SU1547981A1 - Способ регулировани процесса электрохимической обработки - Google Patents

Abstract

Изобретение относитс  к машиностроению, в частности к размерной электрохимической обработки (ЭХО) деталей. Цель изобретени  - повышение надежности регулировани  процесса ЭХО импульсным током на малых зазорах (0,03...0,08 мм) за счет использовани  в качестве параметра регулировани  скважности импульсов технологического тока. В процессе электрохимической обработки контролируют скважность импульсов технологического тока, формирующихс  при упругих отводах электрода-инструмента от детали под действием усилий обработки, сравнивают ее текущее значение с установленным эталонным значением скважности и выполн ют сближение электродов, если текущее значение скважности меньше его эталонного значени . 3 ил.

Description

Изобретение относитс  к машиностроению , в частности к электрохимическим методам формировани  поверхностей деталей.

Цель изобретени  - повышение надежности регулировани  процесса электрохимической обработки (ЭХО).

На фиг. 1 показана зависимость амплитуды отводов электрода-инструмента (ЭЙ) от величины межэлектродного зазора (МЭЗ); на фиг. 2 - скважность импульсов технологического тока и амплитуда отводов ЭЙ на различных стади х процесса при МЭЗ, равном 0,05, 0,1 и более 0,3 мм; на фиг. 3 - зависимость скгадности импульсов тока от величины МЭЗ.

Амплитуда упругих токов ЭЙ стабильна при работе на зазорах более 0,1 мм (Лиг. 1). При переходе на Аинишном этапе обработки к меньшим значени м МЭЗ (менее 0,1 мм) наблюдаютс  случайные всплески амплитуды, превышающие по величине установившеес  значение этой амплитуды (Лиг. 2). Это происходит из-за неодинаковых условий промывки сокращающегос  МЭЗ электролитом в каждом цикле вибрации ЭЙ. Така  нестабильность амплитуды отводов ЭЙ приводит к ложным срабатывани м аппаратуры управлени , что и делает эту амплитуду ненадежным

параметром дл  оценки МЭЗ.

Анализ скважности импульсов, формирующихс  при различных величинах МЭЗ (Фиг. 2), показывает, что существует зависимость этой скважности от величины МЭЗ. Например, при ЮЗ 0,3 мм скважность равна 1,2. При МЭЗ 0,1 мм она увеличиваетс  до 1,7. При

сл

4 1

CD 00

}ОЗ 0,05 мм скважность формирующихс  импульсов составл ет 5. Така  зависимость приведена на фиг. 3 и может быть объ снена следующим. При относительно больших МЭЗ (более 0;4 мм) услови  удалени  продуктов электролиза достаточно хорошие. Вытеснение образующихс  газов происходит через боко- йые зазоры беспреп тственно и давле- |ни  этих газов недостаточно дл  отво- |цов ЭЙ. Отводов поэтому не происходит , технологический ток не прерываетс  и реализуетс  схема ЭХО посто нным током со скважностью, равной 1„

При сокращении МЭЗ дл  повышени  точности в конце обработки выход из МЭЗ образующихс  газов чгерез боковые зазоры затрудн етс , что приводит к увеличению давлени  в .ЮЗ образующих- с  газов. Это сопровождаетс  отводами ЭЙ от детали с одновременным отключением технологического тока. Формируютс  импульсы тока и реализуетс  схема импульсной ЭХО с вибрацией ЭЙ. При этом каждому значению МЭЗ соответствует свой объем электролита, заключенный в межэлектродном пространстве и, следовательно, свои услови  дл  образовани  отжимающих усилий, деист- вующих на ЭЙ, Так, сокращение ЮЗ приводит к увеличению скважности и наоборот о Причем случайные всплески амплитуды отводов ЭЙ никак не сказываютс  на скважности импульсов, так как они происход т в паузах между этими импульсами. Это повышает надежность регулировани  процесса.

Скважность импульсов контролирует

с  или по среднему напр жению этих импульсовs что легко регистрируетс  аппаратурой, или по осциллографу и т.п.,

Пример. Электрохимической обработке подвергаетс  штамп с гравюрой площадью 95 см . Материал штампа - сталь 5ХНВ. Глубина гравюры штампа 35 мм. Электролит имеет 12% NaNOj- - NaCl. Давление электролита на входе в ЮЗ 2-10 5 Па. Начальный ЮЗ выставл етс  пор дка 0,4...О,5 мм.

Включаетс  подача электролита и источник питани , автономно управл емый от внешнего коммутатора-прерывател . ЭЙ подводитс  к детали со скоростью анодного растворени , примерно О,6...О,8 мм/мин. Технологическое напр жение составл ет 12 В. При этом

5

0

0

отводы детали отсутствуют, так как дл  этого недостаточно давлени  образующихс  газов, которые беспреп тственно вытесн ютс  через боковые зазо- ры.

К концу обработки, по мере сокращени  оставшегос  припуска, необходимо повысить точность копировани  формы ЭЙ. Дл  этого ускорением подачи ЭЙ сокращаетс  МЭЗ. Начинаютс  отводы ЭЙ от детали с одновременным прерыванием напр жени , поступающего от источника, с помощью коммутатора. Формируютс  импульсы с определенной скважностью. Например, при ЮЗ О, 1 мм скважность составл ет 1,7. Среднее напр жение, наблюдаемое по вольтметру источника, начинает падать до 8...7 В. При необходимости поддержать этот зазор некоторое врем , поддерживаетс  среднее напр жение не ниже 7 В, что соответствует скважности импульсов 1,7 и величине МЭЗ 0,1 мм.

При достижении глубины обработки 34,5 мм производитс  переход на калиброванный режим обработки. Дл  этого ЮЗ сокращаетс  далее ускорением рабочей подачи до тех пор, пока скважность импульсов не достигнет 5, что соответствует величине МЭЗ 0S05 мм.

Вновь установленна  величина скважности принимаетс  как эталонна , на которую настраиваетс  аппаратура управлени . Подача ЭЙ прекращаетс  и осуществл етс  обработка импульсным током на ЮЗ, равном 0,05 мм. По мере анодного растворени  детали ЮЗ увеличиваетс , что сопровождаетс  уменьшением скважности импульсов и увеличением их среднего напр жени . Это увеличение регистрируетс  системой управлени , котора  включает подачу ЭЙ и корректирует величину МЭЗ (сближает электроды) до первоначального значени . Таким образом, процесс регулируетс  автоматически по отклонению скважности от ее установленного эталонного значени . При достижении глубины обработки 35 мм станок отключаетс  и обработка считаетс  законченной .

Способ позвол ет повысить надежность регулировани  процесса электрохимической обработки импульсным током на малых, пор дка 0,03...О,08 мм, зазорах за счет использовани  в каче5154

стве параметра регулировани  скважности импульсов технологического тока.

Claims (1)

1. Формула изобретени 

   Способ регулировани  процесса электрохимической обработки с синхронным отключением технологического тока при упругих отводах электрода- инструмента от детали под действием усилий обработки и его возвратам под ; действием упругих сил в паузах между

   формирующимис  импульсами технологического тока, отличающий- с   тем, что, с целью повышени  на- дежности регулировани , контролируют скважность импульсов технологического тока, сравнивают ее текущее значение с установленным эталонным значением скважности и выполн ют сближение электродов, если текущее значение скважности меньше его эталонного значени .

   дмэз, мм

   о.го о.ю

   ЈХ

   о,10 о.го о.зо о,цо м«,мм Фиг. I