SU427612A1 - Устройство дл нанесени покрытий в выкууме - Google Patents
Устройство дл нанесени покрытий в выкуумеInfo
- Publication number
- SU427612A1 SU427612A1 SU1485361A SU1485361A SU427612A1 SU 427612 A1 SU427612 A1 SU 427612A1 SU 1485361 A SU1485361 A SU 1485361A SU 1485361 A SU1485361 A SU 1485361A SU 427612 A1 SU427612 A1 SU 427612A1
- Authority
- SU
- USSR - Soviet Union
- Prior art keywords
- substrates
- evaporator
- rotation
- substrate
- axis
- Prior art date
Links
Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Description
I
Изобретение касаетс нанесени нокрытий в вакууме.
Известно устройство дл нанесени покрытий в вакууме, содержащее камеру, внутри которой расположены плоский испаритель и подложкодержатели. Однако в таком устройстве невозможно получать идентичные слои на всех напыл емых одновременно подложках .
Цель изобретени - получение идентичных слоев на всех напыл емых одновременно подложках. Это достигаетс тем, что подложкодержатели выполнены в виде расположенных друг под другом колец, параллельных испарителю и имеющих с ним общую ось вращени , а положение центров подложек задано формулой:
(/г- 1,056)2 + v 1,0562, где h - рассто ние от испарител до нодложкодержател ;
V - рассто ние от оси вращени подложкодержателей до оси вращепи подложек.
На фиг. 1 показано предлагаемое устройство , общий вид; на фиг. 2 - сплощна кри-ва - геометрическое место точек, в которых должны быть расположены центры подложек .
Устройство включает камеру /, внутри которой наход тс плоский испаритель 2 и подложкодержатели 5, выполненные в виде расположенных друг под другом колец, параллельных испарителю и имеющих с ним общую ось вращени . Положение центров подложек 4 задано формулой:
(/г- 1,056)2 + u2 1,0562, где h - рассто ние от испарител до подложкодержател ;
V - рассто ние от оси вращени подложкодержателей до оси вращени подложек.
При таком расположении испарител и подложкодержателей толщина сло в центре подложек не зависит от ее местоположени в момент начала и конца испарени . При обычной геометрии толщина сло в центре разных подложек может отличатьс на BevnH4HHy до
1
где п - число оооротов подложкодерЗп
жател за врем напылени сло . Обычно величина п равн етс 300-500 оборотам. Поэтому полосы пропускани интерференционных фильтров, полученных на существующих установках, могут отличатьс на величину
о
4-6 А дл области спектра 600 нм.
На ЭВМ был выполнен расчет толщины слоев, полученных при новой геометрии испарительной установки. Результаты расчета приведены на фиг. 2. Из рассмотрени этого
чертежа видно, что равнотолщинное покрытие (у которого различие толщины сло на краю подложки от толщины сло в центре 0,1%) может быть получено на подложках , расположенных в два и более русов (в зависимости от диаметра колпака испарительной установки и необходимого диаметра подложки). На фиг. 2 видно, что нри диаметре колпака 600 мм и диаметре подложки 60 мм оказываетс возможным расположить подложки в два руса и получить равнотолщинное (с точностью до 0,1%) покрытие на 45 подложках.
Предмет изобретени Устройство дл нанесени покрытий в вакууме , содержащее камеру, внутри которой расположены плоский испаритель и подложкодержатели , отличающеес тем, что, с целью получени идентичных слоев на всех напыл емых одновременно подложках, подложкодержатели выполнены в виде расположенных друг под другом колец, параллельных испарителю и имеющих с ним общую ось вращени , а положение центров подложек задано
формулой:
(h- 1.056)2 |- у2 1,0562,
h рассто ние от испарител до подложкодержател ; V
рассто ние от оси вращени нодложкодержателей до оси вращени подложек.
3
К ,
1,2 1, 1,6 1,8 г
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
SU1485361A SU427612A1 (ru) | 1970-11-03 | 1970-11-03 | Устройство дл нанесени покрытий в выкууме |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
SU1485361A SU427612A1 (ru) | 1970-11-03 | 1970-11-03 | Устройство дл нанесени покрытий в выкууме |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
SU427612A1 true SU427612A1 (ru) | 1975-07-05 |
Family
ID=20458761
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
SU1485361A SU427612A1 (ru) | 1970-11-03 | 1970-11-03 | Устройство дл нанесени покрытий в выкууме |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
SU (1) | SU427612A1 (ru) |
-
1970
- 1970-11-03 SU SU1485361A patent/SU427612A1/ru active
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CA1021207A (en) | Chemical vapor deposition of coatings | |
BE808676A (fr) | Procede pour l'augmentation de la vitesse de depot de revetements a partir de reactifs vaporises | |
CA959355A (en) | Process for forming external multi-layer resinous coating on cylindrical surface at ambient temperature | |
FR2332338A1 (fr) | Procede pour revetir par depot ionique reactif un substrat isolant d'une couche d'oxyde d'au moins un metal | |
IT1075610B (it) | Procedimento per rivestire substrati mediante deposizione al plasma | |
SU427612A1 (ru) | Устройство дл нанесени покрытий в выкууме | |
GB1117009A (en) | Improvements in and relating to depositing thin layers by vapour deposition or cathode sputtering | |
IT1058510B (it) | Procedimento per fabbricare un condensatore a strato sottile di tantalio | |
CA955508A (en) | Process for etching organic coating layers | |
ES448927A1 (es) | Procedimiento para el tratamiento de vidrio. | |
BE808675A (fr) | Depot en phase vapeur, par voie chimique, de revetements | |
IL39865A0 (en) | A process for forming a metal oxide coating on a substrate | |
GB1217863A (en) | Coating process, e.g. for making interference filters | |
FR2171877A1 (en) | Semiconductor coating appts - giving improved uniformity of coating | |
GB770077A (en) | Method and apparatus for the production of films having a plurality of components | |
GB1199006A (en) | Arrangements for Depositing Interference Layers onto Concavely Curved Surfaces of Rotation | |
US2428043A (en) | Method of manufacturing metal electric rectifiers | |
FR2352066A1 (fr) | Revetement formant masque pour le depot de couches dielectriques sur des substrats, par vaporisation sous vide ou pulverisation cathodique | |
DK140429B (da) | Fremgangsmåde til dannelse af en metaloxidbelægning på et i det mindste delvis glasagtigt underlag. | |
CA956187A (en) | Method of depositing a coating by vapor deposition | |
SE396620B (sv) | Forfarande for etsning av en polyimidysta, varigenom okad adhesion erhallers pa ytan for vissa emnen, t ex en metall som avsatts elektrodfritt | |
JPS5260989A (en) | Manufacturing of dielectric thin film | |
SU813132A1 (ru) | Устройство дл автоматического нанесени диэлЕКТРичЕСКиХ СлОЕВ | |
SU466300A1 (ru) | Испаритель | |
CA889265A (en) | Method of coating substrates by vapour deposition |