SU584446A1 - Способ получени монокристаллов двуокиси ванади - Google Patents

Способ получени монокристаллов двуокиси ванади Download PDF

Info

Publication number
SU584446A1
SU584446A1 SU762336595A SU2336595A SU584446A1 SU 584446 A1 SU584446 A1 SU 584446A1 SU 762336595 A SU762336595 A SU 762336595A SU 2336595 A SU2336595 A SU 2336595A SU 584446 A1 SU584446 A1 SU 584446A1
Authority
SU
USSR - Soviet Union
Prior art keywords
vanadium
single crystals
melt
vanadium dioxide
hours
Prior art date
Application number
SU762336595A
Other languages
English (en)
Inventor
В.А. Переляев
В.И. Миллер
Г.П. Швейкин
Original Assignee
Институт химии Уральского научного центра АН СССР
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Институт химии Уральского научного центра АН СССР filed Critical Институт химии Уральского научного центра АН СССР
Priority to SU762336595A priority Critical patent/SU584446A1/ru
Application granted granted Critical
Publication of SU584446A1 publication Critical patent/SU584446A1/ru

Links

Landscapes

  • Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)

Description

1
Изобретение относитс  к технологии получени  монокристаллов окислов переходных металлов, а именно двуокиси ванади , которые наход т применение в электронике в качестве полупроводниковых переключателей , матриц дл  записи голограмм, терморезисторов , оптических запоминающих устройств.
Известен способ получени  кристаллов двуокиси ванади  в гидротермальных уелоВИЯХ в растворе гидроокиси натри  и уксусной кислоты при температуре 400°С, давлении 1330 атм {.
Однако по известному способу получают кристаллы размером лишь 0,6 мм.
Наиболее близким по технической сущности и достигаемому эффекту к описываемому изобретению  вл етс  способ получени  монокристаллов двуокиси ванади  из расплава п тиокиси ванади  в потоке неокисл ющего газа, например азота, подаваемого в верхнюю часть тигл .
Температуру в печи поднимают со скоростью 1 град/ч до 1350°С, после чего систему охлаждают 2.
Система подвода неокисл ющего газа обеспечивает диссоциацию и тиокиси ванади  по всему объему расплава, что вызывает по вление большого числа зародышей двуокиси ванади . Этому также способствует высока  температура процесса. Монокристаллы получают сравнительно мелкие 5-10 мм, процесс продолжаетс  длительное врем .
Цель изобретени  - увеличение размеров монокристаллов двуокиси ванади .
Поставленна  цель достигаетс  тем, что термическое разложение п тиокиси ванади , включающее выдержку расплава п тиокиси ванади  в неокисл ющей газовой среде провод т первоначально при нагреве до 800-900°С и при подаче струи газа к локальному участку поверхности расплава, а затем путем создани  вакуума 10-3 мм рт. ст. и выдержки при 1000- 1050°С.

Claims (2)

  1. Процесс получени  монокристаллов двуокиси ванади  осуществл ют следующим образом: п тиокись ванади  помещают в кварцевый тигель, а затем в кварцевую ампулу , нагревают в печи до 800-900°С и выдерживают при этой температуре 45-50 ч в потоке неокислительного газа, например гели . Неокислительный газ подают направленным потоком непосредстзеиное к расплаву п тиокиси ванади  через капилл р . Это способствует преимущественной диссоциации п тиокиси ванади  в ограниченном участке расплава, где по вл етс  незначительное число зародышей повой фазы - двуокиси ванади . Сравнительно невысока  температура процесса (800- 900°С) также снижает количество зародышей по всей массе расплава. В дальнейшем, по мере диссоциации, обеспечиваетс  преимуш;ественный рост незначительного числа по вившихс  зародышей, причем растущие кристаллы ориентируютс  вдоль тигл  в месте подачи неокислительного газа. Затем с целью полного разложени  п тиокиси ванади  повышают температуру до 1000- 1050°С, прекращают подачу неокислительного газа, а в системе создают вакуум мм рт. ст. и процесс нродолнсают еще 22-24 ч. На этой стадии скорость диссоциации п тиокиси ванади  значительно увеличиваетс , но в основном продолжаетс  рост уже по вившихс  кристаллов двуокиси ванади . Разр жение мм рт. ст.  вл етс  оптимальным, так как при более высоком давлении монокристаллы двуокиси ванади  оказываютс  загр зненными п тиокисью ванади , а при более глубоком вакууме образуютс  так называемые окисные фазы Мангели. Предлагаемым способом получают совершенные призматические монокристаллы двуокиси ванади , в основном, размером 10-20 мм (70-80%) и 20-30% размером 5-10 мм. Пример. 25 г и тиокиси ванади  (высушенной при 300°С) марки ОСЧ МРТУ-609-2031-64 загружают в кварцевый тигель, а затем в кварцевую ампулу и нагревательную нечь. Через канилл р с помощью регулирующей системы в тигель подают гелий со скоростью 0, л/мин и нагревают при 900°С в течение 46 ч. Затем температуру поднимают до 1000°С, прекращают поток гели , в системе создают вакуум Ю- мм рт. ст. и выдерживают еще 23 ч, после чего систему охлаждают до комнатной температуры. Получают кристаллы двуокиси ванади  размером 10-20 мм (70%) и 5-10 мм (25%). Согласно рентгеноструктурному анализу полученные монокристаллы принадлежат к моноклинной сингонии с параметрами; ,71, Ь 4,52, ,353, р 122,41 А. Содержание примесей; Си-10- ; Cd - .Ni-lO- ; Со 10-4; PbxlO-S; Si«5-10-3. Магнитна  восприимчивость К 10 (см /моль) при 57°С составл ет 66,48; при 87°С 631,56. Таким образом, предлагаемый способ получени  монокристаллов двуокиси ванади  обеспечивает получение более крупных монокристаллов (10-20 мм) с минимальным содержанием примесей, обладающих улучшенными магнитными характеристиками. Длительность процесса также значительно сокращена. Так в известном способе процесс длитс , не включа  стадии охлаждени , 112 ч, в предлагаемом же способе 75- 80 ч. Кроме того, предлагаемый способ позвол ет получать монокристаллы двуокиси ванади  в кварцевом тигле вместо платинового , что значительно дешевле, а также исключаетс  возможность загр знени  монокристаллов двуокиси ванади  материалом тигл , так как кварц при этих температурах практически не реагирует с расилавом и тиокиси ванади . Загр знение расплава кремнием при 1100°С 0,005%, тогда как при 800°С в расплав переходит 0,02% платины. Формула изобретени  Способ получени  монокристаллов двуокиси ванади  путем термического разложени  п тиокиси ванади , включающий выдержку расплава п тиокиси ванади  в неокисл ющей газовой среде, отличающийс  тем, что, с целью увеличени  размеров монокристаллов, первоначально и тиокись ванади  нагревают до 800-900°С и подают струю газа к локальному участку поверхности расплава, затем создают вакузм мм рт. ст. и выдерживают расплав при 1000-1050°С. Источники информации, прин тые во внимание при экспертизе 1.I. Phys. Chem Solids 30, 225, 1969.
  2. 2.Sollid State Phys 12, 149, 1969.
SU762336595A 1976-03-22 1976-03-22 Способ получени монокристаллов двуокиси ванади SU584446A1 (ru)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SU762336595A SU584446A1 (ru) 1976-03-22 1976-03-22 Способ получени монокристаллов двуокиси ванади

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SU762336595A SU584446A1 (ru) 1976-03-22 1976-03-22 Способ получени монокристаллов двуокиси ванади

Publications (1)

Publication Number Publication Date
SU584446A1 true SU584446A1 (ru) 1982-06-23

Family

ID=20653012

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
SU762336595A SU584446A1 (ru) 1976-03-22 1976-03-22 Способ получени монокристаллов двуокиси ванади

Country Status (1)

Country Link
SU (1) SU584446A1 (ru)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4724038A (en) Process for preparing single crystal binary metal oxides of improved purity
JPS61236686A (ja) 単結晶育成法
SU584446A1 (ru) Способ получени монокристаллов двуокиси ванади
US5471945A (en) Method and apparatus for forming a semiconductor boule
US3649193A (en) Method of forming and regularly growing a semiconductor compound
JPS61178495A (ja) 単結晶の成長方法
Darabont et al. Growth of pure and doped KMgF3 single crystals
Tyutyunnik et al. Lithium hydride single crystal growth by bridgman-stockbarger method using ultrasound
US4124524A (en) Neodymium ultraphosphates and process for their preparation
JP2005505486A (ja) アルカリ土類およびアルカリ金属フッ化物の供給原料の調製
Lal et al. Crystal growth and optical properties of 4-aminobenzophenone crystals for NLO applications
US4687538A (en) Method for growing single crystals of thermally unstable ferroelectric materials
US3650702A (en) Crystal growth of tetragonal germanium dioxide from a flux
JPH05330995A (ja) 炭化珪素単結晶の製造方法及びその装置
JPH06157187A (ja) 単結晶育成炉及び単結晶の製造方法
RU2189405C1 (ru) Способ получения монокристаллов соединения liins2
JPH0258239B2 (ru)
Bennett et al. Crystal growth of monoclinic Eu2O3 from molten NaF
JPH0259486A (ja) 石英るつぼ
RU2131843C1 (ru) Способ получения кремния высокой чистоты
JPH02196082A (ja) シリコン単結晶の製造方法
JPS6121993A (ja) 表面張力を利用した融液からの結晶薄膜育成法
JPS63139097A (ja) ZnSe単結晶の製造方法
SU1740505A1 (ru) Способ выращивани монокристаллов гематита @ -F @ О @
JPH0778770A (ja) 化合物半導体材料用多結晶の製造方法及び石英ボート