SU601562A1 - Method of detecting flaws of photo stencils with rectangular topology of pattern - Google Patents

Method of detecting flaws of photo stencils with rectangular topology of pattern

Info

Publication number
SU601562A1
SU601562A1 SU762394565A SU2394565A SU601562A1 SU 601562 A1 SU601562 A1 SU 601562A1 SU 762394565 A SU762394565 A SU 762394565A SU 2394565 A SU2394565 A SU 2394565A SU 601562 A1 SU601562 A1 SU 601562A1
Authority
SU
USSR - Soviet Union
Prior art keywords
pattern
photo
stencils
detecting flaws
rectangular topology
Prior art date
Application number
SU762394565A
Other languages
Russian (ru)
Inventor
Юрий Константинович Блинов
Владимир Борисович Кравцов
Михаил Петрович Кутявин
Борис Викторович Телешов
Яков Борисович Шац
Original Assignee
Предприятие П/Я В-8657
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Предприятие П/Я В-8657 filed Critical Предприятие П/Я В-8657
Priority to SU762394565A priority Critical patent/SU601562A1/en
Application granted granted Critical
Publication of SU601562A1 publication Critical patent/SU601562A1/en

Links

Description

Изобретение огноситс  к контрольно-измерительной технике, а именно к оптическим методам измерени , и можег быть использовано в частности дл  контрол  фотошаблонов дл  производства интегральных схем с пр моугольной топологией рисунка , Известен способ контрол  дефектов фото шаблонов, заключающийс  в блокировке про странственных частот, соответствующих регул рной структуре, голографическим фильтром |ij . Однако такой способ имеет невысокую точность контрол , так как изображение дефектов накладываетс  иа изображение бездефев Ного .{жсунка фотошаблона в виде све т щих точек и более слабые дефекты могут быть не замечени оператором. Кроме того, способ недостаточно производителен иэ-чэа сложностей в изготовлении фильтра и юстировки системы при сменефотошаблона Наиболее близким по технической сущнос ти и решаемой задаче к данному изобретени  вл етс  способ контрол  дефекта фотошаблонов с пр моугольной топологией рисунка, заключающийс  в том, что освещают фотошаблон колликированным пучком света, формируют изображение спектра пространственных частот с помощью объектива, блокируют пространственные частоты, соответствующие пр моугольной топологии рисунка, и получают изображени  дефектов 2J. Известный способ осуществл етс  с помощью крестообразного фильтра и объективов пр мого и обратного фурье преобразовани .. Недостатками этого способа  вл ютс  низка  точность контрол , обусловленна  тем, что фильтр не подавл ет полностью пространственные частоты. Соответствующие пр моугольной топологии рисунка, а также низка  производительность контрол , обусловленна  необходимостью настройки системы при смене фотощаблона. Цель изобретени  - повышение точности и производительности контрол . Дл  этого фотошаблон освещают двум  скрещивающимис  колпимированными пучка- ми света, направленными под угаом J% к опThe invention fires on instrumentation technology, namely optical measurement methods, and can be used in particular to control photomasks for the manufacture of integrated circuits with a rectangular topology of the pattern. There is a known method for monitoring photo pattern defects, which consists of blocking spatial frequencies real structure, holographic filter | ij. However, this method has a low control accuracy, since the image of defects is superimposed on the image of Nogo's deerfaces. {A photo mask pattern with glowing points and weaker defects may not be noticed by the operator. In addition, the method is not efficient enough for making the filter and adjusting the system when changing the photoplate. light beam, form an image of the spectrum of spatial frequencies using a lens, block the spatial frequencies corresponding to the rectangular topology of the pattern, and uchayut image defects 2J. The known method is carried out using a cross-shaped filter and direct and inverse Fourier transform lenses. The disadvantages of this method are the low control accuracy due to the fact that the filter does not suppress all spatial frequencies. The corresponding rectangular topology of the pattern, as well as the low productivity of the control, is due to the need to adjust the system when changing photo gages. The purpose of the invention is to improve the accuracy and performance of the control. To do this, the photomask is illuminated by two crossed light-beamed beams, directed under the angle J% to op

SU762394565A 1976-08-02 1976-08-02 Method of detecting flaws of photo stencils with rectangular topology of pattern SU601562A1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SU762394565A SU601562A1 (en) 1976-08-02 1976-08-02 Method of detecting flaws of photo stencils with rectangular topology of pattern

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SU762394565A SU601562A1 (en) 1976-08-02 1976-08-02 Method of detecting flaws of photo stencils with rectangular topology of pattern

Publications (1)

Publication Number Publication Date
SU601562A1 true SU601562A1 (en) 1978-04-05

Family

ID=20673494

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
SU762394565A SU601562A1 (en) 1976-08-02 1976-08-02 Method of detecting flaws of photo stencils with rectangular topology of pattern

Country Status (1)

Country Link
SU (1) SU601562A1 (en)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4000949A (en) Photomask inspection by optical spatial filtering
KR970060356A (en) Pattern Forming Method, Projection Exposure Device, and Manufacturing Method of Semiconductor Device
EP1922587B1 (en) Method for determining intensity distribution in the focal plane of a projection exposure arrangement
GB1412995A (en) Apparatus for and method of correcting a defective photomask
IT1107257B (en) PROCEDURE AND DEVICE FOR THE OPTICAL INSPECTION OF A SURFACE
SU601562A1 (en) Method of detecting flaws of photo stencils with rectangular topology of pattern
JPH03134538A (en) Evaluating apparatus of lens
US3320852A (en) Optical pattern repetition
JPS6468926A (en) Measurement of image distortion in projection optical system
JPH01189503A (en) Method and apparatus for detecting pattern
KR970077115A (en) Methods and Systems for Enhanced Optical Imaging of Microlithography
GB719700A (en) Method of and apparatus for testing lenses
GB591991A (en) Improvements in or relating to measuring the focal length of lenses
JPS5633621A (en) Directional high cut space frequency filter
US2780955A (en) Optical arrangement for the reproduction of refractive index gradients
JPS5612729A (en) ?alignmening device for ic projection exposure equipment
GB570022A (en) A projection system for the inspection of internal surfaces
US2478444A (en) Manufacture of photographic contact screens
DE1548287A1 (en) Optical process and apparatus for performing this process
Moore et al. Adaptation of combined interferometric and phaseplate gradient optics to electrophoresis
JP2543200B2 (en) Lens evaluation device
US6242137B1 (en) Method to uni-directionally expand bandwidth of an asymmetric optical system
GB1419477A (en) Production of exposure masks
SU512412A1 (en) Shadow device
JPS5473065A (en) Interferometer