SU775186A1 - Brass-plating electrolyte - Google Patents
Brass-plating electrolyte Download PDFInfo
- Publication number
- SU775186A1 SU775186A1 SU782698706A SU2698706A SU775186A1 SU 775186 A1 SU775186 A1 SU 775186A1 SU 782698706 A SU782698706 A SU 782698706A SU 2698706 A SU2698706 A SU 2698706A SU 775186 A1 SU775186 A1 SU 775186A1
- Authority
- SU
- USSR - Soviet Union
- Prior art keywords
- ussr
- copper
- brass
- electrolyte
- range
- Prior art date
Links
Landscapes
- Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)
Description
Изобретение относитс к гальвано стегии, в частности к электролитическому осаждению покрытий сплавом медь-цинк типа желта латунь (50-80% меди). Известны нецианистые электролиты латунировани , содержащие соли меди и цинка и различные комплексообразователи , например полиэтиленполиамин или фосфорную кислоту 1 и 2 . Однако указанные электролиты пре назначены дл получени покрытий сп Томпак (85ном медь-цинк типа 96%) меди. Наиболее близким к изобретению, вл етс известный электролит латунировани , содержащий сернокислую медь, сернокислый цинк и комплексо обраэователь, например пирофосфат кали 3. Электролит содержит также сульфосешициловый натрий. Электролит предназначен дл получени сплава типа желта латунь . Однако в известном электролите используют узкий интервал рабочих плотностей тока (0,5-1 А/дм), а выход по току составл ет 20-30%. цель изобретени - повышение выхода по току и расширение интервала рабочих плотностей тока. Указанна цель достигаетс тем, что в качестве комплексообразовател электролит содержит 1,2-диаминопропан при следующем соотношении компонентов, г/л: 12-25 Сернокисла медь 14-29 Сернокислый цинк 30-60 1,2-Диаминопропан рекомендуют Процесс осаждени проводить при рН 7,5-13, температуре 18-25 С и плотности тока 0,253 А/дм с использованием латунных анодов ( Л-62, Л-68, Л-70) .S -Sji l . Покрыти осаждают на сталь, никель и медь. Электролит стабилен в работе при пропускании 100 А«ч/л. Рассеивающа способность, измеренна по току в щелевой чейке с п тисекционными катодами, составл ет 43-29%. Из предлагаемого электролита осаждают покрыти толщиной 3-50 мкм. Изобретение может быть проиллюстрировано несколькими примерами, представленными в таблице.This invention relates to galvano stegia, in particular to the electrolytic deposition of copper-zinc alloys of the yellow brass type (50-80% copper). Non-cyanide plating electrolytes are known, containing copper and zinc salts and various complexing agents, for example polyethylene polyamine or phosphoric acid 1 and 2. However, these electrolytes were used to obtain Thompac spun coatings (85th grade copper-zinc type 96%) copper. Closest to the invention is a known electrolyte for brassing containing copper sulphate, zinc sulphate and a complexing agent, such as potassium pyrophosphate 3. The electrolyte also contains sulfo seshitsyilovy sodium. The electrolyte is designed to produce a yellow brass alloy. However, in a known electrolyte, a narrow range of operating current densities (0.5-1 A / dm) is used, and the current efficiency is 20-30%. The purpose of the invention is to increase the current efficiency and expand the range of operating current densities. This goal is achieved by the fact that, as a complexing agent, the electrolyte contains 1,2-diaminopropane in the following ratio of components, g / l: 12-25 Sulfuric acid, copper 14-29 Zinc sulfate 30-60 1,2-Diaminopropane is recommended to carry out the precipitation process at pH 7 , 5-13, temperature 18-25 С and current density 0,253 A / dm using brass anodes (L-62, L-68, L-70) .S-Shi l. Coatings are deposited on steel, nickel and copper. The electrolyte is stable in operation by passing 100 A "h / l. The scattering power measured by the current in the slit cell with cross-section cathodes is 43-29%. Coatings 3-50 microns thick are deposited from the proposed electrolyte. The invention can be illustrated by several examples presented in the table.
Сернокисла медь Сернокислый цинк 1,2-Диаминопропан Плотность тока,А/дм Продолжительность, ч Толщина покрыти , мкм Скорость осаждени ,мкм/ч Выход по току,%Copper sulfate Zinc sulfate 1,2-Diaminopropane Current density, A / dm Duration, h Coating thickness, µm Deposition rate, µm / h Current output,%
оabout
Микротвердость,кг/ммMicrohardness, kg / mm
Содержание меди в покры-тии ,%Copper content in coating,%
Коррозионна стойкость, баллCorrosion Resistance, score
16sixteen
16sixteen
2525
1818
1818
2929
4040
6060
,2525
1,01.0
2,02.0
3,03.0
,33, 33
0,180.18
0,080.08
1,41.4
33
5050
33
16sixteen
3636
3131
96,896,8
9494
9292
205205
233233
215215
6868
5959
5151
Claims (3)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
SU782698706A SU775186A1 (en) | 1978-12-20 | 1978-12-20 | Brass-plating electrolyte |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
SU782698706A SU775186A1 (en) | 1978-12-20 | 1978-12-20 | Brass-plating electrolyte |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
SU775186A1 true SU775186A1 (en) | 1980-10-30 |
Family
ID=20799406
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
SU782698706A SU775186A1 (en) | 1978-12-20 | 1978-12-20 | Brass-plating electrolyte |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
SU (1) | SU775186A1 (en) |
-
1978
- 1978-12-20 SU SU782698706A patent/SU775186A1/en active
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US3989604A (en) | Method of producing metal strip having a galvanized coating on one side | |
US4834845A (en) | Preparation of Zn-Ni alloy plated steel strip | |
KR910004972B1 (en) | Manufacturing method of tin-cobalt, tin-nickel, tin-lead binary alloy electroplating bath and electroplating bath manufactured by this method | |
US20040195107A1 (en) | Electrolytic solution for electrochemical deposition gold and its alloys | |
SU775186A1 (en) | Brass-plating electrolyte | |
JPH0424440B2 (en) | ||
US4411744A (en) | Bath and process for high speed nickel electroplating | |
US4615773A (en) | Chromium-iron alloy plating from a solution containing both hexavalent and trivalent chromium | |
CA1180677A (en) | Bath and process for high speed nickel electroplating | |
SU699037A1 (en) | Electrolyte for depositing nickel-phosphorus alloy coatings | |
SU933817A1 (en) | Electrolyte for electrochemically depositing osmium coatings | |
SU1239176A1 (en) | Hard nickel plating electrolyte | |
SU424909A1 (en) | METHOD OF ELECTROLYTIC PRODUCING OF ALLOYS ON THE BASIS OF COBALT | |
JPS5613497A (en) | Electrolytic coloring method for aluminum group metal | |
SU1177400A1 (en) | Electrolyte for depositing coatings from copper and zinc-base alloy | |
SU1113429A1 (en) | Aqueous copper-plating electrolyte | |
SU891810A1 (en) | Electrolyte for depositing copper-zink alloy coatings | |
RU2132889C1 (en) | Process of preparation of electrolyte for deposition of metal nickel ( versions ) | |
JPS5613498A (en) | Electrolytic coloring method for aluminum or aluminum alloy | |
SU840207A1 (en) | Electrolyte for precipitating nickel-cobalt alloy platings | |
GB1095905A (en) | Improvements in or relating to electro-plating solutions | |
SU846602A1 (en) | Electrolyte for copper deposition | |
SU1339167A1 (en) | Brass=plating electrolyte | |
SU532663A1 (en) | Manganese Electrodeposition Method | |
JPH0141719B2 (en) |