SU278162A1 - УСТРОЙСТВО дл ИЗМЕРЕНИЯ СКОРОСТИ ИСПАРЕНИЯ - Google Patents
УСТРОЙСТВО дл ИЗМЕРЕНИЯ СКОРОСТИ ИСПАРЕНИЯInfo
- Publication number
- SU278162A1 SU278162A1 SU1310305A SU1310305A SU278162A1 SU 278162 A1 SU278162 A1 SU 278162A1 SU 1310305 A SU1310305 A SU 1310305A SU 1310305 A SU1310305 A SU 1310305A SU 278162 A1 SU278162 A1 SU 278162A1
- Authority
- SU
- USSR - Soviet Union
- Prior art keywords
- evaporation
- rate
- sensor
- measuring
- thermocouple
- Prior art date
Links
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 title description 10
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 4
- 239000010408 film Substances 0.000 description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- 229910052904 quartz Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 3
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 3
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 2
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 2
- 239000003870 refractory metal Substances 0.000 description 2
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 2
- 239000011364 vaporized material Substances 0.000 description 2
- 101700062671 SIAE Proteins 0.000 description 1
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 1
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 1
- 230000001276 controlling effect Effects 0.000 description 1
- 230000000875 corresponding Effects 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 239000003989 dielectric material Substances 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 230000000737 periodic Effects 0.000 description 1
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 1
Description
Изобретение относитс к технологии нанесенн тонкопленочных покрытий в вакууме и примен етс , в частности, при нроизводстве декоративных покрытий, в тонкопленочной микрС1Электронике н т. п.
Дл получени высококачественных тонкопленочных покрытий необходимо контролиро .вать скорость испарени исходного материала. Известны различные устройства дл контрол скорости испарени , содержаидие источник питани , датчик и отсчетное устройство. Наибольшее распространение из ннх получили три устройства.
, В первом устройстве в качестве датчика непользуетс пластина кварца, имеюща посто нную частоту колебаний нри данной массе пластины. При -конденсацин испар емого материала на поверхности пластины измен етс ее масса, а следовательно, н ее резонансна частота. Это изменение частоты фиксируетс отсчетным устройством н по величине этого нзменени суд т об изменении скорости иенарени .
В другом известном устройстве в качестве датчика примен етс видоизмененный ионизационный манометр, в котором частицы иснар емого матернала ионизируютс между электродами манометра, и полученный ионный ток фиксируетс отсчетным устрпйством.
В третьем тине устройств в качестве датчнка примен ютс микровесы магннтоэлектрической системы. О скорости испарени в этом случае суд т но изменению массы.
Описанные выше устройства сложны, дороги и не всегда применимы. Так, например, устройство с кварцевым генератором в качестве датчика требует после двух-трех напылений очистки дорогосто ш,ей кварцевой пластины и точной ее установки в кристаллодержате.те, а после р да очисток н полной ее заменьг.
Устройство с ионнзацнонным манометром в качестве датчика удобно только прн нзмерении скорости испарени металлов, в случае же напылени диэлектрических пленок его электроды покрываютс пленкой диэлектрика, что приводит к снижению точности измерений и вызывает необходимость иметь .прогреваемые электроды дл удалени осажденных иленок, что неизбежно ведет к усложнению конструкции.
Устройства с МИкровесами в качестве датчика получили распространение только в лабораторных условн х; они требуют очень осторожного обрашенн , что при работе на вакуумной установке трудно осуществимо.
так и в производственных услови х с люоым видом испар емого материала.
Дл этого в качестве датчика устройства гфимеиеиа термопара с четырьм иопарпо одинакозымп термоэлектрода ми из тугоплавких металлов со спаем, расположеипым в зоне осаждеии испар емого вещества, причем одпа пара термоэлектродов прпсоедппеиа к источнику питапи , а втора - к регистрирующему прибору.
На чертеже изображена схема устройства дл измерени скорости испарени .
Устройство состоит из высокотемпературной термопары 1, выполненной в виде креста, например , из вольфрамовой и вольфрамрениевой проволок диаметром 0,05 мм. К зажимам термопары подключен с одной стороны источник посто нного тока накала 2, а с другой стороны - регистрирующий прибор 3 (например, милливольтметр на 40 mv). При протекании тока накала /„ по правой части термопары, ее спай 4 нагреваетс до 2500°С, при этом регнстрирующнй нрибор 3 показывает наличие Э.Д.С., соответствующей этой температуре. Разогретый до 2500°С спай термопары помещаетс над испар емым материалом 5. Так как температура испар емого вещества в большинстве случаев ниже 2500°С, то спай будет охлаждатьс паром испар емого вещества , регистрирующий нрибор прп этом покажет умепьи еиие э.д.с. термопары. Шкалу регпстр 1рующего прибора можно отградуировать в едппицах скорости исиареии , что упрощает его использование.
Достоинством этого устройства вл етс иростота. Кроме того, с его помощью можно измер ть скорость исиарени как металлов, так и диэлектриков. Так как температура спа в большиистве случаев иревышает температуру испар емого материала, то конденсаци паров па спае термопары невозможна, что устран ет необходимость в периодической очистке датчика.
Предмет изобретени
Устройство дл измерени скоростн испарени , содержащее источник питани , датчик и регистрирующий прибор, отличающеес тем, что, с целью упрощени и удещевлени устройства , в нем датчик выполнен в виде термопары с четырьм попарно одинаковыми термоэлектродами из тугоплавких металлов со сиаем, расположенным в зоне осаждени испар емого вещества, причем одпа пара термоэлектродов присоединена к источнику питаии , а втора - к регистрирующему ирибору.
-ff-af
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
SU278162A1 true SU278162A1 (ru) |
Family
ID=
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR101336119B1 (ko) | 유기 재료용 압력 게이지 | |
US3879992A (en) | Multiple crystal oscillator measuring apparatus | |
US4115184A (en) | Method of plasma etching | |
US7275436B2 (en) | Method and apparatus for measuring film thickness and film thickness growth | |
JPH0810231B2 (ja) | フローセンサ | |
US2536111A (en) | Dew point hygrometer | |
EP0353996B1 (en) | A flow sensor | |
US3383238A (en) | Method and apparatus of controlling thin film deposition in a vacuum | |
SU278162A1 (ru) | УСТРОЙСТВО дл ИЗМЕРЕНИЯ СКОРОСТИ ИСПАРЕНИЯ | |
US20240151668A1 (en) | Device and Method for Determining Dewpoint or Humidity | |
JPH0749270A (ja) | 温度センサ | |
US6820485B2 (en) | Method and apparatus for measuring film thickness and film thickness growth | |
Meschi et al. | The dissociation pressure of aluminum carbide | |
US2809346A (en) | Apparatus for measuring the thickness of electroconductive films | |
Douglas | The Vapour Pressure of Calcium: I | |
US3186229A (en) | Temperature-sensitive device | |
Bouzidi et al. | High-stability quartz-crystal microbalance for investigations in surface science | |
JPH0722482A (ja) | 膜厚測定装置およびそれを用いた薄膜形成装置 | |
JPH0862010A (ja) | 計測装置 | |
JP3065862B2 (ja) | 流量検出装置および流量検出方法 | |
JPS6385364A (ja) | フローセンサ | |
Nedelcu | Vacuum Deposition | |
JPS6372872A (ja) | 真空蒸着装置 | |
Weber et al. | Rapid and direct measurement of vapor pressure of liquid metals | |
JPH03176623A (ja) | 半導体素子の温度制御装置と、それに用いた温度センサ |