SU278162A1 - УСТРОЙСТВО дл ИЗМЕРЕНИЯ СКОРОСТИ ИСПАРЕНИЯ - Google Patents

УСТРОЙСТВО дл ИЗМЕРЕНИЯ СКОРОСТИ ИСПАРЕНИЯ

Info

Publication number
SU278162A1
SU278162A1 SU1310305A SU1310305A SU278162A1 SU 278162 A1 SU278162 A1 SU 278162A1 SU 1310305 A SU1310305 A SU 1310305A SU 1310305 A SU1310305 A SU 1310305A SU 278162 A1 SU278162 A1 SU 278162A1
Authority
SU
USSR - Soviet Union
Prior art keywords
evaporation
rate
sensor
measuring
thermocouple
Prior art date
Application number
SU1310305A
Other languages
English (en)
Publication of SU278162A1 publication Critical patent/SU278162A1/ru

Links

Description

Изобретение относитс  к технологии нанесенн  тонкопленочных покрытий в вакууме и примен етс , в частности, при нроизводстве декоративных покрытий, в тонкопленочной микрС1Электронике н т. п.
Дл  получени  высококачественных тонкопленочных покрытий необходимо контролиро .вать скорость испарени  исходного материала. Известны различные устройства дл  контрол  скорости испарени , содержаидие источник питани , датчик и отсчетное устройство. Наибольшее распространение из ннх получили три устройства.
, В первом устройстве в качестве датчика непользуетс  пластина кварца, имеюща  посто нную частоту колебаний нри данной массе пластины. При -конденсацин испар емого материала на поверхности пластины измен етс  ее масса, а следовательно, н ее резонансна  частота. Это изменение частоты фиксируетс  отсчетным устройством н по величине этого нзменени  суд т об изменении скорости иенарени .
В другом известном устройстве в качестве датчика примен етс  видоизмененный ионизационный манометр, в котором частицы иснар емого матернала ионизируютс  между электродами манометра, и полученный ионный ток фиксируетс  отсчетным устрпйством.
В третьем тине устройств в качестве датчнка примен ютс  микровесы магннтоэлектрической системы. О скорости испарени  в этом случае суд т но изменению массы.
Описанные выше устройства сложны, дороги и не всегда применимы. Так, например, устройство с кварцевым генератором в качестве датчика требует после двух-трех напылений очистки дорогосто ш,ей кварцевой пластины и точной ее установки в кристаллодержате.те, а после р да очисток н полной ее заменьг.
Устройство с ионнзацнонным манометром в качестве датчика удобно только прн нзмерении скорости испарени  металлов, в случае же напылени  диэлектрических пленок его электроды покрываютс  пленкой диэлектрика, что приводит к снижению точности измерений и вызывает необходимость иметь .прогреваемые электроды дл  удалени  осажденных иленок, что неизбежно ведет к усложнению конструкции.
Устройства с МИкровесами в качестве датчика получили распространение только в лабораторных условн х; они требуют очень осторожного обрашенн , что при работе на вакуумной установке трудно осуществимо.
так и в производственных услови х с люоым видом испар емого материала.
Дл  этого в качестве датчика устройства гфимеиеиа термопара с четырьм  иопарпо одинакозымп термоэлектрода ми из тугоплавких металлов со спаем, расположеипым в зоне осаждеии  испар емого вещества, причем одпа пара термоэлектродов прпсоедппеиа к источнику питапи , а втора  - к регистрирующему прибору.
На чертеже изображена схема устройства дл  измерени  скорости испарени .
Устройство состоит из высокотемпературной термопары 1, выполненной в виде креста, например , из вольфрамовой и вольфрамрениевой проволок диаметром 0,05 мм. К зажимам термопары подключен с одной стороны источник посто нного тока накала 2, а с другой стороны - регистрирующий прибор 3 (например, милливольтметр на 40 mv). При протекании тока накала /„ по правой части термопары, ее спай 4 нагреваетс  до 2500°С, при этом регнстрирующнй нрибор 3 показывает наличие Э.Д.С., соответствующей этой температуре. Разогретый до 2500°С спай термопары помещаетс  над испар емым материалом 5. Так как температура испар емого вещества в большинстве случаев ниже 2500°С, то спай будет охлаждатьс  паром испар емого вещества , регистрирующий нрибор прп этом покажет умепьи еиие э.д.с. термопары. Шкалу регпстр 1рующего прибора можно отградуировать в едппицах скорости исиареии , что упрощает его использование.
Достоинством этого устройства  вл етс  иростота. Кроме того, с его помощью можно измер ть скорость исиарени  как металлов, так и диэлектриков. Так как температура спа  в большиистве случаев иревышает температуру испар емого материала, то конденсаци  паров па спае термопары невозможна, что устран ет необходимость в периодической очистке датчика.
Предмет изобретени 
Устройство дл  измерени  скоростн испарени , содержащее источник питани , датчик и регистрирующий прибор, отличающеес  тем, что, с целью упрощени  и удещевлени  устройства , в нем датчик выполнен в виде термопары с четырьм  попарно одинаковыми термоэлектродами из тугоплавких металлов со сиаем, расположенным в зоне осаждени  испар емого вещества, причем одпа пара термоэлектродов присоединена к источнику питаии , а втора  - к регистрирующему ирибору.
-ff-af
SU1310305A УСТРОЙСТВО дл ИЗМЕРЕНИЯ СКОРОСТИ ИСПАРЕНИЯ SU278162A1 (ru)

Publications (1)

Publication Number Publication Date
SU278162A1 true SU278162A1 (ru)

Family

ID=

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101336119B1 (ko) 유기 재료용 압력 게이지
US3879992A (en) Multiple crystal oscillator measuring apparatus
US4115184A (en) Method of plasma etching
US7275436B2 (en) Method and apparatus for measuring film thickness and film thickness growth
JPH0810231B2 (ja) フローセンサ
US2536111A (en) Dew point hygrometer
EP0353996B1 (en) A flow sensor
US3383238A (en) Method and apparatus of controlling thin film deposition in a vacuum
SU278162A1 (ru) УСТРОЙСТВО дл ИЗМЕРЕНИЯ СКОРОСТИ ИСПАРЕНИЯ
US20240151668A1 (en) Device and Method for Determining Dewpoint or Humidity
JPH0749270A (ja) 温度センサ
US6820485B2 (en) Method and apparatus for measuring film thickness and film thickness growth
Meschi et al. The dissociation pressure of aluminum carbide
US2809346A (en) Apparatus for measuring the thickness of electroconductive films
Douglas The Vapour Pressure of Calcium: I
US3186229A (en) Temperature-sensitive device
Bouzidi et al. High-stability quartz-crystal microbalance for investigations in surface science
JPH0722482A (ja) 膜厚測定装置およびそれを用いた薄膜形成装置
JPH0862010A (ja) 計測装置
JP3065862B2 (ja) 流量検出装置および流量検出方法
JPS6385364A (ja) フローセンサ
Nedelcu Vacuum Deposition
JPS6372872A (ja) 真空蒸着装置
Weber et al. Rapid and direct measurement of vapor pressure of liquid metals
JPH03176623A (ja) 半導体素子の温度制御装置と、それに用いた温度センサ