SU649454A1 - Способ переноса вещества путем химической газотранспортной реакции - Google Patents
Способ переноса вещества путем химической газотранспортной реакцииInfo
- Publication number
- SU649454A1 SU649454A1 SU752157006A SU2157006A SU649454A1 SU 649454 A1 SU649454 A1 SU 649454A1 SU 752157006 A SU752157006 A SU 752157006A SU 2157006 A SU2157006 A SU 2157006A SU 649454 A1 SU649454 A1 SU 649454A1
- Authority
- SU
- USSR - Soviet Union
- Prior art keywords
- source
- substance
- substrate
- chemical gas
- transfer
- Prior art date
Links
Landscapes
- Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
Description
рывно. По предложенному способу перенос при помощи транспортирующего тела осуществл ют поочередно из нескольких источников , содержащих различные вещества.
Если механическое перемещение осуществл етс периодически от источников разного состава, то возможен последовательный перенос на подложку вполне определенных порций вещества.
За счет непрерывного механического переноса возможно обеспечение непрерывного процесса кристаллизации эпитаксильпого сло .
На фиг. 1 дана схема предлагаемого способа (перенос вещества с источника на транспортирующее тело); фиг. 2 - механическое перемещение транспортирующего тела; фиг. 3 - перенос вещества с транспортирующего тела на подложку.
На фиг. 1 прин ты следующие обозначег ни : 1 - источник, 2 - подложка, 3 - транспортирующее тело (например, кварцева пластина), 4 - осажденный на кварцевой пластине юлой транспортируемого вещества,, 5 - реактор.
Пример. Предлагаемый способ использован дл химического переноса вещества из источника, состо щего из механической смеси порощков GaAs (ЭОлол ,%) и GaP (10 мол %), на подложку GaAs.
Перепое провод т при помощи химической транспортпой реакции с парами воды в атмосфере водорода. Термодинамическое направление процесса переноса в данной химической системе: из области более высоких температур - в область более низких температур. Предлагаемый способ позвол ет провести процесс в обратном температурном направлении, т. е. от более холодного источника к более гор чей подложке и при направлении газового потока в реакторе от подложки к источнику (фиг. 1).
Процесс провод т следующим образом: К источнику, нагретому до температуры 870° С, приближают в позицию близкого расположени транспортирующее тело (кварцевую пластину) с температурой 750° С. Начинаетс химический перенос вещества из источни|ка па поверхность транспортирующего тела. Через 30 мин, после переноса из источника достаточного количества вещества, образовавщего на поверхности транюпортирующего тела (ноликристаллический слой твердого раствора GaAso,9Po,i), транспортирующее тело при помощи штока перемещают в положение близкого расположени относительно подложки , причем нагревают в процессе этого перемещени до температуры 950° С (при помощи приспособлени , неуказанного на фиг. 1). Температура подложки 900° С, так
что перенос вещества происходит от транспортирующего тела на подложку из арсенида галли (III) Б, где происходит эпитаксиальный рост твердого раствора GaAso,9Po,i. Металлографическое исследование поверхности эпитаксиального сло и поперечного скола показывает полное отсутствие вросщих частиц второй фазы, как это обычно бывает при непосредственном переносе вещества из порошкообразного источника.
Таким образом, предлагаемый способ позвол ет не только осуществить перенос вещества при проведении химической транспортной реакции со скоростью и в направлении независимо от направлени газового
потока и температурного перепада между источником и подложкой, но и обеспечить повыщение качества эпитаксиального сло по сравнению с обычно достижимым при использовании тех же исходных веществ в источнике .
Claims (2)
1.Способ переноса вещества путем химической газотрапспортной реакции от источника на подложку в проточной системе, отличающийс тем, что, с целью устранени зависимости направлени и скорости переноса от направлени газового потока и от перепада температуры между источником и нодложкой, в качестве носител вещества используют твердое тело.
2.Способ по п. 1, отличающийс тем, что перенос при помощи транспортиру
ющего тела осуществл ют поочередно из нескольких источников, содержащих различные вещества..
Источники информации, прин тые во внимание при экспертизе:.
1. Шефер Г. Химические газотранспортные реакции, М., «Мир, 1964, с. 14-15.
2. Шефер Г. Химические газотранспортные реакции, М., «Мир, 1964, с. 16.
LL
Потек газа.
flomoK газа
Раг.З
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
SU752157006A SU649454A1 (ru) | 1975-08-12 | 1975-08-12 | Способ переноса вещества путем химической газотранспортной реакции |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
SU752157006A SU649454A1 (ru) | 1975-08-12 | 1975-08-12 | Способ переноса вещества путем химической газотранспортной реакции |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
SU649454A1 true SU649454A1 (ru) | 1979-02-28 |
Family
ID=20626850
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
SU752157006A SU649454A1 (ru) | 1975-08-12 | 1975-08-12 | Способ переноса вещества путем химической газотранспортной реакции |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
SU (1) | SU649454A1 (ru) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5725659A (en) * | 1994-10-03 | 1998-03-10 | Sepehry-Fard; Fareed | Solid phase epitaxy reactor, the most cost effective GaAs epitaxial growth technology |
-
1975
- 1975-08-12 SU SU752157006A patent/SU649454A1/ru active
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5725659A (en) * | 1994-10-03 | 1998-03-10 | Sepehry-Fard; Fareed | Solid phase epitaxy reactor, the most cost effective GaAs epitaxial growth technology |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
Morosanu | Thin films by chemical vapour deposition | |
Cowley et al. | Single‐Source III/V Precursors: A New Approach to Gallium Arsenide and Related Semiconductors | |
AU3994785A (en) | Method and apparatus for the gas jet deposition of conductingand dielectric thin solid films and products produced there by | |
SU649454A1 (ru) | Способ переноса вещества путем химической газотранспортной реакции | |
US4804638A (en) | Metalorganic chemical vapor deposition growth of Group II-IV semiconductor materials having improved compositional uniformity | |
JPS57158370A (en) | Formation of metallic thin film | |
US4253887A (en) | Method of depositing layers of semi-insulating gallium arsenide | |
JPH01257337A (ja) | 気相エピタキシャル成長装置 | |
GB1260233A (en) | Improvements in or relating to the epitaxial deposition of crystalline material from the gas phase | |
KR920010034A (ko) | 교대(alternating)화학반응에 의한 CVD 다이아몬드 | |
KR19990067143A (ko) | 유기 염화인듐의 제조 방법 | |
JPS497992B1 (ru) | ||
Arizumi | Some Aspects of the Epitaxial Vapor Growth of Semiconductors: Elements, III--V Compounds and Alloys | |
GB1482016A (en) | Epitaxial deposition of semiconductor material | |
US4814203A (en) | Vapor deposition of arsenic | |
KR880003880A (ko) | 4-메틸-1-펜텐의 제조방법 | |
JPS6425984A (en) | Formation of deposited film | |
Seki et al. | Thermodynamic Calculation of the VPE Growth of In1-xGaxAsyP1-y by the Trichloride Method | |
GB1135111A (en) | Improvements in or relating to the manufacture of layers of silicon | |
JPS53142388A (en) | Gas phase growth method for epitaxial layer | |
JPS55167199A (en) | Vapor phase epitaxial growing apparatus | |
JPS52153374A (en) | Vapor phase growth method for compound semiconductor of groups iii-v | |
JPS5645897A (en) | Manufacture of silicon carbide crystal | |
SU605357A1 (ru) | Способ эпитаксиального выращивани | |
ES461934A1 (es) | Procedimiento de limpieza de paredes internas de reactores quimicos. |