SU427612A1 - Устройство дл нанесени покрытий в выкууме - Google Patents

Description

I

Изобретение касаетс  нанесени  нокрытий в вакууме.

Известно устройство дл  нанесени  покрытий в вакууме, содержащее камеру, внутри которой расположены плоский испаритель и подложкодержатели. Однако в таком устройстве невозможно получать идентичные слои на всех напыл емых одновременно подложках .

Цель изобретени  - получение идентичных слоев на всех напыл емых одновременно подложках. Это достигаетс  тем, что подложкодержатели выполнены в виде расположенных друг под другом колец, параллельных испарителю и имеющих с ним общую ось вращени , а положение центров подложек задано формулой:

(/г- 1,056)2 + v 1,0562, где h - рассто ние от испарител  до нодложкодержател ;

V - рассто ние от оси вращени  подложкодержателей до оси вращепи  подложек.

На фиг. 1 показано предлагаемое устройство , общий вид; на фиг. 2 - сплощна  кри-ва  - геометрическое место точек, в которых должны быть расположены центры подложек .

Устройство включает камеру /, внутри которой наход тс  плоский испаритель 2 и подложкодержатели 5, выполненные в виде расположенных друг под другом колец, параллельных испарителю и имеющих с ним общую ось вращени . Положение центров подложек 4 задано формулой:

(/г- 1,056)2 + u2 1,0562, где h - рассто ние от испарител  до подложкодержател ;

V - рассто ние от оси вращени  подложкодержателей до оси вращени  подложек.

При таком расположении испарител  и подложкодержателей толщина сло  в центре подложек не зависит от ее местоположени  в момент начала и конца испарени . При обычной геометрии толщина сло  в центре разных подложек может отличатьс  на BevnH4HHy до

1

где п - число оооротов подложкодерЗп

жател  за врем  напылени  сло . Обычно величина п равн етс  300-500 оборотам. Поэтому полосы пропускани  интерференционных фильтров, полученных на существующих установках, могут отличатьс  на величину

о

4-6 А дл  области спектра 600 нм.

На ЭВМ был выполнен расчет толщины слоев, полученных при новой геометрии испарительной установки. Результаты расчета приведены на фиг. 2. Из рассмотрени  этого

чертежа видно, что равнотолщинное покрытие (у которого различие толщины сло  на краю подложки от толщины сло  в центре 0,1%) может быть получено на подложках , расположенных в два и более  русов (в зависимости от диаметра колпака испарительной установки и необходимого диаметра подложки). На фиг. 2 видно, что нри диаметре колпака 600 мм и диаметре подложки 60 мм оказываетс  возможным расположить подложки в два  руса и получить равнотолщинное (с точностью до 0,1%) покрытие на 45 подложках.

Предмет изобретени  Устройство дл  нанесени  покрытий в вакууме , содержащее камеру, внутри которой расположены плоский испаритель и подложкодержатели , отличающеес  тем, что, с целью получени  идентичных слоев на всех напыл емых одновременно подложках, подложкодержатели выполнены в виде расположенных друг под другом колец, параллельных испарителю и имеющих с ним общую ось вращени , а положение центров подложек задано

формулой:

(h- 1.056)2 |- у2 1,0562,

h рассто ние от испарител  до подложкодержател ; V

рассто ние от оси вращени  нодложкодержателей до оси вращени  подложек.

3

К ,

1,2 1, 1,6 1,8 г