SU1496844A1 - Способ очистки изделий - Google Patents
Способ очистки изделий Download PDFInfo
- Publication number
- SU1496844A1 SU1496844A1 SU874194125A SU4194125A SU1496844A1 SU 1496844 A1 SU1496844 A1 SU 1496844A1 SU 874194125 A SU874194125 A SU 874194125A SU 4194125 A SU4194125 A SU 4194125A SU 1496844 A1 SU1496844 A1 SU 1496844A1
- Authority
- SU
- USSR - Soviet Union
- Prior art keywords
- cleaning
- washing
- products
- zone
- rinsing
- Prior art date
Links
Landscapes
- Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
Abstract
Изобретение относитс к способам очистки изделий в водных растворах технического моющего средства, гор чей водопроводной воде, деионизованной воде с последующей сушкой, примен емым в радиотехнической, приборостроительной и др. отрасл х промышленности дл промывки узлов. С целью расширени номенклатуры обрабатываемых изделий, повышени производительности и качества очистки каждую из операций обработки в жидкости осуществл ют в три этапа: замочка, очистка механическими средствами, очистка в ультразвуковом поле, что позвол ет значительно интенсифицировать процесс и, следовательно, снизить врем на промывку изделий. Подача жидкости по данному способу осуществл етс ниже границы воздух жидкость, что исключает применение жестких струй, расшир возможности способа, т.е. данный способ применим дл очистки изделий печатного монтажа как с закрытыми, так и открытыми корпусами, при этом области воздействи на издели в каждой зоне промывки ограничены воздушными шиберами. 1 з.п. ф-лы, 1 ил.
Description
Изобретение относитс к промывке узлов с электрорадиоэлементами (ЭРЭ) и деталей, предназначенных дл использовани в радиотехнической , приборостроительной и других отрасл х промышленности.
Цель изобретени - расширение технологических возможностей, повышение производительности и качества очистки.
На чертеже представлена обща технологическа схема очистки и этапы очистки в жидкости.
Способ осуществл етс следующим образом .
Обрабатываемое изделие (плата с па ными электрорадиоэлементами) загружают в зону обработки водным раствором технического моющего средства (ТМС), нагретого до температуры 50±5°С, котора разделена воздушными гасител ми волн (воздушными шиберами) на три равные области. Изделие помещают в моюшую жидкость на глубину 1-3 мм от верхней плоскости печатной платы, что исключает вли ние моющей жидкости на ЭРЭ, и равномерно перемещают по всем трем област м, по 0,3- 0,5 мин в каждой области зоны. В первой области происходит воздействие подогретого ТМС на очищаемую плату, при этом флюс набухает и частично отслаиваетс от платы. Далее плата поступает в область очистки механическими средствами, т. е. щетками, и совместное действие щеток и ТМС способствует удалению флюса и других загр знений . При герметичных ЭРЭ воадействие щеток осуществл етс с обеих сторон платы , а там, где ЭРЭ не герметичны и возможно их повреждение щетками, последние чист т только одну сторону, свободную от ЭРЭ, где находитс больща часть флюса . Заключительный этап очистки ТМС происходит в ультразвуковом поле, где изделие отмываетс от остатков флюса после замочj;
;о а
00
1 4;
ки и механической очистки воздействием ТМС и ультразвукового пол .
Участки поверхности платы с возможными остатками загр знений после замочки и механической обработки способствуют образованию кавитационных зародышей и развитию кавитационного эффекта, увеличивающего интенсивность микроимпульсов и микропотоков . Особенно положительно сказываетс это вли ние дл противоположной от
Изобретение позвол ет существенно снизить возможность брака, так как дифе- ренцированное воздействие на издели последовательно замочкой, механоочисткой и ультразвуковым полем в различных моющих средах в сравнительно небольшие промежутки времени вл етс более м гким режимом очистки и не приводит к изменению параметров и нарушению маркировки па ных ЭРЭ, размещенных на обрабатываемом
ультразвуковых преобразователей поверхнос- Ю изделии, не повреждает поверхности само- ти подложки, несущей на себе ЭРЭ.го издели и снижает наличие скрытых
После промывки в ТМС издели поступают в зону промывки водопроводной водой с температурой до 45°С, где отмывка проходит также в три этапа - замочка, ,г очистка щетками и очистка в ультразвуковом поле, с длительностью каждого этапа 0,3-0,5 мин. В данной зоне осуществл етс удаление остатков ТМС и предварительное ополаскивание промываемых изделий.
Claims (2)
- В следующей зоне промывки - промыв- 20 вышать производительность очистки ки деионизованной во до й с удельной про-Формула изобретениводимостью не выше 4-10 Ом/см, включак i Способ очистки изделий, включающийщей также три этапа, происходит финишдефектов , расшир тем самым область применени данного способа как с герметичными , так и негерметичными ЭРЭ.Предложенный способ очистки позвол ет контролировать режимы обработки, управл ть ими в широком диапазоне и легко реализуетс в конвейерных моечных машинах . Кроме того, интенсификаци процесса за счет трехэтапной очистки позвол ет поперемещение издели через зоны обработки, промывку моющим раствором, промывку го- 25 р чей водой, ополаскивание гор чей проточной водой и промывку деионизованной водой с последующей сушкой, отличающийс тем, что, с целью расширени технологических возможностей, повышени производительности и качества очистки, каждую Подача рабочей жидкости в каждую зо- 30 операцию промывки осуществл ют в однойна очистка, т. е. очистка от ионных загр знений с получением необходимого электрического сопротивлени изол ции. Физическа сущность обработки аналогична предыдущим операци м, температура деионизованной воды 30+5°С.ну обработки осуществл етс по принципу «противотока, образу ламинарное течение жидкости в верхних сло х навстречу движению обрабатываемых изделий, в результате происходит ополаскивание на каждой операции очистки.35После финишной промывки издели поступают в зону сушки, где происходит сдув остатков деионизованной воды воздушными стру ми высокого давлени с последующей сушкой потоком гор чего воздуха.емкости в три этапа; замочка, механическа очистка и очистка под действием ультразвукового пол , а ополаскивание осуществл ют путем подачи свежего моющего раствора на каждом этапе промывки.
- 2. Способ по п. 1, отличающийс тем, что области воздействи на издели в каждой зоне промывки ограничивают воздушными щиберами, а подачу жидкости осуществл ют ниже свободного уровн жидкости в зоне промывки.Изобретение позвол ет существенно снизить возможность брака, так как дифе- ренцированное воздействие на издели последовательно замочкой, механоочисткой и ультразвуковым полем в различных моющих средах в сравнительно небольшие промежутки времени вл етс более м гким режимом очистки и не приводит к изменению параметров и нарушению маркировки па ных ЭРЭ, размещенных на обрабатываемомизделии, не повреждает поверхности само- го издели и снижает наличие скрытыхизделии, не повреждает поверхности само- го издели и снижает наличие скрытыхвышать производительность очистки Формула изобретенидефектов, расшир тем самым область применени данного способа как с герметичными , так и негерметичными ЭРЭ.Предложенный способ очистки позвол ет контролировать режимы обработки, управл ть ими в широком диапазоне и легко реализуетс в конвейерных моечных машинах . Кроме того, интенсификаци процесса за счет трехэтапной очистки позвол ет поемкости в три этапа; замочка, механическа очистка и очистка под действием ультразвукового пол , а ополаскивание осуществл ют путем подачи свежего моющего раствора на каждом этапе промывки.2. Способ по п. 1, отличающийс тем, что области воздействи на издели в каждой зоне промывки ограничивают воздушными щиберами, а подачу жидкости осуществл ют ниже свободного уровн жидкости в зоне промывки.npOMb/SffUЗпгруз- ка1зона fJpo t:/S- . но Sod- ымрос-Шзоно npoMb/S- кадеио- низоёан- нойводЛСушхаРазг- ffi/jm
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
SU874194125A SU1496844A1 (ru) | 1987-02-13 | 1987-02-13 | Способ очистки изделий |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
SU874194125A SU1496844A1 (ru) | 1987-02-13 | 1987-02-13 | Способ очистки изделий |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
SU1496844A1 true SU1496844A1 (ru) | 1989-07-30 |
Family
ID=21285383
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
SU874194125A SU1496844A1 (ru) | 1987-02-13 | 1987-02-13 | Способ очистки изделий |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
SU (1) | SU1496844A1 (ru) |
-
1987
- 1987-02-13 SU SU874194125A patent/SU1496844A1/ru active
Non-Patent Citations (1)
Title |
---|
Авторское свидетельство СССР № 925431, кл. В 08 В 3/02, 1979. * |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US4902350A (en) | Method for rinsing, cleaning and drying silicon wafers | |
US6746544B2 (en) | Apparatus for cleaning and drying substrates | |
TWI447799B (zh) | 基板洗淨方法及基板洗淨裝置 | |
ATE390706T1 (de) | Prozess und vorrichtung zur behandlung eines arbeitsstücks, wie zum beispiel eines halbleiterwafers | |
CN110586568A (zh) | 一种用于蓝宝石衬底片碳化硼研磨后的清洗方法 | |
CN108831848A (zh) | 一种半导体晶圆清洗干燥设备 | |
JP3341727B2 (ja) | ウエット装置 | |
JPS6118958A (ja) | 半導体装置用ガラスマスクの洗浄方法 | |
SU1496844A1 (ru) | Способ очистки изделий | |
TW200507955A (en) | Cleaning and drying a substrate | |
JPH02250324A (ja) | 半導体装置の製造方法およびそれに使用される洗浄装置 | |
JP2000336494A (ja) | 金属帯板の洗浄装置 | |
CN114618821B (zh) | 一种半导体原子层沉积设备用陶瓷产品洗净方法 | |
KR19980050047U (ko) | 웨이퍼 세척 장치 | |
JPH11169802A (ja) | 電子部品洗浄方法および電子部品洗浄装置 | |
JP2982885B2 (ja) | 洗浄処理装置および該処理装置を用いる洗浄処理方法 | |
KR100869221B1 (ko) | 물방울 제거용 히팅 시스템이 구비된 세정장치 | |
JPH0336729A (ja) | 乾燥方法及びその乾燥装置 | |
JPS6260225A (ja) | シリコンウエハの洗浄方法 | |
JP2000153240A (ja) | 電子部品洗浄方法および電子部品洗浄装置 | |
KR19990005888A (ko) | 웨이퍼 세정방법 | |
SU1074617A1 (ru) | Устройство дл двусторонней очистки изделий | |
JPS61121336A (ja) | ウエハ−の処理方法 | |
JPH05326488A (ja) | 半導体基板エッチング処理装置および方法 | |
JPH04179228A (ja) | 精密洗浄の乾燥方法 |