SU1633022A2 - Способ удалени активного покрыти с оксидных рутениево-титановых анодов - Google Patents

Abstract

Изобретение относитс  к производству оксидных рутениево-титановых анодов, а именно к способам удалени  отработанного активного покрыти , и  вл етс  дополнительным к авторскому свидетельству N° 1318617. Целью изобретени   вл етс  снижение продолжительности процесса и повышение каче ства титановой основы. Процесс осуществл етс  в растворе солей щелочноземельных металлов с концентрацией 3-15 г/л при содержании ионов водорода 0,01-1,00 г/п, плотности тока от 1 до 10 А/см2, напр жении на электролизере 100 В. Врем  удалени  отработанного покрыти  3 мин. Качество титановой основы повышаетс , т.к. в кислом растворе не происходит выпадени  осадков малорастворимых оксидов и гидроксидов щелочно-земельных металлов на поверхности обрабатываемых анодов. 2 табл. i to

Description

Изобретение относитс  к производству оксидных рутениево-титановых анодов (ОРТА), может найти применение в процессе восстановлени  отработанных анодов при удалении с их поверхности активного покрыти  и  вл етс  усовершенствованием способа по авт.св. № 1318617.

Цель изобретени  - снижение про-/ должительности процесса и повышение качества титановой основы.

Пример. Удаление активного покрыти  с ОРТА провод т в бездиафраг- менном электролизере в растворах со- , MgCl4, BaCl, содержание 3-15 г/л) при содержании ионов водорода 0,01-1,0 г/л (НС1, H2S04). Обрабатываемый ОРТА пол ризуют катодно (шютность тока 1-Ю А/см2, напр жение 50-150 В, расход электричества 5-30 А.ч/г рутени ), анодом служит другой ОРТА, графит или другой провод щий материал.

Результаты исследований представлены в табл.1, вли ние условий на показатели процесса - в табл.2.

Поскольку процесс провод т при содержании в растворе ионов водорода 0,01-1,00 г/л, то практически не происходит защелачивание (рН гидратооб- разовани  не достигаетс ) поверхности ОРТА и нет выпадени  гидроксицов щеОЭ

со од

N5 ГО

N)

лочно-земельных металлов (при использовании растворов этих солей).

Содержание ионов водорода в растворе подбирают экспериментально. При концентрации ионов водорода менее 0,01 г/л повышаетс  врем  возникновени  устойчивой газовой оболочки (и начала протекани  плазмохимичес- кого процесса) и возникает опасность пассивации поверхности осадком гид- роксидов (при использовании растворов щелочноземельных металлов), повыше10

1,00 г/л) мало вли е ность процесса, но у ческую агрессивность

Claims (1)

1. Формула изо

   Способ удалени  а с оксидных рутениево по авт. св. № 13186 ю щ и и с   тем, чт ни  продолжительност шени  качества титан цесс ведут при содер

   ние содержани  ионов водорода (более 15 рода 0,01-1,00 г/л.

   1,00 г/л) мало вли ет на эффективность процесса, но увеличивает химическую агрессивность растворов.

   Формула изобретени 

   Способ удалени  активного покрыти  с оксидных рутениево-титановых анодов по авт. св. № 1318617, о т л и ч а- ю щ и и с   тем, что, с целью снижени  продолжительности процесса и повышени  качества титановой основы, процесс ведут при содержании ионов водо

   5,0 5.0 5.0

   5,0

   100 100

   too

   150

   20 20 20

   15

   т в     ц i

   Таблица 2

   Чиста , светло-сера , поверхность неоднородна

   Чиста , светло-сера , микроперохо- ватость норме