ่นเหล็กเหนียวชุบดีบุกประกอบด้วยชั้นชุบที่มีดีบุกบนอย่างน้อยผิวหน้าด้านหนึ่งของแผ่น เหล็กเหนียว และการฉาบผิวที่เปลี่ยนแปลงทางเคมีที่มีฟอสฟอรัสและดีบุกบนชั้นชุบถูกจัดให้มีขึ้น ใน แผ่นเหล็กเหนียวข้างต้น ปริมาณฉาบของการฉาบผิวที่เปลี่ยนแปลงทางเคมีต่อผิวหน้าเป็น 1 . 0 ถึง 50 mg/m2 ในแง่ของฟอสฟอรัส, อัตราส่วนอะตอมดีบุก/ฟอสฟอรัสที่ได้จากความเข้มของยอด P2p และอัตราส่วนอะตอมดีบุก/ฟอสฟอรัสที่ได้จากความเข้มของยอด Sn3d เป็น1 . 0 ถึง 1 . 5, ความ เข้มถูกวัดที่ผิวหน้าโดยใช้วิธีการสเปคโตรสโคป อีเล็คตรอนพลังแสงรังสีเอ็กซ์ (x-ray photoelectron spectroscopic method), และอัตราส่วนอะตอมออกซิเจน/ ฟอสฟอรัสที่ได้จากความเข้มของยอด P2p และอัตราส่วนอะตอมออกซิเจน/ฟอสฟอรัสที่ได้จากความ เข้มของยอด 01s เป็น 4 . 0 ถึง 9 . 0 การฉาบผิวที่เปลี่ยนแปลงทางเคมีที่มีกรดฟอสฟอริคเป็นพื้น ของแผ่นเหล็กเหนียวชุบดีบุกนี้ สามารถยับยั้งการเลวลงในการทำงาน ซึ่งถูกทำให้เกิดขึ้นจากการเติบโต ของชั้นออกไซด์ดีบุกบนผิวหน้า แทนที่การฉาบผิวด้วยโครเมตแบบที่ใช้กัน

Claims

ข้อถือสิทธฺ์ (ทั้งหมด) ซึ่งจะไม่ปรากฏบนหน้าประกาศโฆษณา :แก้ไข 19/11/2561 หน้า 1 ของจำนวน 1 หน้า ข้อถือสิทธิ 1. แผ่นเหล็กเหนียวชุบดีบุกที่ประกอบด้วย : ชั้นชุปที่มีดีบุกบนอย่างน้อยผิวหน้าด้านหนึ่ง ของแผ่นเหล็กเหนียว; และการฉาบผิวที่เปลี่ยนแปลงทางเคมีที่มีฟอสฟอรัส, ดีบุก, ออกซเจนและ ไฮโดรเจนที่เกิดจากการปฏิบัตการอิเล็กโทรลิติก แคโทดบนชั้นชุบ, ที่ซึ่งปริมาณฉาบของการฉาบผิวที่ เปลี่ยนแปลงทางเคมีต่อผิวหน้าเป็น 1.0 ถึง 50 mg/m2 ในแง่ของฟอสฟอรัส, อัตราส่วน อะตอมดีบุก/ฟอสฟอรัสที่ได้จากความเข้มของยอด P2p และอัตราส่วนอะตอมดีบุก/ฟอสฟอรัสที่ได้ จากความเข้มของยอด Sn3d ของการฉาบผิวที่เปลี่ยนแปลงทางเคมี เป็นในช่วงของ 1.0 ถึง 1.5, ความเข้มถูกวัดที่ผิวหน้าของแผ่นนั้น โดยใช้วิธีการสเปคโตรสโคปีของอนุภาคอีเล็กตรอนที่ถูก ปลดปล่อยด้วยรังสีเอ็กซ์, และอัตราส่วนอะตอม ออกซิเจน/ฟอสฟอรัสที่ได้จากความเข้มของยอด P2p และอัตราส่วนอะตอมออกซิเจน/ฟอสฟอรัสที่ได้จากความเข้มของยอด O1s เป็นในช่วงของ 4.0 ถึง 9.0 --------------------------------------------------------------------------------

1. แผ่นเหล็กเหนียวชุบดีบุกประกอบด้วย : ชั้นชุปที่มีดีบุกบนอย่างน้อยผิวหน้าด้านหนึ่ง ของแผ่นเหล็กเหนียว; และการฉาบผิวที่เปลี่ยนแปลงทางเคมีที่มีฟอสฟอรัสและดีบุกบนชั้นชุบ ที่ซึ่ง ปริมาณฉาบของการฉาบผิวที่เปลี่ยนแปลงทางเคมีต่อผิวหน้าเป็น 1.0 ถึง 50 mg/m2 ในแง่ของ ฟอสฟอรัส, อัตราส่วนอะตอมดีบุก/ฟอสฟอรัสที่ได้จากความเข้มของยอด P2p และอัตราส่วนอะตอม ดีบุก/ฟอสฟอรัสที่ได้จากความเข้มของยอด Sn3d ของการฉาบผิวที่เปลี่ยนแปลงทางเคมี เป็นในช่วง ของ 1.0 ถึง 1.5, ความเข้มถูกวัดที่ผิวหน้าของแผ่นนั้น โดยใช้วิธีการสเปคโตรสโคป อีเล็คตรอน พลังแสงรังสีเอ็กซ์, และอัตราส่วนอะตอม ออกซิเจน/ฟอสฟอรัสที่ได้จากความเข้มของยอด P2p และ อัตราส่วนอะตอมออกซิเจน/ฟอสฟอรัสที่ได้จากความเข้มของยอด 01s เป็นในช่วงของ 4.0 ถึง 9.0

2. แผ่นเหล็กเหนียวชุบดีบุกตามข้อถือสิทธิข้อ 1. ที่ซึ่งอัตราส่วน IOH/IPO ระหว่าง ความเข้มแอบซอร์แบนซ์-การสะท้อน (reflection-absorbance intensity) ของ พันธะ PO (I OP) และความเข้มแอบซอร์แบนซ์-การสะท้อนของพันธะ OH (IOH ) ของ สเปคตรัมการดูดกลืนอินฟราเรตของการฉาบผิวที่เปลี่ยนแปลงทางเคมี เป็นในช่วงของ 0.18 ถึง 0.30 3. วิธีการสำหรับผลิตแผ่นเหล็กเหนียวชุบดีบุกที่ประกอบด้วยขั้นของ : หลังจากที่ชั้นชุบที่มี ดีบุกถูกสร้างขึ้นบนอย่างน้อยผิวหน้าด้านหนึ่งของแผ่นเหล็กเหนียว, ทำการปฏิบัติการจุ่ม หรือการปฏิบัติ การ อิเล็คโตรลิติก แคโทดของแผ่นเหล็กเหนียวในสารละลายที่เปลี่ยนแปลงทางเคมี ซึ่งมีไอออนดีบุก และไอออนฟอสเฟต และจากนั้น ทำการเผาถึงอุณหภูมิ 60 ถึง 200 ํC 4. วิธีการสำหรับผลิตแผ่นเหล็กเหนียวชุบดีบุกตามข้อถือสิทธิข้อที่

3. ที่ซึ่งไอออนดีบุก เป็นไอออนดีบุกเต็ดตราวาเล้นท์