SU649454A1 - Способ переноса вещества путем химической газотранспортной реакции - Google Patents

Способ переноса вещества путем химической газотранспортной реакции

Info

Publication number
SU649454A1
SU649454A1 SU752157006A SU2157006A SU649454A1 SU 649454 A1 SU649454 A1 SU 649454A1 SU 752157006 A SU752157006 A SU 752157006A SU 2157006 A SU2157006 A SU 2157006A SU 649454 A1 SU649454 A1 SU 649454A1
Authority
SU
USSR - Soviet Union
Prior art keywords
source
substance
substrate
chemical gas
transfer
Prior art date
Application number
SU752157006A
Other languages
English (en)
Inventor
Эллин Петрович Бочкарев
Николай Георгиевич Воронин
Олег Евгеньевич Коробов
Вадим Николаевич Маслов
Ирина Борисовна Никитина
Original Assignee
Государственный ордена Октябрьской Революции научно-исследовательский и проектный институт редкометаллической промышленности
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Государственный ордена Октябрьской Революции научно-исследовательский и проектный институт редкометаллической промышленности filed Critical Государственный ордена Октябрьской Революции научно-исследовательский и проектный институт редкометаллической промышленности
Priority to SU752157006A priority Critical patent/SU649454A1/ru
Application granted granted Critical
Publication of SU649454A1 publication Critical patent/SU649454A1/ru

Links

Landscapes

  • Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)

Description

рывно. По предложенному способу перенос при помощи транспортирующего тела осуществл ют поочередно из нескольких источников , содержащих различные вещества.
Если механическое перемещение осуществл етс  периодически от источников разного состава, то возможен последовательный перенос на подложку вполне определенных порций вещества.
За счет непрерывного механического переноса возможно обеспечение непрерывного процесса кристаллизации эпитаксильпого сло .
На фиг. 1 дана схема предлагаемого способа (перенос вещества с источника на транспортирующее тело); фиг. 2 - механическое перемещение транспортирующего тела; фиг. 3 - перенос вещества с транспортирующего тела на подложку.
На фиг. 1 прин ты следующие обозначег ни : 1 - источник, 2 - подложка, 3 - транспортирующее тело (например, кварцева  пластина), 4 - осажденный на кварцевой пластине юлой транспортируемого вещества,, 5 - реактор.
Пример. Предлагаемый способ использован дл  химического переноса вещества из источника, состо щего из механической смеси порощков GaAs (ЭОлол ,%) и GaP (10 мол %), на подложку GaAs.
Перепое провод т при помощи химической транспортпой реакции с парами воды в атмосфере водорода. Термодинамическое направление процесса переноса в данной химической системе: из области более высоких температур - в область более низких температур. Предлагаемый способ позвол ет провести процесс в обратном температурном направлении, т. е. от более холодного источника к более гор чей подложке и при направлении газового потока в реакторе от подложки к источнику (фиг. 1).
Процесс провод т следующим образом: К источнику, нагретому до температуры 870° С, приближают в позицию близкого расположени  транспортирующее тело (кварцевую пластину) с температурой 750° С. Начинаетс  химический перенос вещества из источни|ка па поверхность транспортирующего тела. Через 30 мин, после переноса из источника достаточного количества вещества, образовавщего на поверхности транюпортирующего тела (ноликристаллический слой твердого раствора GaAso,9Po,i), транспортирующее тело при помощи штока перемещают в положение близкого расположени  относительно подложки , причем нагревают в процессе этого перемещени  до температуры 950° С (при помощи приспособлени , неуказанного на фиг. 1). Температура подложки 900° С, так
что перенос вещества происходит от транспортирующего тела на подложку из арсенида галли  (III) Б, где происходит эпитаксиальный рост твердого раствора GaAso,9Po,i. Металлографическое исследование поверхности эпитаксиального сло  и поперечного скола показывает полное отсутствие вросщих частиц второй фазы, как это обычно бывает при непосредственном переносе вещества из порошкообразного источника.
Таким образом, предлагаемый способ позвол ет не только осуществить перенос вещества при проведении химической транспортной реакции со скоростью и в направлении независимо от направлени  газового
потока и температурного перепада между источником и подложкой, но и обеспечить повыщение качества эпитаксиального сло  по сравнению с обычно достижимым при использовании тех же исходных веществ в источнике .

Claims (2)

1.Способ переноса вещества путем химической газотрапспортной реакции от источника на подложку в проточной системе, отличающийс  тем, что, с целью устранени  зависимости направлени  и скорости переноса от направлени  газового потока и от перепада температуры между источником и нодложкой, в качестве носител  вещества используют твердое тело.
2.Способ по п. 1, отличающийс  тем, что перенос при помощи транспортиру
ющего тела осуществл ют поочередно из нескольких источников, содержащих различные вещества..
Источники информации, прин тые во внимание при экспертизе:.
1. Шефер Г. Химические газотранспортные реакции, М., «Мир, 1964, с. 14-15.
2. Шефер Г. Химические газотранспортные реакции, М., «Мир, 1964, с. 16.
LL
Потек газа.
flomoK газа
Раг.З
SU752157006A 1975-08-12 1975-08-12 Способ переноса вещества путем химической газотранспортной реакции SU649454A1 (ru)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SU752157006A SU649454A1 (ru) 1975-08-12 1975-08-12 Способ переноса вещества путем химической газотранспортной реакции

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SU752157006A SU649454A1 (ru) 1975-08-12 1975-08-12 Способ переноса вещества путем химической газотранспортной реакции

Publications (1)

Publication Number Publication Date
SU649454A1 true SU649454A1 (ru) 1979-02-28

Family

ID=20626850

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
SU752157006A SU649454A1 (ru) 1975-08-12 1975-08-12 Способ переноса вещества путем химической газотранспортной реакции

Country Status (1)

Country Link
SU (1) SU649454A1 (ru)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5725659A (en) * 1994-10-03 1998-03-10 Sepehry-Fard; Fareed Solid phase epitaxy reactor, the most cost effective GaAs epitaxial growth technology

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5725659A (en) * 1994-10-03 1998-03-10 Sepehry-Fard; Fareed Solid phase epitaxy reactor, the most cost effective GaAs epitaxial growth technology

Similar Documents

Publication Publication Date Title
Morosanu Thin films by chemical vapour deposition
Cowley et al. Single‐Source III/V Precursors: A New Approach to Gallium Arsenide and Related Semiconductors
AU3994785A (en) Method and apparatus for the gas jet deposition of conductingand dielectric thin solid films and products produced there by
SU649454A1 (ru) Способ переноса вещества путем химической газотранспортной реакции
US4804638A (en) Metalorganic chemical vapor deposition growth of Group II-IV semiconductor materials having improved compositional uniformity
JPS57158370A (en) Formation of metallic thin film
US4253887A (en) Method of depositing layers of semi-insulating gallium arsenide
JPH01257337A (ja) 気相エピタキシャル成長装置
GB1260233A (en) Improvements in or relating to the epitaxial deposition of crystalline material from the gas phase
KR920010034A (ko) 교대(alternating)화학반응에 의한 CVD 다이아몬드
KR19990067143A (ko) 유기 염화인듐의 제조 방법
JPS497992B1 (ru)
Arizumi Some Aspects of the Epitaxial Vapor Growth of Semiconductors: Elements, III--V Compounds and Alloys
GB1482016A (en) Epitaxial deposition of semiconductor material
US4814203A (en) Vapor deposition of arsenic
KR880003880A (ko) 4-메틸-1-펜텐의 제조방법
JPS6425984A (en) Formation of deposited film
Seki et al. Thermodynamic Calculation of the VPE Growth of In1-xGaxAsyP1-y by the Trichloride Method
GB1135111A (en) Improvements in or relating to the manufacture of layers of silicon
JPS53142388A (en) Gas phase growth method for epitaxial layer
JPS55167199A (en) Vapor phase epitaxial growing apparatus
JPS52153374A (en) Vapor phase growth method for compound semiconductor of groups iii-v
JPS5645897A (en) Manufacture of silicon carbide crystal
SU605357A1 (ru) Способ эпитаксиального выращивани
ES461934A1 (es) Procedimiento de limpieza de paredes internas de reactores quimicos.