SU1458032A1 - Installation for cleaning articles - Google Patents

Installation for cleaning articles Download PDF

Info

Publication number
SU1458032A1
SU1458032A1 SU874201099A SU4201099A SU1458032A1 SU 1458032 A1 SU1458032 A1 SU 1458032A1 SU 874201099 A SU874201099 A SU 874201099A SU 4201099 A SU4201099 A SU 4201099A SU 1458032 A1 SU1458032 A1 SU 1458032A1
Authority
SU
USSR - Soviet Union
Prior art keywords
conveyor
bath
washing liquid
products
cleaning
Prior art date
Application number
SU874201099A
Other languages
Russian (ru)
Inventor
Виктор Иринеевич Сорокин
Евгений Евгеньевич Винокуров
Николай Владимирович Сергеев
Виктор Ильич Охотников
Игорь Иванович Халявин
Александр Николаевич Назаров
Леонид Егорович Мягков
Original Assignee
Предприятие П/Я Р-6058
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Предприятие П/Я Р-6058 filed Critical Предприятие П/Я Р-6058
Priority to SU874201099A priority Critical patent/SU1458032A1/en
Application granted granted Critical
Publication of SU1458032A1 publication Critical patent/SU1458032A1/en

Links

Landscapes

  • Electric Connection Of Electric Components To Printed Circuits (AREA)
  • Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)

Abstract

Изобретение позвол ет повысить качество очистку и расширить технологические возможности при очистке различных изделий, в частности узлов печатного .монтажа с навесными злект рорадиоэлементами. Очистка указанных изделий осуществл етс  при движении изделий путем первоначальной отмочки жидкостью, переливающейс  из ванч ны по специальному водосливу, затем воздействием на издели  торцовьти вращающимис  щетками с последующим воздействием ультразвуковых колебаний и затем промывкой моющей жидкостью, переливающейс  из ванны по второму водосливу. Указанна  последователь- . ность обеспечиваетс  за счет расположени  ванны под держател ми изделий, снабжени  ее торцовыми приводными щетками, специальными водосливами, соединенными с ресиверами. 1 з.п. ф-лы, 4 ил. S (ЛThe invention makes it possible to improve the quality of cleaning and expand the technological capabilities when cleaning various products, in particular, assemblies of the printed assembly with hinged radio elements. These products are cleaned by moving the products by initially washing them with a liquid poured from a bath over a special weir, then exposing the products to a finger with rotating brushes followed by ultrasonic vibrations and then washing with a washing liquid poured from a bath over the second weir. The specified sequence. This is achieved by positioning the bath under the product holders, supplying it with end-drive brushes, special weirs connected to the receivers. 1 hp f-ly, 4 ill. S (l

Description

1one

Изобретение относитс  к области очистки различных изделий, а именно узлов печатного монтажа с навесными электрорадиозлементами радиозлектрон- ной аппаратуры j РЭА ; от остатков флюсов -носле пайки.The invention relates to the field of cleaning of various products, namely, printed wiring assemblies with mounted electrical radio elements of radio electronic equipment j REA; from flux residues due to soldering.

Целью изобретени   вл етс  повьппе- ние качества очистки и расширение технологических возможностей установки .The aim of the invention is to improve the quality of cleaning and expand the technological capabilities of the installation.

На фиг.1 изображена принципиальна  схема установки дл  очистки изделий; на фиг.2 - ванна ультразвуковой очистки; на фиг.З - сечение А-А на фиг.2; на фиг.4 - вид Б на фиг.З;Fig. 1 is a schematic diagram of an installation for cleaning products; figure 2 - bath ultrasonic cleaning; on fig.Z - section aa in figure 2; figure 4 - view B in fig.Z;

Установка дл  очистки изделий (см.фиг.1 и 2) имеет последовательно расположенные технологические позиции мойки, содержащие ультразвуковые ванны Ц2 и 3 с моющими жидкост ми и размещенные вдоль вертикально замкнутого двухконтурного конвейера 4 с рабочими ветв ми, позицию 5 сушки, позиции 6 загрузки и 7 выгрузки и дополнительный двухконтурный вертикально замкнутый конвейер 8 с паралт- лельными горизонтальными рабочими ветв ми, размещенный под основным конвейером ниже ультразвуковых ванн.The device for cleaning products (see Figures 1 and 2) has successively located technological washing positions containing ultrasonic baths C2 and 3 with washing liquids and placed along a vertically closed bypass conveyor 4 with working branches, drying position 5, loading position 6 and 7 unloadings and an additional double-circuit vertically closed conveyor 8 with parallel horizontal working branches, placed under the main conveyor below the ultrasonic baths.

Конвейеры 4 и 8 содержат по два вертикально замкнутых цепных контура 9, встроенных в направл ющих 10, которые смонтированы на общем основании , и держатель 11 изделий, установленный на обеих горизонтальных рабочих ветв х конвейера 4.Conveyors 4 and 8 each contain two vertically closed chain loops 9, embedded in guides 10, which are mounted on a common base, and a holder of 11 products mounted on both horizontal working legs of conveyor 4.

Кажда  из ванн 1-3 ультразвуковой обработки размещена между цепными . контурами 9 конвейера 4 и выполнена в виде трех камер: передней 12, средг- ней 13 и задней 14.Each bath 1-3 ultrasonic processing is placed between the chain. the contours 9 of the conveyor 4 and are made in the form of three chambers: the front 12, the middle 13 and the rear 14.

со юwith y

Держатель I 1 - изделий служит дл  перемещени  изделий (группы изделий) по конвейеру 4 через технологические позиции и возврата их по конвейеру 8.The I 1 - articles holder serves to transport the products (group of products) along the conveyor 4 through technological positions and return them along the conveyor 8.

Ванна делитс  на три камеры 12, 13 и 14 двум  водосливами 15, вьтол- ненными каждый в виде полой стенки с -наклонным лотком,, имеющей каналы 16 дл  подачи моющей жидкости в зоны Q обработки камеры 13 и служащей дл  образовани  порога при свободном -переливе жидкости в камеры 12 и 14. Канал 16 сверху .заканчиваетс  устьем 17, а снизу сообщаетс  с ресивером 15 18.The bath is divided into three chambers 12, 13 and 14 with two weirs 15, each formed in the form of a hollow wall with an inclined tray, having channels 16 for supplying washing liquid to the processing zones Q of camera 13 and serving as a threshold for free heating. fluids into chambers 12 and 14. Channel 16 is terminated from above by mouth 17, and from below communicates with receiver 15 18.

В дно средней камеры 13 встроены . последовательно активаторы, выполненные в виде блока торцовьпс щеток 19 и блока ультразвуковых пьезокерами- 20 ческих преобразователей 20, которые условно дел т камеры 13 на области механического и акустического воздействи . Плоскость обрабатьгааемых изделий 21 и рабоча  .плоскость тор- 25 цовых щеток 19 наход тс  выще усть  17 щелевых канапов 16, а рассто ние от излучающей поверхности блока УЗ- преобразователей 20 до плоскости обрабатьюаемых изделий 21 кратно ЗО длине полуволны ультразвуковых колебаний . Моюща  жидкость подаетс  через ресивер 18 в каналы 16 электронасосом 22 по магистрали 23 подвода моющей ..жидкости из блока подготовки моющей жидкости (не показан) соеди- с камерами 12 и 14 сливными патрубкнми 24.The bottom of the middle chamber 13 is embedded. successively activators made in the form of a block of face brushes 19 and a block of ultrasonic piezoceramic-20 transducers 20, which conditionally divide chambers 13 into areas of mechanical and acoustic action. The plane of the products to be processed 21 and the working plane of the end brushes 19 are located above the mouth of the slot 17 canals 16, and the distance from the radiating surface of the unit of ultrasonic transducers 20 to the plane of the products to be processed is 21 times the length of the half-wave of the ultrasonic vibrations. The washing liquid is supplied through the receiver 18 to the channels 16 by the electric pump 22 via the main line 23 supplying the washing liquid from the washing liquid preparation unit (not shown) to the chambers 12 and 14 with the drain nozzles 24.

Установка работает следующим образом .40The installation works as follows .40

Обрабатываемое изделие 21 (или группа изделий) в держателе 11 изделий после автоматизированной пайки электрорадиоэлементов ЭРЭ поступаетThe processed product 21 (or a group of products) in the holder of 11 products after automated soldering of radio electronic elements ERE comes in

водой с температурой 30±5 С в ванне 3. Ноюща  жидкость (ТМС, водопроводна  и деионизованна  вода) из блоков подготовки моющей жидкости насосами 22 через магистрали 23 подвода моюще жидкости подаетс  под давлением в ресиверы 18 дл  сглаживани  колебани давлени , а оттуда жидкость по щелевым каналам 16 водосливов 15 через усть  17, ширина каждого из которых равца максимальной щирине обрабатыва емого издели  21, поступает в камеры 13 ванн 1,2 и 3, посто нно их наполн  .water with a temperature of 30 ± 5 ° C in a bath 3. The fluid-carrying fluid (TMS, tap and de-ionized water) from the washing liquid preparation blocks by pumps 22 through lines 23 supplying washing liquid is pressurized to receivers 18 to smooth out pressure fluctuations, and from there fluid is slit The channels 16 of weirs 15 through the mouth 17, the width of each of which is equal to the maximum width of the processed product 21, enters the chambers 13 of the baths 1,2 and 3, constantly filling them.

Водослив 15 образует порог, способствующий задержке свободного пере лива моющей жидкости и превышению (при посто нном подпоре жидкости через устье 17) уровн  жидкости в зоне обработки над краем усть  17.Spillway 15 forms a threshold contributing to the delay of free pouring of washing liquid and the excess (at constant backwater of the liquid through the mouth 17) of the liquid level in the treatment area above the edge of the mouth 17.

При этом жидкости контролируетс  и регулируетс  таким об- разом, чтобы высота столба жидкости от усть  17 до зеркала жидкости составл ла h а„„н+ t + Ь, где - рассто ние от верхней плоскости подложки (платы) издели  21 до корпуса наиболее низкого электрорадиоэлемента ( мм); t - толщина подложки (платы) издели  (t 0,5-4 мм); b - величина зазора между устьем 17 и нижней плоскостью подложки (платы) издели  21 ( мм).In this case, the liquids are monitored and regulated so that the height of the liquid column from mouth 17 to the liquid mirror is h aa „n + t + b, where is the distance from the upper surface of the substrate (board) of the product 21 to the body of the lowest electrical radio elements (mm); t is the thickness of the substrate (board) of the product (t 0.5-4 mm); b is the size of the gap between the mouth 17 and the lower plane of the substrate (board) of the product 21 (mm).

Моюща  жидкость, переливающа с  через порог (водослив 15) , поступае в камеры 12 и 14 и через сливные па рубки 24 сливаетс  в блоки подготовки моющей жидкости дл  отсто , филь рации и рециркул ции. Установка мож обеспечиватьс  моющей жидкостью и централизовано с подключением к маг стральной раздаче.The washing liquid, which overflows through the threshold (weir 15), flows into chambers 12 and 14 and through drainage stations 24 is discharged into washing liquid preparation units for settling, filtration and recycling. The installation can be provided with a washing liquid and centralized with connection to the main distribution.

Установленный на конвейере 4 дерInstalled on the conveyor 4 der

на приемный участок рабочего конвейе- 45 жатель 11 с закрепленными в нем из- ра 4 позиции 6 загрузки. Непрерьгоно дели ми 21 с позиции 6 загрузки пеперемещаемый держатель 1.1 с изделием 21 последовательно проходит обработку (очистку) в ваннах i,2 и 3, затем сушитс  в блоке 5 сушки и вьщаетс  на позицию 7 разгрузки.to the receiving section of the working conveyor belt 11 with the 4 positions 6 of the load fixed in it. From the loading position 6, the transposed holder 1.1 with the product 21 is sequentially processed (cleaned) in the baths i, 2 and 3, then dried in the drying unit 5 and delivered to the discharge position 7.

Технологический процесс очистки остатков флюсов после пайки заключаетс  в последовательной обработке изделий 21 водньм раствором технического моющего средства (ТМС), нагретым до 50t5 C в ванне 1, водопровод-, ной водой с температурой не более в ванне 2 и деионизованнойThe technological process of cleaning flux residues after soldering consists in the sequential treatment of products 21 with a water solution of technical detergent (TMS) heated to 50t5 C in bath 1, tap water, water with a temperature no more than bath 2 and deionized

5050

5555

ремещаетс  в ультразвуковую ванну 1 проход  последовательно камеры 12, 13 и 14. Камеры 12 и 14 служат, кро ме того, дл  предотвращени  смешива ни  моющих жидкостей, выполн   роль тамбуров. В камере 13 последователь но воздействуют на изделие замочкой механической обработкой и акустичес ким полем.moves into the ultrasonic bath 1, the passage of the chambers 12, 13 and 14 in succession. The chambers 12 and 14 serve, in addition, to prevent mixing of the washing liquids, playing the role of vestibules. In chamber 13, the product is subsequently affected by a lock by machining and an acoustic field.

На первой позиции / предварительна  очистка) в камере 13 ванны происходит удаление флюсов и прочих заг р знений водным раствором ТМС за счAt the first position / pre-cleaning) in the chamber 13 of the bath, the fluxes and other contaminants are removed with an aqueous solution of TMS at a glance

водой с температурой 30±5 С в ванне 3. Ноюща  жидкость (ТМС, водопровод на  и деионизованна  вода) из блоков подготовки моющей жидкости насосами 22 через магистрали 23 подвода моющей жидкости подаетс  под давлением в ресиверы 18 дл  сглаживани  колебаний давлени , а оттуда жидкость по щелевым каналам 16 водосливов 15 через усть  17, ширина каждого из которых равца максимальной щирине обрабатываемого издели  21, поступает в камеры 13 ванн 1,2 и 3, посто нно их наполн  .water with a temperature of 30 ± 5 ° C in a bath 3. The fluid-carrying fluid (TMS, water supply system and deionized water) from the washing liquid preparation blocks by pumps 22 through highways 23 supplying washing liquid is fed under pressure to receivers 18 to smooth out pressure oscillations, and from there liquid slotted channels 16 weirs 15 through the mouth 17, the width of each of which is equal to the maximum width of the workpiece 21, enters the chambers 13 of the baths 1,2 and 3, constantly filling them.

Водослив 15 образует порог, способствующий задержке свободного перелива моющей жидкости и превышению (при посто нном подпоре жидкости через устье 17) уровн  жидкости в зоне обработки над краем усть  17.Spillway 15 forms a threshold contributing to the retention of the free overflow of washing liquid and the excess (at constant backwater of the liquid through the mouth 17) of the liquid level in the treatment area above the edge of the mouth 17.

При этом жидкости контролируетс  и регулируетс  таким об- разом, чтобы высота столба жидкости от усть  17 до зеркала жидкости составл ла h а„„н+ t + Ь, где - рассто ние от верхней плоскости подложки (платы) издели  21 до корпуса наиболее низкого электрорадиоэлемента ( мм); t - толщина подложки (платы) издели  (t 0,5-4 мм); b - величина зазора между устьем 17 и нижней плоскостью подложки (платы) издели  21 ( мм).In this case, the liquids are monitored and regulated so that the height of the liquid column from mouth 17 to the liquid mirror is h aa „n + t + b, where is the distance from the upper surface of the substrate (board) of the product 21 to the body of the lowest electrical radio elements (mm); t is the thickness of the substrate (board) of the product (t 0.5-4 mm); b is the size of the gap between the mouth 17 and the lower plane of the substrate (board) of the product 21 (mm).

Моюща  жидкость, переливающа с  через порог (водослив 15) , поступает в камеры 12 и 14 и через сливные патрубки 24 сливаетс  в блоки подготовки моющей жидкости дл  отсто , фильтрации и рециркул ции. Установка може обеспечиватьс  моющей жидкостью и централизовано с подключением к магистральной раздаче.The washing liquid overflowing through the threshold (weir 15) enters the chambers 12 and 14 and through the drain pipes 24 is discharged into the washing liquid preparation units for settling, filtering and recycling. The installation can be provided with a washing liquid and centralized with connection to the main distribution.

Установленный на конвейере 4 дер45 жатель 11 с закрепленными в нем из- дели ми 21 с позиции 6 загрузки пе50Mounted on the conveyor is 4 holder 45 with products 21 secured in it from position 6 of loading ne50

5555

ремещаетс  в ультразвуковую ванну 1, проход  последовательно камеры 12, 13 и 14. Камеры 12 и 14 служат, кроме того, дл  предотвращени  смешивани  моющих жидкостей, выполн   роль тамбуров. В камере 13 последовательно воздействуют на изделие замочкой, механической обработкой и акустическим полем.moves into the ultrasonic bath 1, the passage in succession of the chambers 12, 13 and 14. The chambers 12 and 14 also serve to prevent mixing of the washing liquids, which serve as vestibules. In the chamber 13, the product is successively applied to the product with a lock, machining and acoustic field.

На первой позиции / предварительна  очистка) в камере 13 ванны происходит удаление флюсов и прочих заг р знений водным раствором ТМС за счеAt the first position / pre-cleaning), in the chamber 13 of the bath, the fluxes and other contaminants are removed with an aqueous solution of TMS for

омылени  погруженных на глубину, равную a+t, поверхностей обрабатываемо го издели  2 и применени  физико-. механических активаторов, которыми  вл ютс  вращающиес  в различных направлени х торцовые щетки 19 (механическое воздействие), блок УЗ-пре- образователей 20 (акустическое воздействие ) и температурное вли ние нагретой .жидкости.Saponification immersed to a depth equal to a + t, the surfaces of the processed product 2 and the use of physical. mechanical activators, which are face-brushes 19 rotating in various directions (mechanical action), block of ultrasonic transducers 20 (acoustic action) and temperature effect of heated liquid.

Ни второй позиции (окончательна  очистка) в камере 13 ванны 2 осуще- ствл е тс  удаление остатков tMC иNeither the second position (final cleaning) in the chamber 13 of bath 2 is the removal of residues tMC and

10ten

составл ет 5:1. Последовательна  трехступенчата  (ТМС, водопроводна  и деионизованна  вода) ультразвукова  обработка гарантирует высокое качество очистки, при этом 80-90% флюсовых загр знений, наход щихс  на обращенной к У -излучател м поверхности (со стороны пайки)удал ютс  пр мым воздействием акустического пол , а 20-10% флюсовых загр знений , наход щихс  со стороны ЭРЭ, удал ютс  при ультразвуковом воздействии , составл юр ем 30-35% от пр моis 5: 1. Serial three-stage (TMS, tap and de-ionized water) ultrasonic treatment ensures high quality of cleaning, while 80-90% of the flux contaminants on the surface facing the Y-radiator are removed from the soldering side, and 20-10% of flux contaminants located on the ERE side are removed by ultrasound exposure, which is 30–35% of direct

предварительное ополаскивание обраба- is воздействи .pre-rinsing treatment is affected.

тываемых поверхностей водопроводной водой с использованием активаторов. Финишна  очистка изделий 21 происходит в камере 13 ванны 3 с использованием активаторов ..и реакции замещени  при обработке химически активной деионизованной водой дл  получени  необходимого качества очистки, характеризз щегос  высоким электрическим сопротивлением изол ции издели  РЭА. В каждой камере 13 ультразвуковых ванн 1,2 и 3 изделие 21 про ходит через три области: замочки, механического и акустического воздействи . В области замочки происходит смачивание погруженных в жидкость поверхностей , набухание флюса или других загр знений, разрушение св зей между фтшсом или остатками предыдущей моющей жидкости и очищаемыми поверхност ми и частичное удаление загр знений . В области механического воздействи  торцовыми щетками происходит полное разрушение св зей междуtaped water surfaces using activators. Finishing cleaning of products 21 takes place in chamber 13 of bath 3 using activators and replacement reactions during treatment with reactive deionized water to obtain the required cleaning quality, characterized by high electrical resistance of the insulation of the product CEA. In each chamber, 13 ultrasonic baths 1, 2 and 3, article 21 passes through three regions: locks, mechanical and acoustic effects. In the area of the closure, wetting of surfaces immersed in liquid occurs, swelling of flux or other contaminants, destruction of the bonds between fats or residues of the previous washing liquid and surfaces to be cleaned, and partial removal of contaminants. In the area of mechanical action by face brushes, complete destruction of the bonds between

2020

2525

30thirty

3535

Завершаетс  обработка сушкой изделий на позиции 5 сущки. Промытые и сухие издели  21 в держател х 11 изделий подаютс  конвейером на позицию 7 разгрузки , откуда они лифтовьм устройством перемещаютс  на дополнительный конвейер 8 дл  возврата держател  изделий, а издели  21 поступают в накопитель либо на следующую операцию.Processing by drying products at position 5 of the entity is completed. Washed and dry products 21 in the product holders 11 are conveyed to the unloading position 7, from where they are moved with an elevator device to an additional conveyor 8 to return the product holders, and the products 21 enter the hopper or the next operation.

Изобретение позвол ет использовать установку в комплексе оборудовани  в услови х гибких производственных систем, что существенно расшир ет ее технологические возможности, зна- чительно повысить качество очистки, которое обеспечиваетс  дифференциро - ванным воздействием на обрабатываемое изделие замочкой, механической обработкой и акустическим полем с применением последовательной трек- стадийной обработки различными моющими жидкост ми, очистка осуществл етс  в м гком (щaд o eм) режиме, легко очищаемой поверхностью и загр знени - 40 контролируемом, .и управл емом в ши- ми и их удаление при совместном вли - роком диапазоне. 11овьш1ение качества НИИ активной жидкости и скребующего и расширение технологических возмож- эффекта вращающихс  торцовых щеток костей обусловлено конструктивно и 19. Вращающиес  в противоположных направлени х торцовые щетки (не ме- 45 нее двух) обеспечивают многократное разнонаправленное воздействие щетины на все точки обращенной к щеткам поверхности,издели  21, не поврежда  при этом электрических проводников 50 печатной платы.The invention makes it possible to use the installation in the complex of equipment under the conditions of flexible production systems, which significantly expands its technological capabilities, significantly improving the quality of cleaning, which is provided by a differentiated impact on the workpiece by locking, machining and acoustic field using a sequential track. - stage processing with various washing liquids, cleaning is carried out in a soft (alternate) mode, easily cleaned and contaminated - 40 controlled, controlled and wired, and their removal with a joint influence range. The quality of scientific research institutes of active liquid and scrubbing and expansion of technological possibilities of rotating face brushes of bones is structurally determined and 19. Rotating in opposite directions of end brushes (not less than two) provide repeated multi-directional action of the bristles on all points of the surface facing the brushes product 21 without damaging the electrical conductors 50 of the printed circuit board.

Заключительна  стади  очистки в камере 13 ванн 1,2 и 3 осуществл етс  в области акустического пол , где предварительно очищенное изделие под- gg между контурами конвейера исключает вергаетс  вли нию акустических и гид- попадание загр знений с ветвей конв.е- равлических течений. При автомати- йера в зону очистки и допускает изго- зиррванной пайке соотношение флюса товление конвейера из некоррозионно- со стороны пайки и со стороны ЭРЭ. стойких материалов.The final cleaning stage in the chamber 13 of the baths 1,2 and 3 is carried out in the acoustic field, where the pre-cleaned product under the gg between the contours of the conveyor eliminates the influence of acoustic and hydraulic penetration of contaminants from the branches of convective currents. When the automatiser is in the cleaning zone and allows for manufactured soldering, the ratio of the fluxing of the conveyor from non-corrosive to the soldering side and to the ERE. resistant materials.

возможностью обработки изделий РЭА как с герметичными, так и с негерметичными элементами. Применение в качестве моющих жидкостей воды и водных растворов тоже положительно влй ет- на повышение качества и расширение технологических возможностей и, кроме того, ведет к существенной эконо-. мни светлых нефтепродуктов.the possibility of processing products of CEA with both hermetic and non-hermetic elements. The use of water and aqueous solutions as washing liquids is also positive for improving the quality and expanding technological capabilities and, in addition, leads to a significant cost. I think of light petroleum products.

Размещение ультразвуковых ваннUltrasonic bath placement

Установка исключает возможность повреждени  маркировки, защитных покрытий корпусов ЭРЭ и проводников печатной платы и по влени  скрытых дефектов в изделии.The installation eliminates the possibility of damage to the markings, protective coatings of the ERE enclosures and printed circuit board conductors, and the appearance of hidden defects in the product.

ФормулаFormula

изобретени the invention

Claims (2)

1 . Установка дл  очистки изделий, содержаща  ванну с ультразвуковыми преобразовател ми, заполненную моющей жидкостью, секцию сушки , конвейер с рабочими ветв ми, держатели изделий, -размещенные на рабочих ветв х конвейера, магистраль подвода моющей жидкости, отличающа с  тем, что, с целью повышени  качества очистки и расширени  технологических возможностей, ультразвукова  ванна снабжена по меньшей мере двум  торцовыми приводными щетками , двум  водосливами -и двум  реси верами, при этом ресиверы расположены под днищем ванны и сообщены сone . A device for cleaning products, containing a bath with ultrasonic transducers, filled with washing liquid, drying section, conveyor with working branches, product holders — placed on the working branches of the conveyor, the main line supplying washing liquid quality of cleaning and expansion of technological capabilities; the ultrasonic bath is equipped with at least two face brushes, two weirs, and two receivers, with the receivers located under the bottom of the bath and communicated 22 cftue.f 22 cftue.f 2 Г8 2 G8 г/г2 Тg / g2 T магистралью подвода моющей жидкости, а каждый из водосливов выполнен в виде наружного бокового относительно ванны канала с наклонным лотком , причем каждый канал сообщаетс  с соответствующим ресивером дл  обеспечени  истечени  моющей жидкости из ванны по наклонным лоткам, приa supply line for the washing liquid, and each of the weirs are made in the form of an external lateral channel relative to the bath with an inclined tray, each channel communicating with a corresponding receiver to ensure the outflow of washing liquid from the bath along the inclined trays, этом торцовые приводные щетки уста- новлены по ходу движени  конвейера перед ультразвуковыми преобразовател ми и их рабочие торцовые поверхности расположены выше верхнего срезаThis end drive brushes are installed in the direction of the conveyor in front of the ultrasonic transducers and their working end surfaces are located above the upper cut. ванны и водосливов,а ванна размещена между рабочими ветв ми конвейера под держател ми изделий.bathtubs and weirs, and the bathtub is located between the working branches of the conveyor under the product holders. 2. Установка по п.1, о тли- чающа с  тем, что она снабжена дополнительным двухконтурным замкнутым конвейером с параллельными горизонтальными рабочими ветв ми, причем дополнительный конвейер установлен под основным конвейером и ультразвуковыми ваннами.2. Installation according to claim 1, which is equipped with an additional dual-circuit closed conveyor with parallel horizontal working branches, with an additional conveyor installed under the main conveyor and ultrasonic baths. 2222 15 ГЗ - ГЗ 115 GZ - GZ 1 3 .3 (fJueA(fJueA АBUT 21 //21 // 77 ,Л1, L1 9 -709 -70
SU874201099A 1987-02-25 1987-02-25 Installation for cleaning articles SU1458032A1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SU874201099A SU1458032A1 (en) 1987-02-25 1987-02-25 Installation for cleaning articles

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SU874201099A SU1458032A1 (en) 1987-02-25 1987-02-25 Installation for cleaning articles

Publications (1)

Publication Number Publication Date
SU1458032A1 true SU1458032A1 (en) 1989-02-15

Family

ID=21288103

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
SU874201099A SU1458032A1 (en) 1987-02-25 1987-02-25 Installation for cleaning articles

Country Status (1)

Country Link
SU (1) SU1458032A1 (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6247198B1 (en) 1997-12-09 2001-06-19 Tdk Corporation Cleaning apparatus

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
Авторское свидетельство СССР № 417188, кл.В 08 В 3/12, 1972. *

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6247198B1 (en) 1997-12-09 2001-06-19 Tdk Corporation Cleaning apparatus

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2877820B2 (en) Method and apparatus for cleaning, rinsing and drying silicon wafers
US5333628A (en) Continuous ultrasonic cleaning apparatus
US4635666A (en) Batch cleaning apparatus
KR20100105688A (en) Method and device for treating silicon wafers
ATE35616T1 (en) METHOD AND APPARATUS FOR WASHING FLAT DISHES LIKE TRAYS AND PLATES.
US5865894A (en) Megasonic plating system
GB2334145A (en) Methods and apparatus for cleaning,rinsing and drying wafers
SU1458032A1 (en) Installation for cleaning articles
US4361605A (en) Apparatus used in surface treatment and a method of surface treatment using said apparatus
US5182882A (en) Heater cores having exposed surfaces burnished by wet blasting
JP3209403B2 (en) Wafer cleaning equipment
US6071373A (en) Chemical bath having a uniform etchant overflow
JP2002009033A (en) Washing device for semiconductor wafer
JP3038449B2 (en) Cleaning method and cleaning device
JP3004334U (en) Horizontal conveyor type continuous cleaning device
CN113477586A (en) Cleaning equipment with automatic feeding and discharging structure and cleaning method thereof
JPS6362599B2 (en)
KR20190071897A (en) Cleaning device of wafer polishing pad
JP2837725B2 (en) Liquid processing equipment for semiconductor wafers
JPH0513397A (en) Cleaning device
US6106690A (en) Electroplaner
JPS62156659A (en) Method and apparatus for cleaning
JPS57160131A (en) Washing cell
JPS6227860B2 (en)
KR100328258B1 (en) Wafer cleaning apparatus