SU1496844A1 - Способ очистки изделий - Google Patents

Способ очистки изделий Download PDF

Info

Publication number
SU1496844A1
SU1496844A1 SU874194125A SU4194125A SU1496844A1 SU 1496844 A1 SU1496844 A1 SU 1496844A1 SU 874194125 A SU874194125 A SU 874194125A SU 4194125 A SU4194125 A SU 4194125A SU 1496844 A1 SU1496844 A1 SU 1496844A1
Authority
SU
USSR - Soviet Union
Prior art keywords
cleaning
washing
products
zone
rinsing
Prior art date
Application number
SU874194125A
Other languages
English (en)
Inventor
Виктор Иринеевич Сорокин
Игорь Иванович Халявин
Николай Васильевич Сергеев
Евгений Евгеньевич Винокуров
Виктор Ильич Охотников
Александр Николаевич Назаров
Original Assignee
Предприятие П/Я Р-6058
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Предприятие П/Я Р-6058 filed Critical Предприятие П/Я Р-6058
Priority to SU874194125A priority Critical patent/SU1496844A1/ru
Application granted granted Critical
Publication of SU1496844A1 publication Critical patent/SU1496844A1/ru

Links

Landscapes

  • Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)

Abstract

Изобретение относитс  к способам очистки изделий в водных растворах технического моющего средства, гор чей водопроводной воде, деионизованной воде с последующей сушкой, примен емым в радиотехнической, приборостроительной и др. отрасл х промышленности дл  промывки узлов. С целью расширени  номенклатуры обрабатываемых изделий, повышени  производительности и качества очистки каждую из операций обработки в жидкости осуществл ют в три этапа: замочка, очистка механическими средствами, очистка в ультразвуковом поле, что позвол ет значительно интенсифицировать процесс и, следовательно, снизить врем  на промывку изделий. Подача жидкости по данному способу осуществл етс  ниже границы воздух жидкость, что исключает применение жестких струй, расшир   возможности способа, т.е. данный способ применим дл  очистки изделий печатного монтажа как с закрытыми, так и открытыми корпусами, при этом области воздействи  на издели  в каждой зоне промывки ограничены воздушными шиберами. 1 з.п. ф-лы, 1 ил.

Description

Изобретение относитс  к промывке узлов с электрорадиоэлементами (ЭРЭ) и деталей, предназначенных дл  использовани  в радиотехнической , приборостроительной и других отрасл х промышленности.
Цель изобретени  - расширение технологических возможностей, повышение производительности и качества очистки.
На чертеже представлена обща  технологическа  схема очистки и этапы очистки в жидкости.
Способ осуществл етс  следующим образом .
Обрабатываемое изделие (плата с па ными электрорадиоэлементами) загружают в зону обработки водным раствором технического моющего средства (ТМС), нагретого до температуры 50±5°С, котора  разделена воздушными гасител ми волн (воздушными шиберами) на три равные области. Изделие помещают в моюшую жидкость на глубину 1-3 мм от верхней плоскости печатной платы, что исключает вли ние моющей жидкости на ЭРЭ, и равномерно перемещают по всем трем област м, по 0,3- 0,5 мин в каждой области зоны. В первой области происходит воздействие подогретого ТМС на очищаемую плату, при этом флюс набухает и частично отслаиваетс  от платы. Далее плата поступает в область очистки механическими средствами, т. е. щетками, и совместное действие щеток и ТМС способствует удалению флюса и других загр знений . При герметичных ЭРЭ воадействие щеток осуществл етс  с обеих сторон платы , а там, где ЭРЭ не герметичны и возможно их повреждение щетками, последние чист т только одну сторону, свободную от ЭРЭ, где находитс  больща  часть флюса . Заключительный этап очистки ТМС происходит в ультразвуковом поле, где изделие отмываетс  от остатков флюса после замочj;
;о а
00
1 4;
ки и механической очистки воздействием ТМС и ультразвукового пол .
Участки поверхности платы с возможными остатками загр знений после замочки и механической обработки способствуют образованию кавитационных зародышей и развитию кавитационного эффекта, увеличивающего интенсивность микроимпульсов и микропотоков . Особенно положительно сказываетс  это вли ние дл  противоположной от
Изобретение позвол ет существенно снизить возможность брака, так как дифе- ренцированное воздействие на издели  последовательно замочкой, механоочисткой и ультразвуковым полем в различных моющих средах в сравнительно небольшие промежутки времени  вл етс  более м гким режимом очистки и не приводит к изменению параметров и нарушению маркировки па ных ЭРЭ, размещенных на обрабатываемом
ультразвуковых преобразователей поверхнос- Ю изделии, не повреждает поверхности само- ти подложки, несущей на себе ЭРЭ.го издели  и снижает наличие скрытых
После промывки в ТМС издели  поступают в зону промывки водопроводной водой с температурой до 45°С, где отмывка проходит также в три этапа - замочка, ,г очистка щетками и очистка в ультразвуковом поле, с длительностью каждого этапа 0,3-0,5 мин. В данной зоне осуществл етс  удаление остатков ТМС и предварительное ополаскивание промываемых изделий.

Claims (2)

  1. В следующей зоне промывки - промыв- 20 вышать производительность очистки ки деионизованной во до й с удельной про-Формула изобретени 
    водимостью не выше 4-10 Ом/см, включак i Способ очистки изделий, включающий
    щей также три этапа, происходит финишдефектов , расшир   тем самым область применени  данного способа как с герметичными , так и негерметичными ЭРЭ.
    Предложенный способ очистки позвол ет контролировать режимы обработки, управл ть ими в широком диапазоне и легко реализуетс  в конвейерных моечных машинах . Кроме того, интенсификаци  процесса за счет трехэтапной очистки позвол ет поперемещение издели  через зоны обработки, промывку моющим раствором, промывку го- 25 р чей водой, ополаскивание гор чей проточной водой и промывку деионизованной водой с последующей сушкой, отличающийс  тем, что, с целью расширени  технологических возможностей, повышени  производительности и качества очистки, каждую Подача рабочей жидкости в каждую зо- 30 операцию промывки осуществл ют в одной
    на  очистка, т. е. очистка от ионных загр знений с получением необходимого электрического сопротивлени  изол ции. Физическа  сущность обработки аналогична предыдущим операци м, температура деионизованной воды 30+5°С.
    ну обработки осуществл етс  по принципу «противотока, образу  ламинарное течение жидкости в верхних сло х навстречу движению обрабатываемых изделий, в результате происходит ополаскивание на каждой операции очистки.35
    После финишной промывки издели  поступают в зону сушки, где происходит сдув остатков деионизованной воды воздушными стру ми высокого давлени  с последующей сушкой потоком гор чего воздуха.
    емкости в три этапа; замочка, механическа  очистка и очистка под действием ультразвукового пол , а ополаскивание осуществл ют путем подачи свежего моющего раствора на каждом этапе промывки.
  2. 2. Способ по п. 1, отличающийс  тем, что области воздействи  на издели  в каждой зоне промывки ограничивают воздушными щиберами, а подачу жидкости осуществл ют ниже свободного уровн  жидкости в зоне промывки.
    Изобретение позвол ет существенно снизить возможность брака, так как дифе- ренцированное воздействие на издели  последовательно замочкой, механоочисткой и ультразвуковым полем в различных моющих средах в сравнительно небольшие промежутки времени  вл етс  более м гким режимом очистки и не приводит к изменению параметров и нарушению маркировки па ных ЭРЭ, размещенных на обрабатываемом
    изделии, не повреждает поверхности само- го издели  и снижает наличие скрытых
    изделии, не повреждает поверхности само- го издели  и снижает наличие скрытых
    вышать производительность очистки Формула изобретени 
    дефектов, расшир   тем самым область применени  данного способа как с герметичными , так и негерметичными ЭРЭ.
    Предложенный способ очистки позвол ет контролировать режимы обработки, управл ть ими в широком диапазоне и легко реализуетс  в конвейерных моечных машинах . Кроме того, интенсификаци  процесса за счет трехэтапной очистки позвол ет поемкости в три этапа; замочка, механическа  очистка и очистка под действием ультразвукового пол , а ополаскивание осуществл ют путем подачи свежего моющего раствора на каждом этапе промывки.
    2. Способ по п. 1, отличающийс  тем, что области воздействи  на издели  в каждой зоне промывки ограничивают воздушными щиберами, а подачу жидкости осуществл ют ниже свободного уровн  жидкости в зоне промывки.
    npOMb/SffU
    Зпгруз- ка
    1зона fJpo t:/S- . но Sod- ымрос-
    Шзоно npoMb/S- кадеио- низоёан- нойводЛ
    Сушха
    Разг- ffi/jm
SU874194125A 1987-02-13 1987-02-13 Способ очистки изделий SU1496844A1 (ru)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SU874194125A SU1496844A1 (ru) 1987-02-13 1987-02-13 Способ очистки изделий

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SU874194125A SU1496844A1 (ru) 1987-02-13 1987-02-13 Способ очистки изделий

Publications (1)

Publication Number Publication Date
SU1496844A1 true SU1496844A1 (ru) 1989-07-30

Family

ID=21285383

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
SU874194125A SU1496844A1 (ru) 1987-02-13 1987-02-13 Способ очистки изделий

Country Status (1)

Country Link
SU (1) SU1496844A1 (ru)

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
Авторское свидетельство СССР № 925431, кл. В 08 В 3/02, 1979. *

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4902350A (en) Method for rinsing, cleaning and drying silicon wafers
US6746544B2 (en) Apparatus for cleaning and drying substrates
TWI447799B (zh) 基板洗淨方法及基板洗淨裝置
ATE390706T1 (de) Prozess und vorrichtung zur behandlung eines arbeitsstücks, wie zum beispiel eines halbleiterwafers
CN110586568A (zh) 一种用于蓝宝石衬底片碳化硼研磨后的清洗方法
CN108831848A (zh) 一种半导体晶圆清洗干燥设备
JP3341727B2 (ja) ウエット装置
JPS6118958A (ja) 半導体装置用ガラスマスクの洗浄方法
SU1496844A1 (ru) Способ очистки изделий
TW200507955A (en) Cleaning and drying a substrate
JPH02250324A (ja) 半導体装置の製造方法およびそれに使用される洗浄装置
JP2000336494A (ja) 金属帯板の洗浄装置
CN114618821B (zh) 一种半导体原子层沉积设备用陶瓷产品洗净方法
KR19980050047U (ko) 웨이퍼 세척 장치
JPH11169802A (ja) 電子部品洗浄方法および電子部品洗浄装置
JP2982885B2 (ja) 洗浄処理装置および該処理装置を用いる洗浄処理方法
KR100869221B1 (ko) 물방울 제거용 히팅 시스템이 구비된 세정장치
JPH0336729A (ja) 乾燥方法及びその乾燥装置
JPS6260225A (ja) シリコンウエハの洗浄方法
JP2000153240A (ja) 電子部品洗浄方法および電子部品洗浄装置
KR19990005888A (ko) 웨이퍼 세정방법
SU1074617A1 (ru) Устройство дл двусторонней очистки изделий
JPS61121336A (ja) ウエハ−の処理方法
JPH05326488A (ja) 半導体基板エッチング処理装置および方法
JPH04179228A (ja) 精密洗浄の乾燥方法