SU344033A1 - Способ нанесения покрытий из карбидов металлов - Google Patents
Способ нанесения покрытий из карбидов металловInfo
- Publication number
- SU344033A1 SU344033A1 SU1407557A SU1407557A SU344033A1 SU 344033 A1 SU344033 A1 SU 344033A1 SU 1407557 A SU1407557 A SU 1407557A SU 1407557 A SU1407557 A SU 1407557A SU 344033 A1 SU344033 A1 SU 344033A1
- Authority
- SU
- USSR - Soviet Union
- Prior art keywords
- metal
- hydrogen
- temperature
- product
- coating
- Prior art date
Links
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 title claims description 12
- 239000002184 metal Substances 0.000 title claims description 12
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 16
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 16
- VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N Carbon tetrachloride Chemical compound ClC(Cl)(Cl)Cl VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 14
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 13
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 11
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 11
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims description 9
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 claims description 6
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 claims description 6
- 150000001247 metal acetylides Chemical class 0.000 claims description 4
- 230000004913 activation Effects 0.000 claims description 3
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 claims description 3
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 claims description 3
- 229910001510 metal chloride Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 238000005979 thermal decomposition reaction Methods 0.000 claims description 3
- 229910001507 metal halide Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 150000005309 metal halides Chemical class 0.000 claims description 2
- 125000004435 hydrogen atoms Chemical class [H]* 0.000 claims 2
- 230000001376 precipitating Effects 0.000 claims 1
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N argon Chemical group [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N methane Chemical compound C VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 6
- GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N niobium Chemical compound [Nb] GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000010955 niobium Substances 0.000 description 6
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 6
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 5
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 description 4
- 238000000034 method Methods 0.000 description 4
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum Chemical compound [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- -1 methane Chemical class 0.000 description 3
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 description 3
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- YHBDIEWMOMLKOO-UHFFFAOYSA-I pentachloroniobium Chemical compound Cl[Nb](Cl)(Cl)(Cl)Cl YHBDIEWMOMLKOO-UHFFFAOYSA-I 0.000 description 2
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 2
- 210000001787 Dendrites Anatomy 0.000 description 1
- VBJZVLUMGGDVMO-UHFFFAOYSA-N Hafnium Chemical compound [Hf] VBJZVLUMGGDVMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WUAPFZMCVAUBPE-UHFFFAOYSA-N Rhenium Chemical compound [Re] WUAPFZMCVAUBPE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910013379 TaC Inorganic materials 0.000 description 1
- OEIMLTQPLAGXMX-UHFFFAOYSA-I Tantalum(V) chloride Chemical compound Cl[Ta](Cl)(Cl)(Cl)Cl OEIMLTQPLAGXMX-UHFFFAOYSA-I 0.000 description 1
- DUNKXUFBGCUVQW-UHFFFAOYSA-J Zirconium(IV) chloride Chemical compound Cl[Zr](Cl)(Cl)Cl DUNKXUFBGCUVQW-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- 229910026551 ZrC Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- REDXJYDRNCIFBQ-UHFFFAOYSA-N aluminium(3+) Chemical class [Al+3] REDXJYDRNCIFBQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 238000005137 deposition process Methods 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 229910052735 hafnium Inorganic materials 0.000 description 1
- UGHSGZIDZZRZKT-UHFFFAOYSA-N methane;zirconium Chemical compound C.[Zr] UGHSGZIDZZRZKT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010926 purge Methods 0.000 description 1
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 1
- 229910052702 rhenium Inorganic materials 0.000 description 1
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 1
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Description
Изобретение относитс к области получени покрытий из карбидов металлов термическим разложением паро-газовой смеси.
Известен способ получени покрытий из карбидов металлов термическим разложением паро-газовой смеси, содержащей га.тогеиид металла , водород, углеродсодержащий и инертный газы.
Предложенный способ отличаетс от известного тем, что перед осаждением карбидного покрыти осуществл ют активационную обработку издели смесью водорода, галогенида металла и четыреххлористого углерода при температуре 300-1000°С с последующим повыщением до 1500-1800°С и одновременным введением в реакционную смесь углеводорода. Это позвол ет повысить прочность сцеплени покрыти с основой и предотвращает ее охрупчивание .
Процесс осаждени карбида осуществл ют при атомарном отнощении металла галогенида к углероду углеводорода от 1 до 12.
Согласно предложенному способу, реакционное пространство предварительно вакуумируют , продувают водородом, нагревают покрываемые издели в токе водорода до 300- 1000°С, после чего ввод т в водород газообразный хлорид металла покрыти . Дл более интенсивного травлени и очистки покрываемой металлической поверхности от окислов в
паро-газовую смесь ввод т не более 5 мол. % четыреххлористого углерода. Активационную обработку осуществл ют в течение 15-20иш . Затем, не прерыва подачи паро-газовой смеси , издели нагревают до 1500-1800°С и ввод т газообразный углеводород, например метан , в количестве, обеспечивающем атомарное отнощение металла галогенида к углероду углеводорода от 1 до 12. В этих услови х процесс ведут не более 5 мин дл того, чтобы получить тонкий барьерный слой карбида толщиной до 5-7 мк., прочно св занный с основой . При этом не происходит насыщени подложки углеродом и водородом и не успевает
начатьс рост дендритов карбида металла.
После этого температуру процесса понижают
до температуры осаждени мелкозернистого
карбида.
Дл карбидов циркони и гафни это
1300-1600°С, дл карбидов ниоби и тантала - 800-1400Т.
После нанесени покрытий издели вместе
с печью охлаждают в потоке инертного газа.
Предложенным способом можно наносить
покрыти толщиной до 300 мк из карбидов циркони , гафни , ниоби и тантала на издели различной конфигурации из вольфрама, молибдена, ниоби , тантала, рени и др. Пример 1, Дл нанесени покрыти из
трубок из сплава ВН-2АЭ вакуумируют рабочее пространство до мм рт. ст., затем 30 мин лродувают водородом дл удалени остатков воздуха, после чего температуру издели поднимают до 1000°С и обрабатывают его смесью водорода и 5 мол. % тетрахлорида циркони в течение 15 мин.
После этого температуру издели повышают до и ввод т в паро-газовую смесь 2 мол. % метана.
После выдержки в течение 1 мин температуру понижают до 1420°С, довод т концентрацию метана до 3 мол. % и выдерживают изделие в потоке паро-газовой смеси 30-45 мин. Затем прекращают подачу хлорида металла и метана, водород замен ют аргоном и в токе аргона охлаждают покрытое изделие вместе с печью до комнатной температуры.
В результате на поверхности издели образуетс плотно сцепленное с основой мелкозернистое покрытие карбида циркони серебристого цвета, толщиной 30-60 мк.
Пример 2. Дл нанесени покрыти из карбида ниоби на ниобиевую пластинку после вакуумировани и продувки реакционного пространства водородом изделие нагревают до 600°С и обрабатывают в токе водорода, содержащего 4 мол. % пентахлорида ниоби и 4 мол. % четыреххлористого углерода в течение 15 мин, после чего температуру издели повышают до 1500°С, предварительно прекратив подачу четыреххлористого углерода и заменив водород на аргон с введением в парогазовую смесь 2 мол. % метана. Подложку выдерживают в этих услови х 1-2 мин. Затем температуру понижают до 1000°С и ведут процесс 30 мин в потоке паро-газовой смеси, содержащей аргон с 16 мол. % пентахлорида ниоби и 10 мол. % метана.
При этом получают покрытие из карбида ниоби , толщиной 50-90 мк.
Пример 3. Дл нанесени покрыти из монокарбида тантала на наружную поверхность молибденовой трубки активационную обработку осуществл ют при 450-500°С в парогазовой смеси на основе водорода, содержащей 2 мол. % пентахлорида тантала, 5 мол. % четыреххлористого углерода в течение 20 мин. Затем водород замен ют аргоном, прекращают подачу четыреххлористого углерода, подпимают температуру подложки до 1500°С и и ввод т 1 мол. % метана. После выдержки 5 лшн температуру понижают до 1200°С, довод т концентрацию пептахлорида тантала и метана до 20 мол. % каждого и выдерживают покрываемое изделие в этих услови х 30 мин. После окончани процесса изделие охлаждают в токе аргона. В результате на поверхности молибдена получаетс плотное мелкозернистое покрытие из карбида тантала,
прочно сцепленное с основой.
Предмет изобретени
Claims (2)
1.Способ нанесени покрытий из карбидов металлов путем термического разложени паро-газовой смеси, содержащей галогенид металла , водород, углеродсодержащий и инертный газы, отличающийс тем, что, с целью повыщени прочности сцеплени покрыти с поверхностью издели и предотвращени ее охрупчивани , провод т активационную обработку изделий смесью водорода, хлорида металла и четыреххлористого углерода при температуре 300-1000°С, затем в паро-газовую смесь ввод т углеводород и выдерживают изделие при температуре 1500-1800°С с последующим ее снижением до температуры осаждени -карбида металла.
2.Способ по п. 1, отличающийс тем, что осаждение карбида металла осуществл ют при
атомарном отношении металла галогенида к углероду углеводорода от 1 до 12,
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
SU344033A1 true SU344033A1 (ru) |
Family
ID=
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US9322113B2 (en) | 2009-12-28 | 2016-04-26 | Toyo Tanso Co., Ltd. | Tantalum carbide-coated carbon material and manufacturing method for same |
RU2746518C1 (ru) * | 2020-08-24 | 2021-04-14 | Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Саратовский государственный технический университет имени Гагарина Ю.А." (СГТУ имени Гагарина Ю.А.) | Способ формирования покрытия на штамповых сталях |
RU2763358C1 (ru) * | 2021-04-26 | 2021-12-28 | Общество с ограниченной ответственностью "НПО "Защитные покрытия" (ООО "НПО "Защитные покрытия") | Способ газофазного осаждения карбида тантала на поверхности изделий |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US9322113B2 (en) | 2009-12-28 | 2016-04-26 | Toyo Tanso Co., Ltd. | Tantalum carbide-coated carbon material and manufacturing method for same |
RU2746518C1 (ru) * | 2020-08-24 | 2021-04-14 | Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Саратовский государственный технический университет имени Гагарина Ю.А." (СГТУ имени Гагарина Ю.А.) | Способ формирования покрытия на штамповых сталях |
RU2763358C1 (ru) * | 2021-04-26 | 2021-12-28 | Общество с ограниченной ответственностью "НПО "Защитные покрытия" (ООО "НПО "Защитные покрытия") | Способ газофазного осаждения карбида тантала на поверхности изделий |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US7033650B2 (en) | Method of producing a nanotube layer on a substrate | |
EP1008553B1 (en) | Surface functionalized diamond crystals and methods for producing same | |
US6350191B1 (en) | Surface functionalized diamond crystals and methods for producing same | |
WO1996018756A1 (en) | A PA-CVD PROCESS FOR DEPOSITION OF A SOLID METAL-CONTAINING FILM ONTO A SUBSTRATE CONTAINING AT LEAST 50 % of Fe or WC | |
US10883171B2 (en) | CVD reactor and method for cleaning a CVD reactor | |
JP3779314B1 (ja) | 炭化タンタル被覆炭素材料およびその製造方法 | |
JP3498363B2 (ja) | ダイヤモンドの合成方法 | |
CN115584486A (zh) | 一种碳化钽涂层制品及制备方法 | |
SU344033A1 (ru) | Способ нанесения покрытий из карбидов металлов | |
TWI735750B (zh) | 由原子層沉積法所形成的含氧化釔薄膜的製造方法 | |
JP4312357B2 (ja) | 金属アルミニウム含有基体の窒化処理方法 | |
JP4312356B2 (ja) | 金属アルミニウム含有基体の窒化処理方法および装置 | |
RU2391358C2 (ru) | Способ получения металлоуглеродных нанопокрытий | |
Kobayashi et al. | Catalyst effect for diamond nucleation in the low pressure process | |
EP3514258B1 (en) | Method for the hydrophobization of a substrate | |
US20240286117A1 (en) | Method for preparing carbon nanotube-producing catalyst | |
JP6797068B2 (ja) | 原子層堆積法による炭化チタン含有薄膜の製造方法 | |
JP2006219362A (ja) | 液相中への気相導入によるカーボンナノチューブ膜の合成方法および合成装置 | |
Hukka et al. | Low Pressure Diamond Growth Using a Secondary Radical Source | |
CN116988040A (zh) | 一种过渡性膜层及其制备方法 | |
CN112553600A (zh) | 一种原子层沉积技术生长VxC纳米材料的方法 | |
JPH09235163A (ja) | 熱処理用治具およびその製造方法 | |
WO2021034214A1 (ru) | Изделие с покрытием из карбида кремния и способ изготовления изделия с покрытием из карбида кремния | |
NARUMI et al. | PRETREATED INN,-C, PLAsMA | |
JP2010050252A (ja) | ホットワイヤー法による基材表面の窒化方法 |