Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Предприятие П/Я Р-6429filedCriticalПредприятие П/Я Р-6429
Priority to SU2088266ApriorityCriticalpatent/SU528537A1/ru
Application grantedgrantedCritical
Publication of SU528537A1publicationCriticalpatent/SU528537A1/ru
Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process
(AREA)
Description
Далее на стандартных установках провод т совмещение н экснонирование УФ светом диазоматериала на дефектном фотошаблоне через «зеркальную копию 5 фотошаблона. После нро влени изображени в парах аммиака в нормальных услови х получают фотошаблон , не имеющий дефектов, так как веро тность совпадени дефектов на основном фотошаблоне , дназоматериала и «зеркальной конии чрезвычайно мала.
Изобретение может быть использовано в производстве прецизионных фотошаблонов с малой дефектностью, которые необходимы дл изготовлени больших интегральных схем.