SU1755040A1 - Способ оптического контрол толщины при нанесении многослойного интерференционного неравнотолщинного покрыти - Google Patents

Способ оптического контрол толщины при нанесении многослойного интерференционного неравнотолщинного покрыти Download PDF

Info

Publication number
SU1755040A1
SU1755040A1 SU894765446A SU4765446A SU1755040A1 SU 1755040 A1 SU1755040 A1 SU 1755040A1 SU 894765446 A SU894765446 A SU 894765446A SU 4765446 A SU4765446 A SU 4765446A SU 1755040 A1 SU1755040 A1 SU 1755040A1
Authority
SU
USSR - Soviet Union
Prior art keywords
thickness
layer
coating
wavelength
control
Prior art date
Application number
SU894765446A
Other languages
English (en)
Inventor
Юрий Анатольевич Глебов
Зоя Николаевна Кабакова
Лев Симонович Шендерович
Original Assignee
Научно-производственное объединение "Орион"
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Научно-производственное объединение "Орион" filed Critical Научно-производственное объединение "Орион"
Priority to SU894765446A priority Critical patent/SU1755040A1/ru
Application granted granted Critical
Publication of SU1755040A1 publication Critical patent/SU1755040A1/ru

Links

Landscapes

  • Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)

Abstract

Изобретение относитс  к измерени м с использованием оптичебких средств. Цель изобретени  - повышение точности контрол  при нанесении многослойного интерференционного неравнотолщинного покрыти  посредством просвечивани  покрыти  и изменени  длины волны излучени  дл  каждого наносимого . Дл  этого перед нанесением каждого сло  покрыти  измен ют длину волны просвечивающего излучени  в зависимости от оптических характеристик просвечиваемого нанесенного многослойного покрыти  и просвечивают наносимый слой вместе с нанесенными. 1 табл.

Description

Изобретение относитс  к измерени м с использованием оптических средств и может быть применено при изготовлении интерференционных фильтров и зеркал.
Известен способ оптического контрол  при нанесении неравнотолщинных покрытий , при котором контроль толщины каждого сло  производитс  по отдельному свидетелю, который просвечивают на контрольной длине волны, регистрируют интенсивность прошедшего через свидетель излучени  и прекращают процесс нанесени  покрыти  на образец при достижении экстремального значени  интенсивности прошедшего через свидетель излучени .
Однако способ отличаетс  недостаточной точностью контрол , обусловленной тем, что рабочий образец и свидетель наход тс  в разных местах вакуумной камеры, вследствие чего скорости нанесени  на них покрыти  различны.
Известен способ оптического контрол  при нанзсении интерференционных покрытий , заключающийс  в том, что просвечивают образец на контрольной длине волны, которую определ ют дл  каждого сло  из
соотношени  Як
U
К
в соответствии
с оптической толщине данного сло , регистрируют интенсивность прошедшего через образец излучени  и прекращают процесс нанесени  покрыти  при достижении экстремального значени  интенсивности прошедшего через образец излучени .
Способ отличаетс  недостаточной точностью контрол  йЭ-за некратности толщин слоев.
Целью изобретени   вл етс  повышение точности контрол  толщины посредством просвечивани  покрыти  и изменени  длины волны излучени  дл  каждого наносимого сло .
Поставленна  цель достигаетс  тем, что ц способе оптического контрол  толщины при нанесении многослойного интерференционного неравнотолщинного покрыти , зас 
ключающемс  в том, что просвечивают образец на контрольной длине волны, регистрируют интенсивность прошедшего через образец излучени  и прекращают процесс нанесени  покрыти  при достижении экстремального значени  интенсивности прошедшего через образец излучени , перед нанесением каждого сло  измен ют длину волны просвечивающего излучени  в соответствии с соотношением
ад, Hj + h) Tj(Aj, Hrh),
где Tj - коэффициент пропускани  системы слоев, включающей наносимый j-слой и уже нанесенные слои;
AJ - контрольна  длина волны;
Hj - толщина наносимого сло ;
h - девиаци  толщины, . - и просвечивают наносимый слой вместе с нанесенными,
Сущность изобретени  состоит в том, что измерение коэффициента пропускани  осуществл ют на длине волны, вычисленной дл  всей совокупности нанесенных и наносимого слоев в соответствии с математическим выражением В общем случае эта длина вопиы рассчитываетс  с помощью ЭВМ. Этот отличительный признак  вл етс  существенным, так как при расчете по формуле в соответствии со способом-прототипом будет допущена ошибка, возникающа  из-за того, что фаза коэффициента отражени  предыдущей системы слоев на контрольной длине волны, вычисленной дл  Последнего сло  по формуле, отличаетс  от нул  или 180° (вследствие некратности толщин слоев), и ото отличие вли ет на реальную толщину последнего сло . Ошибка эта может быть как угодно велика.
В предложенном способе повышение точности контрол  происходит за счет того, что при расчете контрольной длины волны в соответствии с соотношением автоматически учитываютс  изменени  фазы коэффициента отражени , вызванные некратностыо толщин слоев. Кроме того, повышению точности контрол  способствует автокомпенсаци  ошибок на соседних сло х, котора  отсутствует при контроле по способ, прин тому за прототип.
Пример. Требуетс  получить интерференционный фильтр, имеющий полосу пропускани  2,1-4,0 мкм и полосу подавлени  0,7-2,1 мкм
Алгоритм вычислени  контрольной длины волны А дл  нанесени  каждого сло .
Ус/юа -ыо обозначени :
Т - коэффициент пропускани ;
Amin... Атах - допустимый диапазон длин волн;
К - волновое число, К -у Кк -Д-;
Н - толщина наносимого сло ;
1 .
h - девиаци  толщины, h
10
в - фазова  толщина j-ro сло ;
ДК - шаг приращени  волнового числа;
ДК
О - фазова  толщина наносимого сло ;
5
0
DI - производна  Si - знак DI;
Da - производна 
dT .
d&
d D d2 Т
dft,
DL - старое значение DI, соответствующее предыдущему значению К;
EXT - переменна , имеюща  значени 
MIN или МАХ дл  К1
лтъ 5 Di,DL DiSi Si.
«,
Начало цикла по К от (
вычислить
1
Am
ах
+ ДК)ДО
0
5
0
5
0
5
DI
MIN
с шагом ДК.
п
Вычислить DL Вычислить SL
ЕслиЗт SL, тоКк К-ДКDI - DL
Вычислить Da
Если , то ЕХТ МАХ, иначе ЕХТ J
.
Вычислить Т Выдать на печать
Ак -1-, ЕХТ. Т: Конец.
К-К
Иначе конец цикла.
Выдать на печать: В диапазоне Amin - Amax экйтремума нет. Конец.
Алгоритм вычислени  DI Вычислить Т: TL Т. Он Он + hK. Вычислить Т Di T-T Он - OH - hK. Конец.
Алгоритм вычислени  D2 Вычислить DI : DL Di К Вычислить DT , Da 61 -DL , -К. Конец.
Вычисление коэффициента пропускани  системы слоев Т производитс  по известным методикам.
Конструкци  фильтра и результаты расчета сведены в таблицу.
В соответствии с этой таблицей процесс нанесени  покрыти  провод т следующим образом: устанавливают на монохроматоре длину волны Ак 1,130 мкм.J Нанос т первый слой (SI), одновременно контролиру  коэффициент пропускани . Процесс нанесени  заканчивают, когда коэффициент пропускани  достигнет минимума .. Устанавливают на монохроматоре длину волны Дк 0,770 мкм. -,
Нанос т второй слой (ЗЮа), одновременно контролиру  коэффициент пропускани . Процесс нанесени  заканчивают, когда коэффициент пропускани  достигнет минимума (перед этим он проходит через максимум; номер экстремума N определ ют по формуле
N 1 н- цела  часть от выражений
/ В лнач
(
где в- фазова  толщина сло ;
Анач - длина волны, дл  которой задана в.
0
следующие слои SI и SI02 нанос т по ана- логичной методике.

Claims (1)

  1. Формула изобретени  Способ оптического контрол  толщины при нанесении многослойного интерференционного неравнотОлщинного покрыти , заключающийс  втом, что просвечивают образец на контрольной длине волны, регистрируют интенсивность прошедшего через образец излучени  и прекращают процесс нанесени  покрыти  при достижении экстремального значени  интенсивности прошедшего через образец излучени , о т л и - чающийс  тем, что, с целью повышени  точности контрол , перед нанесением каждого сло  измен ютДШну волны просвечивающего излучени  в сботаетствии с соотношением
    Tj(lj; Hj + h) Tj(Aj,-HJ - h),
    гдe Tj - коэффициент пропускани  системы слоев, включающий наносимый j-слой и уже нанесенные слои;
    AJ - контрольна  длина волны; Hj - толщина наносимого сло ; h - девиаци  толщины, и просвечивают наносимый слой вместе с нанесенными.
SU894765446A 1989-12-06 1989-12-06 Способ оптического контрол толщины при нанесении многослойного интерференционного неравнотолщинного покрыти SU1755040A1 (ru)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SU894765446A SU1755040A1 (ru) 1989-12-06 1989-12-06 Способ оптического контрол толщины при нанесении многослойного интерференционного неравнотолщинного покрыти

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SU894765446A SU1755040A1 (ru) 1989-12-06 1989-12-06 Способ оптического контрол толщины при нанесении многослойного интерференционного неравнотолщинного покрыти

Publications (1)

Publication Number Publication Date
SU1755040A1 true SU1755040A1 (ru) 1992-08-15

Family

ID=21482788

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
SU894765446A SU1755040A1 (ru) 1989-12-06 1989-12-06 Способ оптического контрол толщины при нанесении многослойного интерференционного неравнотолщинного покрыти

Country Status (1)

Country Link
SU (1) SU1755040A1 (ru)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN100410693C (zh) * 2006-06-08 2008-08-13 上海欧菲尔光电技术有限公司 光学滤光片薄膜厚度的监控方法

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
Холлэнд П. Нанесение тонких пленок в вакууме. М.-Л.; ГЭИ, 1963, с. 374, 375. За вка JP № 57-24485, кл. G 01 В 11/06. *

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN100410693C (zh) * 2006-06-08 2008-08-13 上海欧菲尔光电技术有限公司 光学滤光片薄膜厚度的监控方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US5786931A (en) Phase grating and method of producing phase grating
US6573999B1 (en) Film thickness measurements using light absorption
US4707611A (en) Incremental monitoring of thin films
JP2003529047A (ja) パターン化されたウエハ上のx線反射率測定
US6010756A (en) Rugate filter and method of making same
DE69326928T2 (de) Verfahren zur Messung des Brechungsindexes einer dünnen Schicht
SU1755040A1 (ru) Способ оптического контрол толщины при нанесении многослойного интерференционного неравнотолщинного покрыти
CA2419705A1 (en) Method of reducing harmonic noise in vibroseis operations
US5138485A (en) Optical filter for measurement of combustion gases and method of manufacturing
JP3625736B2 (ja) 光学フィルタの製造方法
US5166826A (en) Band-pass filter for electromagnetic radiation
JP3632757B2 (ja) 光学フィルタの製造方法
US20010038456A1 (en) Method for the production of multi-layer systems
SU1157350A1 (ru) Способ контрол за нанесением слоев многослойных ультрафиолетовых покрытий
SU1415057A1 (ru) Способ фотометрического контрол многослойных покрытий
Flory et al. Interpretation of wide band scans of growing optical thin films in terms of layer microstructure
Fornier et al. Realization of Fabry-Perot filters for wavelength demultiplexing
Koss et al. Determination of optical constants of silver layers in ZnO/Ag/ZnO coatings using variable angle spectroscopic ellipsometry
Willey Design and monitoring of narrow bandpass filters composed of non-quarter-wave thicknesses
SU1599825A1 (ru) Просветл ющее покрытие
CN117328030A (zh) 一种基于吸收光谱监控真空沉积薄膜质量的方法及装置
SU1577819A1 (ru) Способ изготовлени контрастного узкополосного фильтра с одним слоем металла
KR100325289B1 (ko) 박막의 화학조성 분석방법 및 이를 이용한 박막의 성장조절방법
JPH05249312A (ja) 光学多層膜の作製方法
SU1105788A1 (ru) Способ определени удельной свободной энергии кристаллов