SU910839A1 - Substrate holder assembly - Google Patents
Substrate holder assembly Download PDFInfo
- Publication number
- SU910839A1 SU910839A1 SU762331465A SU2331465A SU910839A1 SU 910839 A1 SU910839 A1 SU 910839A1 SU 762331465 A SU762331465 A SU 762331465A SU 2331465 A SU2331465 A SU 2331465A SU 910839 A1 SU910839 A1 SU 910839A1
- Authority
- SU
- USSR - Soviet Union
- Prior art keywords
- rods
- substrate holder
- holder assembly
- holes
- plate
- Prior art date
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/50—Substrate holders
- C23C14/505—Substrate holders for rotation of the substrates
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Description
(54) УЗЕЛ ПОДЛОЖКОДЕРЖЛТЕЛЯ(54) UNDER HOLDER'S KNOT
II
.Изобретение относитс к электронной технике и может быть использовано при производстве резисторов.The invention relates to electronic technology and can be used in the manufacture of resistors.
Известно устройство дл нанесени покрытий в вакууме, содержащее кассеты со стержневыми подложкодержател ми , установленными с возможностью вращени 1 .A vacuum coating device is known that contains cassettes with rod supports rotatably mounted 1.
Недостатками устройства вл етс низка производительность и надежность работы.The disadvantages of the device is low productivity and reliability of operation.
Цель изобретени - повышение производительности и надежности узла в работе.The purpose of the invention is to improve the performance and reliability of the node in the work.
Поставленна цель достигаетс тем, что в узле подложкодержател , содержащем кассеты со стержн ми, установленными с возможностью вращательного перемещени , кассета выполнена в виде двух параллельных пластин, в одной из которых выполнены отверсти , причем одни кониы стержней жестко закреплены на одной пластине, а другие свободно размещены в отверсти х другой плас тины.The goal is achieved by the fact that in the substrate holder assembly, which contains cassettes with rods installed with the possibility of rotational movement, the cassette is made in the form of two parallel plates, one of which has holes, one horse rods rigidly fixed on one plate, and others placed in the holes of another plate.
Привод вращени стрежней выполнен в виде эксцентрикового механизма.The rotational drive of the rods is made in the form of an eccentric mechanism.
На фиг. 1 изображено устройство, общий вид f на фиг. 2 - сечение А-А на фиг. 1 (диск - водило вплане) ; на фиг. 3 - сечение Б-Б на фиг. 2 (экспентриковый валик с фиксатором спицы).FIG. 1 shows a device, a general view of f in FIG. 2 is a section A-A in FIG. 1 (disk - drove into the plan); in fig. 3 is a section BB in FIG. 2 (expentric roller with lock spokes).
10ten
Устройство содержит вакуумную ка-, меру 1, кассету 2 с верхней пластиной 3 и нижней пластиной 4, эксцентриковые валики 5, стержни 6 с буртом 7, керамические трубки (подложки) 8, наIS правл ющие отверсти 9, приводной кривощипиый вал 10, диск - водило 11, испарители 12, токоподеоды 13, атмосферный клепай 14, вакуумную систему 15, прижимную пружину 16 и винт 17.The device contains a vacuum cam, measure 1, a cassette 2 with an upper plate 3 and a lower plate 4, eccentric rollers 5, rods 6 with a collar 7, ceramic tubes (substrates) 8, on the control holes 9, a drive shaft 10, a disk drove 11, evaporators 12, tokopododa 13, atmospheric riveting 14, a vacuum system 15, a clamping spring 16 and a screw 17.
Устройство работает следующим образом .The device works as follows.
Стержн 6, снабженные буртом 7 с загруженными керамическими трубками 8,The core 6, equipped with a collar 7 with loaded ceramic tubes 8,
подлежащими покрытию токопровод шим слоем, вставл ют в гнезда - фиксаторы эксцентриковых валиков 5, расположенных в верхйей пластине 3 группами по окружности, где в центре каждой группы расположен испаритель 12, Стержни 6 с керамическими трубками 8 встал ютс верхним концом в гнездо - фиксатор эксцентриковых валиков 5 и прижимаютс пружиной 16, а нижний конец спицы встал етс в нап вл юшие отверсти 9 нижней пластины 4.the semiconductor layer to be coated is inserted into the sockets - clamps of eccentric rollers 5, located in the upper plate 3 groups around the circumference, where the evaporator 12 is located in the center of the center, Rods 6 with ceramic tubes 8 are inserted with the upper end into the socket - locking eccentric rollers 5 and are pressed against the spring 16, and the lower end of the spokes snaps into the emerging holes 9 of the bottom plate 4.
После полной загрузки кассеты 2 колпак вакуумной камеры 1 опускают и включают вакуумную систему 15.After the cassette 2 is fully loaded, the hood of the vacuum chamber 1 is lowered and the vacuum system 15 is turned on.
По достижении высокого вакуума включают вращение приводного кривошипного вала 10. Приводной вал в свою очередь посредством кривошипа сообщает вращательное колебаниев горизонтальной плоскости диску - водилуИ, который через эксцентриковые 5 с равными эксцентриситетами с приводным валом 1О. осуществл ет вращение одновременно всех загруженных стержней 6. Затем на испарители 12 подают напр жение от токоподводов 13 дл испарени токопровод щего сло . После обработки керамических трубок 8 оТклк ;чают вакуумную систему 15 и открывают атмосферный клапан 14, поднимают колпак вакуумной камеры 1 и производ т , разгрузку.When a high vacuum is reached, the drive crank shaft 10 rotates. The drive shaft in turn, via a crank, communicates the rotational oscillations of the horizontal plane to the drive carrier, which through eccentric 5 with equal eccentricities with the drive shaft 1О. simultaneously rotates all the loaded rods 6. Then the evaporators 12 are supplied with voltage from the current leads 13 to evaporate the conductive layer. After processing the ceramic tubes 8, the vacuum system 15 is drilled and the atmospheric valve 14 is opened, the hood of the vacuum chamber 1 is lifted and the load is unloaded.
После очередной загрузки стержней 6 цикл нанесени токопровод щего сло повтор етс . Винт 17 служит дл креплени и регулировки усили пружины 16, служащей дл защемлени загруженной стержней 6,After the next loading of the rods 6, the cycle of applying the conductive layer is repeated. The screw 17 serves to fasten and adjust the forces of the spring 16, which serves to pinch the loaded rods 6,
Кажда группа эксцентриковых валиков 5, окружающих испаритель, образуетEach group of eccentric rollers 5 surrounding the evaporator forms
своеобразную кассету. Так как эксцентриковые валики дают возможность уменьщить межосевое рассто ние, то можно при небольших габаритах установок увеличить количество обрабатываемых подложек . Кроме того, верхнее крепление стержней позвол ет избежать их раскачивани что также позвол ет уменьшить рассто ние между стержн ми, увеличитьa kind of cassette. Since the eccentric rollers make it possible to reduce the center distance, it is possible to increase the number of substrates to be processed with small dimensions of installations. In addition, the upper fastening of the rods avoids rocking them, which also reduces the distance between the rods, increases
количество подложек, загружаемых на стержни, и повысить надежность работы установки за счет уменьшени амплитуды колебани стержн .the number of substrates loaded on the rods, and to increase the reliability of the installation by reducing the amplitude of the rod oscillations.
Claims (2)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
SU762331465A SU910839A1 (en) | 1976-03-09 | 1976-03-09 | Substrate holder assembly |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
SU762331465A SU910839A1 (en) | 1976-03-09 | 1976-03-09 | Substrate holder assembly |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
SU910839A1 true SU910839A1 (en) | 1982-03-07 |
Family
ID=20651258
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
SU762331465A SU910839A1 (en) | 1976-03-09 | 1976-03-09 | Substrate holder assembly |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
SU (1) | SU910839A1 (en) |
-
1976
- 1976-03-09 SU SU762331465A patent/SU910839A1/en active
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2602976B2 (en) | Cathode sputtering equipment | |
EP0443049B1 (en) | Sputtering apparatus and sputtering system | |
US4062319A (en) | Vacuum treating apparatus | |
US4305112A (en) | Capacitance humidity sensing element | |
FR2336804A1 (en) | IMPROVEMENTS MADE TO SEMICONDUCTOR DEVICES, ESPECIALLY TO PHOTOVOLTAIC DETECTORS INCLUDING A SUBSTRATE BASED ON A CDXHG1-XTE ALLOY, AND PROCESS FOR MANUFACTURING SUCH A PERFECTED DEVICE | |
GB2170822A (en) | A method for the production of substrates coated with a uniform dispersion of extremely fine granules | |
JPS56143519A (en) | Magnetic recording medium and manufacturing device | |
US3207126A (en) | Mask changer means for vacuum deposition device | |
JPH0746437Y2 (en) | Electrostatic chuck | |
SU910839A1 (en) | Substrate holder assembly | |
ES452562A1 (en) | Multiple ball element wafer breaking apparatus | |
CN206706202U (en) | A kind of crystal oscillator probe uses crystal oscillator box | |
US3352282A (en) | Vacuum deposit device including means to register and manipulate mask and substrate elements | |
JPS6254089A (en) | Mechanism for rotating and revolving wafer | |
US3675624A (en) | Apparatus for rotating work for thin film deposition | |
JPS5918638A (en) | Dry etching apparatus | |
US2692574A (en) | Apparatus for producing photoconductive cells | |
GB1428702A (en) | System for vapour deposition of thin films | |
US1640557A (en) | Method of and means for transmitting, recording, and reproducing sound | |
CN115216735B (en) | Quartz crystal oscillator piece deposition monitoring device and method in OLED production process | |
JPH0343233Y2 (en) | ||
JPS5342009A (en) | Preparation of magnetic recording medium | |
JPS59115570A (en) | Manufacture of photovoltaic element | |
JPH02219213A (en) | Resist applying apparatus | |
JPS5437581A (en) | Wafer etching device |