SU601562A1 - Method of detecting flaws of photo stencils with rectangular topology of pattern - Google Patents
Method of detecting flaws of photo stencils with rectangular topology of patternInfo
- Publication number
- SU601562A1 SU601562A1 SU762394565A SU2394565A SU601562A1 SU 601562 A1 SU601562 A1 SU 601562A1 SU 762394565 A SU762394565 A SU 762394565A SU 2394565 A SU2394565 A SU 2394565A SU 601562 A1 SU601562 A1 SU 601562A1
- Authority
- SU
- USSR - Soviet Union
- Prior art keywords
- pattern
- photo
- stencils
- detecting flaws
- rectangular topology
- Prior art date
Links
Description
Изобретение огноситс к контрольно-измерительной технике, а именно к оптическим методам измерени , и можег быть использовано в частности дл контрол фотошаблонов дл производства интегральных схем с пр моугольной топологией рисунка , Известен способ контрол дефектов фото шаблонов, заключающийс в блокировке про странственных частот, соответствующих регул рной структуре, голографическим фильтром |ij . Однако такой способ имеет невысокую точность контрол , так как изображение дефектов накладываетс иа изображение бездефев Ного .{жсунка фотошаблона в виде све т щих точек и более слабые дефекты могут быть не замечени оператором. Кроме того, способ недостаточно производителен иэ-чэа сложностей в изготовлении фильтра и юстировки системы при сменефотошаблона Наиболее близким по технической сущнос ти и решаемой задаче к данному изобретени вл етс способ контрол дефекта фотошаблонов с пр моугольной топологией рисунка, заключающийс в том, что освещают фотошаблон колликированным пучком света, формируют изображение спектра пространственных частот с помощью объектива, блокируют пространственные частоты, соответствующие пр моугольной топологии рисунка, и получают изображени дефектов 2J. Известный способ осуществл етс с помощью крестообразного фильтра и объективов пр мого и обратного фурье преобразовани .. Недостатками этого способа вл ютс низка точность контрол , обусловленна тем, что фильтр не подавл ет полностью пространственные частоты. Соответствующие пр моугольной топологии рисунка, а также низка производительность контрол , обусловленна необходимостью настройки системы при смене фотощаблона. Цель изобретени - повышение точности и производительности контрол . Дл этого фотошаблон освещают двум скрещивающимис колпимированными пучка- ми света, направленными под угаом J% к опThe invention fires on instrumentation technology, namely optical measurement methods, and can be used in particular to control photomasks for the manufacture of integrated circuits with a rectangular topology of the pattern. There is a known method for monitoring photo pattern defects, which consists of blocking spatial frequencies real structure, holographic filter | ij. However, this method has a low control accuracy, since the image of defects is superimposed on the image of Nogo's deerfaces. {A photo mask pattern with glowing points and weaker defects may not be noticed by the operator. In addition, the method is not efficient enough for making the filter and adjusting the system when changing the photoplate. light beam, form an image of the spectrum of spatial frequencies using a lens, block the spatial frequencies corresponding to the rectangular topology of the pattern, and uchayut image defects 2J. The known method is carried out using a cross-shaped filter and direct and inverse Fourier transform lenses. The disadvantages of this method are the low control accuracy due to the fact that the filter does not suppress all spatial frequencies. The corresponding rectangular topology of the pattern, as well as the low productivity of the control, is due to the need to adjust the system when changing photo gages. The purpose of the invention is to improve the accuracy and performance of the control. To do this, the photomask is illuminated by two crossed light-beamed beams, directed under the angle J% to op
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
SU762394565A SU601562A1 (en) | 1976-08-02 | 1976-08-02 | Method of detecting flaws of photo stencils with rectangular topology of pattern |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
SU762394565A SU601562A1 (en) | 1976-08-02 | 1976-08-02 | Method of detecting flaws of photo stencils with rectangular topology of pattern |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
SU601562A1 true SU601562A1 (en) | 1978-04-05 |
Family
ID=20673494
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
SU762394565A SU601562A1 (en) | 1976-08-02 | 1976-08-02 | Method of detecting flaws of photo stencils with rectangular topology of pattern |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
SU (1) | SU601562A1 (en) |
-
1976
- 1976-08-02 SU SU762394565A patent/SU601562A1/en active
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US4000949A (en) | Photomask inspection by optical spatial filtering | |
KR970060356A (en) | Pattern Forming Method, Projection Exposure Device, and Manufacturing Method of Semiconductor Device | |
EP1922587B1 (en) | Method for determining intensity distribution in the focal plane of a projection exposure arrangement | |
GB1412995A (en) | Apparatus for and method of correcting a defective photomask | |
IT1107257B (en) | PROCEDURE AND DEVICE FOR THE OPTICAL INSPECTION OF A SURFACE | |
SU601562A1 (en) | Method of detecting flaws of photo stencils with rectangular topology of pattern | |
JPH03134538A (en) | Evaluating apparatus of lens | |
US3320852A (en) | Optical pattern repetition | |
JPS6468926A (en) | Measurement of image distortion in projection optical system | |
JPH01189503A (en) | Method and apparatus for detecting pattern | |
KR970077115A (en) | Methods and Systems for Enhanced Optical Imaging of Microlithography | |
GB719700A (en) | Method of and apparatus for testing lenses | |
GB591991A (en) | Improvements in or relating to measuring the focal length of lenses | |
JPS5633621A (en) | Directional high cut space frequency filter | |
US2780955A (en) | Optical arrangement for the reproduction of refractive index gradients | |
JPS5612729A (en) | ?alignmening device for ic projection exposure equipment | |
GB570022A (en) | A projection system for the inspection of internal surfaces | |
US2478444A (en) | Manufacture of photographic contact screens | |
DE1548287A1 (en) | Optical process and apparatus for performing this process | |
Moore et al. | Adaptation of combined interferometric and phaseplate gradient optics to electrophoresis | |
JP2543200B2 (en) | Lens evaluation device | |
US6242137B1 (en) | Method to uni-directionally expand bandwidth of an asymmetric optical system | |
GB1419477A (en) | Production of exposure masks | |
SU512412A1 (en) | Shadow device | |
JPS5473065A (en) | Interferometer |