SU584446A1 - Способ получени монокристаллов двуокиси ванади - Google Patents
Способ получени монокристаллов двуокиси ванади Download PDFInfo
- Publication number
- SU584446A1 SU584446A1 SU762336595A SU2336595A SU584446A1 SU 584446 A1 SU584446 A1 SU 584446A1 SU 762336595 A SU762336595 A SU 762336595A SU 2336595 A SU2336595 A SU 2336595A SU 584446 A1 SU584446 A1 SU 584446A1
- Authority
- SU
- USSR - Soviet Union
- Prior art keywords
- vanadium
- single crystals
- melt
- vanadium dioxide
- hours
- Prior art date
Links
Landscapes
- Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
Description
1
Изобретение относитс к технологии получени монокристаллов окислов переходных металлов, а именно двуокиси ванади , которые наход т применение в электронике в качестве полупроводниковых переключателей , матриц дл записи голограмм, терморезисторов , оптических запоминающих устройств.
Известен способ получени кристаллов двуокиси ванади в гидротермальных уелоВИЯХ в растворе гидроокиси натри и уксусной кислоты при температуре 400°С, давлении 1330 атм {.
Однако по известному способу получают кристаллы размером лишь 0,6 мм.
Наиболее близким по технической сущности и достигаемому эффекту к описываемому изобретению вл етс способ получени монокристаллов двуокиси ванади из расплава п тиокиси ванади в потоке неокисл ющего газа, например азота, подаваемого в верхнюю часть тигл .
Температуру в печи поднимают со скоростью 1 град/ч до 1350°С, после чего систему охлаждают 2.
Система подвода неокисл ющего газа обеспечивает диссоциацию и тиокиси ванади по всему объему расплава, что вызывает по вление большого числа зародышей двуокиси ванади . Этому также способствует высока температура процесса. Монокристаллы получают сравнительно мелкие 5-10 мм, процесс продолжаетс длительное врем .
Цель изобретени - увеличение размеров монокристаллов двуокиси ванади .
Поставленна цель достигаетс тем, что термическое разложение п тиокиси ванади , включающее выдержку расплава п тиокиси ванади в неокисл ющей газовой среде провод т первоначально при нагреве до 800-900°С и при подаче струи газа к локальному участку поверхности расплава, а затем путем создани вакуума 10-3 мм рт. ст. и выдержки при 1000- 1050°С.
Claims (2)
- Процесс получени монокристаллов двуокиси ванади осуществл ют следующим образом: п тиокись ванади помещают в кварцевый тигель, а затем в кварцевую ампулу , нагревают в печи до 800-900°С и выдерживают при этой температуре 45-50 ч в потоке неокислительного газа, например гели . Неокислительный газ подают направленным потоком непосредстзеиное к расплаву п тиокиси ванади через капилл р . Это способствует преимущественной диссоциации п тиокиси ванади в ограниченном участке расплава, где по вл етс незначительное число зародышей повой фазы - двуокиси ванади . Сравнительно невысока температура процесса (800- 900°С) также снижает количество зародышей по всей массе расплава. В дальнейшем, по мере диссоциации, обеспечиваетс преимуш;ественный рост незначительного числа по вившихс зародышей, причем растущие кристаллы ориентируютс вдоль тигл в месте подачи неокислительного газа. Затем с целью полного разложени п тиокиси ванади повышают температуру до 1000- 1050°С, прекращают подачу неокислительного газа, а в системе создают вакуум мм рт. ст. и процесс нродолнсают еще 22-24 ч. На этой стадии скорость диссоциации п тиокиси ванади значительно увеличиваетс , но в основном продолжаетс рост уже по вившихс кристаллов двуокиси ванади . Разр жение мм рт. ст. вл етс оптимальным, так как при более высоком давлении монокристаллы двуокиси ванади оказываютс загр зненными п тиокисью ванади , а при более глубоком вакууме образуютс так называемые окисные фазы Мангели. Предлагаемым способом получают совершенные призматические монокристаллы двуокиси ванади , в основном, размером 10-20 мм (70-80%) и 20-30% размером 5-10 мм. Пример. 25 г и тиокиси ванади (высушенной при 300°С) марки ОСЧ МРТУ-609-2031-64 загружают в кварцевый тигель, а затем в кварцевую ампулу и нагревательную нечь. Через канилл р с помощью регулирующей системы в тигель подают гелий со скоростью 0, л/мин и нагревают при 900°С в течение 46 ч. Затем температуру поднимают до 1000°С, прекращают поток гели , в системе создают вакуум Ю- мм рт. ст. и выдерживают еще 23 ч, после чего систему охлаждают до комнатной температуры. Получают кристаллы двуокиси ванади размером 10-20 мм (70%) и 5-10 мм (25%). Согласно рентгеноструктурному анализу полученные монокристаллы принадлежат к моноклинной сингонии с параметрами; ,71, Ь 4,52, ,353, р 122,41 А. Содержание примесей; Си-10- ; Cd - .Ni-lO- ; Со 10-4; PbxlO-S; Si«5-10-3. Магнитна восприимчивость К 10 (см /моль) при 57°С составл ет 66,48; при 87°С 631,56. Таким образом, предлагаемый способ получени монокристаллов двуокиси ванади обеспечивает получение более крупных монокристаллов (10-20 мм) с минимальным содержанием примесей, обладающих улучшенными магнитными характеристиками. Длительность процесса также значительно сокращена. Так в известном способе процесс длитс , не включа стадии охлаждени , 112 ч, в предлагаемом же способе 75- 80 ч. Кроме того, предлагаемый способ позвол ет получать монокристаллы двуокиси ванади в кварцевом тигле вместо платинового , что значительно дешевле, а также исключаетс возможность загр знени монокристаллов двуокиси ванади материалом тигл , так как кварц при этих температурах практически не реагирует с расилавом и тиокиси ванади . Загр знение расплава кремнием при 1100°С 0,005%, тогда как при 800°С в расплав переходит 0,02% платины. Формула изобретени Способ получени монокристаллов двуокиси ванади путем термического разложени п тиокиси ванади , включающий выдержку расплава п тиокиси ванади в неокисл ющей газовой среде, отличающийс тем, что, с целью увеличени размеров монокристаллов, первоначально и тиокись ванади нагревают до 800-900°С и подают струю газа к локальному участку поверхности расплава, затем создают вакузм мм рт. ст. и выдерживают расплав при 1000-1050°С. Источники информации, прин тые во внимание при экспертизе 1.I. Phys. Chem Solids 30, 225, 1969.
- 2.Sollid State Phys 12, 149, 1969.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
SU762336595A SU584446A1 (ru) | 1976-03-22 | 1976-03-22 | Способ получени монокристаллов двуокиси ванади |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
SU762336595A SU584446A1 (ru) | 1976-03-22 | 1976-03-22 | Способ получени монокристаллов двуокиси ванади |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
SU584446A1 true SU584446A1 (ru) | 1982-06-23 |
Family
ID=20653012
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
SU762336595A SU584446A1 (ru) | 1976-03-22 | 1976-03-22 | Способ получени монокристаллов двуокиси ванади |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
SU (1) | SU584446A1 (ru) |
-
1976
- 1976-03-22 SU SU762336595A patent/SU584446A1/ru active
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US4724038A (en) | Process for preparing single crystal binary metal oxides of improved purity | |
JPS61236686A (ja) | 単結晶育成法 | |
SU584446A1 (ru) | Способ получени монокристаллов двуокиси ванади | |
US5471945A (en) | Method and apparatus for forming a semiconductor boule | |
US3649193A (en) | Method of forming and regularly growing a semiconductor compound | |
JPS61178495A (ja) | 単結晶の成長方法 | |
Darabont et al. | Growth of pure and doped KMgF3 single crystals | |
Tyutyunnik et al. | Lithium hydride single crystal growth by bridgman-stockbarger method using ultrasound | |
US4124524A (en) | Neodymium ultraphosphates and process for their preparation | |
JP2005505486A (ja) | アルカリ土類およびアルカリ金属フッ化物の供給原料の調製 | |
Lal et al. | Crystal growth and optical properties of 4-aminobenzophenone crystals for NLO applications | |
US4687538A (en) | Method for growing single crystals of thermally unstable ferroelectric materials | |
US3650702A (en) | Crystal growth of tetragonal germanium dioxide from a flux | |
JPH05330995A (ja) | 炭化珪素単結晶の製造方法及びその装置 | |
JPH06157187A (ja) | 単結晶育成炉及び単結晶の製造方法 | |
RU2189405C1 (ru) | Способ получения монокристаллов соединения liins2 | |
JPH0258239B2 (ru) | ||
Bennett et al. | Crystal growth of monoclinic Eu2O3 from molten NaF | |
JPH0259486A (ja) | 石英るつぼ | |
RU2131843C1 (ru) | Способ получения кремния высокой чистоты | |
JPH02196082A (ja) | シリコン単結晶の製造方法 | |
JPS6121993A (ja) | 表面張力を利用した融液からの結晶薄膜育成法 | |
JPS63139097A (ja) | ZnSe単結晶の製造方法 | |
SU1740505A1 (ru) | Способ выращивани монокристаллов гематита @ -F @ О @ | |
JPH0778770A (ja) | 化合物半導体材料用多結晶の製造方法及び石英ボート |