SU910839A1 - Substrate holder assembly - Google Patents

Substrate holder assembly Download PDF

Info

Publication number
SU910839A1
SU910839A1 SU762331465A SU2331465A SU910839A1 SU 910839 A1 SU910839 A1 SU 910839A1 SU 762331465 A SU762331465 A SU 762331465A SU 2331465 A SU2331465 A SU 2331465A SU 910839 A1 SU910839 A1 SU 910839A1
Authority
SU
USSR - Soviet Union
Prior art keywords
rods
substrate holder
holder assembly
holes
plate
Prior art date
Application number
SU762331465A
Other languages
Russian (ru)
Inventor
Виктор Петрович Гончар
Александр Федорович Хихлач
Израиль Петрович Немировский
Original Assignee
Gonchar Viktor P
Khikhlach Aleksandr F
Nemirovskij Izrail P
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Gonchar Viktor P, Khikhlach Aleksandr F, Nemirovskij Izrail P filed Critical Gonchar Viktor P
Priority to SU762331465A priority Critical patent/SU910839A1/en
Application granted granted Critical
Publication of SU910839A1 publication Critical patent/SU910839A1/en

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/50Substrate holders
    • C23C14/505Substrate holders for rotation of the substrates

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Description

(54) УЗЕЛ ПОДЛОЖКОДЕРЖЛТЕЛЯ(54) UNDER HOLDER'S KNOT

II

.Изобретение относитс  к электронной технике и может быть использовано при производстве резисторов.The invention relates to electronic technology and can be used in the manufacture of resistors.

Известно устройство дл  нанесени  покрытий в вакууме, содержащее кассеты со стержневыми подложкодержател ми , установленными с возможностью вращени  1 .A vacuum coating device is known that contains cassettes with rod supports rotatably mounted 1.

Недостатками устройства  вл етс  низка  производительность и надежность работы.The disadvantages of the device is low productivity and reliability of operation.

Цель изобретени  - повышение производительности и надежности узла в работе.The purpose of the invention is to improve the performance and reliability of the node in the work.

Поставленна  цель достигаетс  тем, что в узле подложкодержател , содержащем кассеты со стержн ми, установленными с возможностью вращательного перемещени , кассета выполнена в виде двух параллельных пластин, в одной из которых выполнены отверсти , причем одни кониы стержней жестко закреплены на одной пластине, а другие свободно размещены в отверсти х другой плас тины.The goal is achieved by the fact that in the substrate holder assembly, which contains cassettes with rods installed with the possibility of rotational movement, the cassette is made in the form of two parallel plates, one of which has holes, one horse rods rigidly fixed on one plate, and others placed in the holes of another plate.

Привод вращени  стрежней выполнен в виде эксцентрикового механизма.The rotational drive of the rods is made in the form of an eccentric mechanism.

На фиг. 1 изображено устройство, общий вид f на фиг. 2 - сечение А-А на фиг. 1 (диск - водило вплане) ; на фиг. 3 - сечение Б-Б на фиг. 2 (экспентриковый валик с фиксатором спицы).FIG. 1 shows a device, a general view of f in FIG. 2 is a section A-A in FIG. 1 (disk - drove into the plan); in fig. 3 is a section BB in FIG. 2 (expentric roller with lock spokes).

10ten

Устройство содержит вакуумную ка-, меру 1, кассету 2 с верхней пластиной 3 и нижней пластиной 4, эксцентриковые валики 5, стержни 6 с буртом 7, керамические трубки (подложки) 8, наIS правл ющие отверсти  9, приводной кривощипиый вал 10, диск - водило 11, испарители 12, токоподеоды 13, атмосферный клепай 14, вакуумную систему 15, прижимную пружину 16 и винт 17.The device contains a vacuum cam, measure 1, a cassette 2 with an upper plate 3 and a lower plate 4, eccentric rollers 5, rods 6 with a collar 7, ceramic tubes (substrates) 8, on the control holes 9, a drive shaft 10, a disk drove 11, evaporators 12, tokopododa 13, atmospheric riveting 14, a vacuum system 15, a clamping spring 16 and a screw 17.

Устройство работает следующим образом .The device works as follows.

Стержн  6, снабженные буртом 7 с загруженными керамическими трубками 8,The core 6, equipped with a collar 7 with loaded ceramic tubes 8,

подлежащими покрытию токопровод шим слоем, вставл ют в гнезда - фиксаторы эксцентриковых валиков 5, расположенных в верхйей пластине 3 группами по окружности, где в центре каждой группы расположен испаритель 12, Стержни 6 с керамическими трубками 8 встал ютс  верхним концом в гнездо - фиксатор эксцентриковых валиков 5 и прижимаютс  пружиной 16, а нижний конец спицы встал етс  в нап вл юшие отверсти  9 нижней пластины 4.the semiconductor layer to be coated is inserted into the sockets - clamps of eccentric rollers 5, located in the upper plate 3 groups around the circumference, where the evaporator 12 is located in the center of the center, Rods 6 with ceramic tubes 8 are inserted with the upper end into the socket - locking eccentric rollers 5 and are pressed against the spring 16, and the lower end of the spokes snaps into the emerging holes 9 of the bottom plate 4.

После полной загрузки кассеты 2 колпак вакуумной камеры 1 опускают и включают вакуумную систему 15.After the cassette 2 is fully loaded, the hood of the vacuum chamber 1 is lowered and the vacuum system 15 is turned on.

По достижении высокого вакуума включают вращение приводного кривошипного вала 10. Приводной вал в свою очередь посредством кривошипа сообщает вращательное колебаниев горизонтальной плоскости диску - водилуИ, который через эксцентриковые 5 с равными эксцентриситетами с приводным валом 1О. осуществл ет вращение одновременно всех загруженных стержней 6. Затем на испарители 12 подают напр жение от токоподводов 13 дл  испарени  токопровод щего сло . После обработки керамических трубок 8 оТклк ;чают вакуумную систему 15 и открывают атмосферный клапан 14, поднимают колпак вакуумной камеры 1 и производ т , разгрузку.When a high vacuum is reached, the drive crank shaft 10 rotates. The drive shaft in turn, via a crank, communicates the rotational oscillations of the horizontal plane to the drive carrier, which through eccentric 5 with equal eccentricities with the drive shaft 1О. simultaneously rotates all the loaded rods 6. Then the evaporators 12 are supplied with voltage from the current leads 13 to evaporate the conductive layer. After processing the ceramic tubes 8, the vacuum system 15 is drilled and the atmospheric valve 14 is opened, the hood of the vacuum chamber 1 is lifted and the load is unloaded.

После очередной загрузки стержней 6 цикл нанесени  токопровод щего сло  повтор етс . Винт 17 служит дл  креплени  и регулировки усили  пружины 16, служащей дл  защемлени  загруженной стержней 6,After the next loading of the rods 6, the cycle of applying the conductive layer is repeated. The screw 17 serves to fasten and adjust the forces of the spring 16, which serves to pinch the loaded rods 6,

Кажда  группа эксцентриковых валиков 5, окружающих испаритель, образуетEach group of eccentric rollers 5 surrounding the evaporator forms

своеобразную кассету. Так как эксцентриковые валики дают возможность уменьщить межосевое рассто ние, то можно при небольших габаритах установок увеличить количество обрабатываемых подложек . Кроме того, верхнее крепление стержней позвол ет избежать их раскачивани  что также позвол ет уменьшить рассто ние между стержн ми, увеличитьa kind of cassette. Since the eccentric rollers make it possible to reduce the center distance, it is possible to increase the number of substrates to be processed with small dimensions of installations. In addition, the upper fastening of the rods avoids rocking them, which also reduces the distance between the rods, increases

количество подложек, загружаемых на стержни, и повысить надежность работы установки за счет уменьшени  амплитуды колебани  стержн .the number of substrates loaded on the rods, and to increase the reliability of the installation by reducing the amplitude of the rod oscillations.

Claims (2)

1.Узел подложкодержател , содержащий кассеты со стержн ми, установленными с возможностью вращательного перемещени , отличающийс  тем, что, с целью повьпиени  производительности и надежности узла в работе , кассета выполнена в виде двух параллельных пластин, в одной из которых выполнены отверсти , причем одни концы стержней жестко закреплены на одной пластине, а другие свободно размещены в отверсти х другой пластины.1. A substrate holder assembly containing cassettes with rods installed with the possibility of rotational movement, characterized in that, in order to improve the performance and reliability of the unit in operation, the cassette is made in the form of two parallel plates, one of which has holes, and one end The rods are rigidly fixed on one plate, while others are loosely placed in the holes of the other plate. 2.Узел по п. 1, отличаю щ и и с   тем; что привод вращени  стержней выполнен в виде эксцентрикового механизма.2. Node under item 1, I distinguish u and in order; That the rotational drive of the rods is made in the form of an eccentric mechanism. Источники информации,Information sources, прин тые во внимание при экспертизеtaken into account in the examination 1. Блинов И. Г. и др. Вакуумное оборудование дл  нанесени  тонких пленок. М., Электроника, 1969, с. 96-107 (прототип).1. Blinov, IG, et al. Vacuum equipment for applying thin films. M., Electronics, 1969, p. 96-107 (prototype).
SU762331465A 1976-03-09 1976-03-09 Substrate holder assembly SU910839A1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SU762331465A SU910839A1 (en) 1976-03-09 1976-03-09 Substrate holder assembly

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SU762331465A SU910839A1 (en) 1976-03-09 1976-03-09 Substrate holder assembly

Publications (1)

Publication Number Publication Date
SU910839A1 true SU910839A1 (en) 1982-03-07

Family

ID=20651258

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
SU762331465A SU910839A1 (en) 1976-03-09 1976-03-09 Substrate holder assembly

Country Status (1)

Country Link
SU (1) SU910839A1 (en)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2602976B2 (en) Cathode sputtering equipment
EP0443049B1 (en) Sputtering apparatus and sputtering system
US4062319A (en) Vacuum treating apparatus
US4305112A (en) Capacitance humidity sensing element
FR2336804A1 (en) IMPROVEMENTS MADE TO SEMICONDUCTOR DEVICES, ESPECIALLY TO PHOTOVOLTAIC DETECTORS INCLUDING A SUBSTRATE BASED ON A CDXHG1-XTE ALLOY, AND PROCESS FOR MANUFACTURING SUCH A PERFECTED DEVICE
GB2170822A (en) A method for the production of substrates coated with a uniform dispersion of extremely fine granules
JPS56143519A (en) Magnetic recording medium and manufacturing device
US3207126A (en) Mask changer means for vacuum deposition device
JPH0746437Y2 (en) Electrostatic chuck
SU910839A1 (en) Substrate holder assembly
ES452562A1 (en) Multiple ball element wafer breaking apparatus
CN206706202U (en) A kind of crystal oscillator probe uses crystal oscillator box
US3352282A (en) Vacuum deposit device including means to register and manipulate mask and substrate elements
JPS6254089A (en) Mechanism for rotating and revolving wafer
US3675624A (en) Apparatus for rotating work for thin film deposition
JPS5918638A (en) Dry etching apparatus
US2692574A (en) Apparatus for producing photoconductive cells
GB1428702A (en) System for vapour deposition of thin films
US1640557A (en) Method of and means for transmitting, recording, and reproducing sound
CN115216735B (en) Quartz crystal oscillator piece deposition monitoring device and method in OLED production process
JPH0343233Y2 (en)
JPS5342009A (en) Preparation of magnetic recording medium
JPS59115570A (en) Manufacture of photovoltaic element
JPH02219213A (en) Resist applying apparatus
JPS5437581A (en) Wafer etching device