SU1382874A1 - Раствор дл удалени покрытий на основе золота и серебра - Google Patents
Раствор дл удалени покрытий на основе золота и серебра Download PDFInfo
- Publication number
- SU1382874A1 SU1382874A1 SU853845986A SU3845986A SU1382874A1 SU 1382874 A1 SU1382874 A1 SU 1382874A1 SU 853845986 A SU853845986 A SU 853845986A SU 3845986 A SU3845986 A SU 3845986A SU 1382874 A1 SU1382874 A1 SU 1382874A1
- Authority
- SU
- USSR - Soviet Union
- Prior art keywords
- silver
- solution
- gold
- removal
- coatings
- Prior art date
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23F—NON-MECHANICAL REMOVAL OF METALLIC MATERIAL FROM SURFACE; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL; MULTI-STEP PROCESSES FOR SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL INVOLVING AT LEAST ONE PROCESS PROVIDED FOR IN CLASS C23 AND AT LEAST ONE PROCESS COVERED BY SUBCLASS C21D OR C22F OR CLASS C25
- C23F1/00—Etching metallic material by chemical means
- C23F1/10—Etching compositions
- C23F1/14—Aqueous compositions
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23F—NON-MECHANICAL REMOVAL OF METALLIC MATERIAL FROM SURFACE; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL; MULTI-STEP PROCESSES FOR SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL INVOLVING AT LEAST ONE PROCESS PROVIDED FOR IN CLASS C23 AND AT LEAST ONE PROCESS COVERED BY SUBCLASS C21D OR C22F OR CLASS C25
- C23F1/00—Etching metallic material by chemical means
- C23F1/44—Compositions for etching metallic material from a metallic material substrate of different composition
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- ing And Chemical Polishing (AREA)
- Electroplating Methods And Accessories (AREA)
Abstract
Изобретение относитс к гапьва- ностегин, в частности к удалению некачественных покрытий на основе золота и серебра, и может найти применение в. радиотехнической и электронной промышленности. Цель - повышение скорости удалени покрытий при исключении растравливани основы. Раствор содержит, г/л: йодистый калий 300 - 600; иод I50-250;.антрахинон 0,3-0,5.
Description
со
00 tsD
оо
1Г
20
25
Ч1382874
Изобретение относитс к гальваностегии j в частности к удалению некачественных покрытий на основе золота или серебра, и может найти применение при обработке драгоценных металлов .
Цель изобретени - повьппение скорости удалени покрытий при исключении растравливани основы.
Раствор готов т следующим образом.
Готов т раствор иодида кали , в котором раствор ют элементарный иод, после-чего добавл ют гидрохинон.
Введение элементарного иода в раствор иодида кали ведет к образованию полииодидов типа KIj, способных легко раствор ть зрлотые и серебр - ные покрыти е Однако при хранении раствора в течение более 3 сут в нем происходит самопроизвольное высаживание иода. Дл предотвращени этого в раствор ввод т атрахинон как буферную добавку. Введение антрахинона по- вышает длительность эксплуатации раствора более 6 нес.
Граничные значени концентрации йодистого кали , иода и антрахинона обусловлены следующим: при концентрации йодистого кали менее 300 г/л уменьшаетс растворш-юсть иода, что едет к перетраве основы или подсло основного материала.
Повьаление концентрации кали одистого (более 600 г/л) , значительна овьааает в зкость раствора „ что ухудает качество сн ти покрыти .
Концентрацию антрахинона в предеах 0,3-0(5 г/л выбирают исход из того, что при содержании, меньшем ем г/л г его стабилизирующие действи недостаточны, а при ксшцеитра- более ОвЗ г/л (в ciiny незначк- тельиого предела растворимости в вод- 5ых растворах) часть антрахинона моет находитьс в избытке и загр зн ть раствор микровзвес ми.
Удаление покрытий на основе золота и серебра ведут с никел кобальта,, титана, нержавеющей стали, меди и cs сплавов, покрытых никелем или кобальом I
Пример К Малогабаритные али из латуни (электрические контакg
л 10 н
. A
35 А
30
40
45 р
50
покр ти осуществл ют раствором следующего состава, г/л:
Йодистый калий 300 Элементарный иод JSO Антрахинон0,3
Процесс ведут при . Врем удалени покрыти 3 мин. Толщина покры- ти 3-4 мкм. Растравливание основы не наблюдают.
Пример 2. Удаление покрыти осуществл ют с деталей, покрытых Aji-Ag-Cu, толщиной 3-4 мкм в растворе , г/л;
Йодистый калий 450 Элементарный иод 200 Антрахинон0,4
Процесс ведут при 20°С. Врем удалени покрыти 3 мин. I
Визуально провер ют на полноту удалени покрыти . Следов покрыти не обнаружено, поверхность основы или подсло не подтравливалась.
Пример 3. Удаление покрыти осуществл ют с деталей, покрытых Au-Ni, в растворе, г/л:
Йодистый калий 600 Элементарный иод 250 Антрахинон0,5
Процесс ведут при 20 С. Толщина покрыти 3-4 мкм. Брем удалени покрыти 3 мин.
Пример 4« Удаление покрыти осуществл ют с деталей, покрытых АЙ-ВЪ, в растворес г/л: Йодистый калий
Элементарный иод Антрахинон
300; 450;
600
150} 200;
250
0,3; 0,4;
0,5
Процесс ведут при 20 С, Толщина покрыти 6-9 мкм. Врем удалени пок 45 рыти 2-3 мин.
Детали, с которых удал ют покрыти данными растворами, промывают и провер ют визуально на полноту (Удалени покрытий. При этом даже в глухих отверсти х диаметром ма отсутствуют rjisjpj золота и серебра, а по- вархность основы или ПОДСЛОЕ остаетс без изкененик. Опытьз неоднократно
ты) с подслоем никел н покрытые тол- gg повтор ют и на детал х, закрепленных щиной 3-4 мкм покрытием в количестве на качающуюс штангу (30-60 качаний
50 дм загружают в винилпластовьй перфорированный колокол объемом 7 л при вращении 15-30 об/мин удаление
в I мкн), Результаты такие ке как и при удалении золотык и серебр ник, покрытий, загружгемых в колокол.
313828744
Claims (1)
- Пример 5, Удаление золотыхФормула изобретени и серебр ных покрытий ведут из известного раствора, содержащего, г/л: Раствор дл удалени покрытий наКалий цианистый 25 госнове золота и серебра, содержащийЛимеда УЗП-1 70калиевую соль, отличающийТемпература раствора . Тол-с тем, что, с целью повышени ско- щина покрыти 3-4 мкм. Скорость уда- рости удалени нокрытий при исклюлени покрытий, мкм/мин; серебр ныхчении растравливани основы, он до0 ,1; золотых 0,5. )ополнительно содержит иод и антрахи; Как видно из примеров 1-5, предла-нон, а в качестве калиевой соли гаемый раствор позвсш ет удал ть сйодистый калий при следующем содержавысокой скоростью некачественные пок-нии компонентов, г/л: рыти на основе золота или серебра Йодистый калий 300-600 без растравливани основы. Раствор 15 Иод 150-250обладает высокой Стабильностью.Антрахинон0,3-0,5
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
SU853845986A SU1382874A1 (ru) | 1985-01-15 | 1985-01-15 | Раствор дл удалени покрытий на основе золота и серебра |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
SU853845986A SU1382874A1 (ru) | 1985-01-15 | 1985-01-15 | Раствор дл удалени покрытий на основе золота и серебра |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
SU1382874A1 true SU1382874A1 (ru) | 1988-03-23 |
Family
ID=21159379
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
SU853845986A SU1382874A1 (ru) | 1985-01-15 | 1985-01-15 | Раствор дл удалени покрытий на основе золота и серебра |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
SU (1) | SU1382874A1 (ru) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP1431418A1 (de) * | 2002-12-19 | 2004-06-23 | Wieland Dental + Technik GmbH & Co. KG | Verfahren zum Entfernen silberhaltiger Leitmaterialien von galvanisch hergestellten Teilen |
RU2743195C1 (ru) * | 2019-09-05 | 2021-02-16 | Акционерное общество "Иркутский научно-исследовательский институт благородных и редких металлов и алмазов" АО "Иргиредмет" | Способ обеззолачивания и регенерации катодов |
-
1985
- 1985-01-15 SU SU853845986A patent/SU1382874A1/ru active
Non-Patent Citations (1)
Title |
---|
Мельников П.С. Справочник по гальванопокрыти м в машиностроении. -И.: Машиностроение, 1979, с.173. Лнмеда УЗП-1. Республиканский стандарт ЛитССР 966-82. * |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP1431418A1 (de) * | 2002-12-19 | 2004-06-23 | Wieland Dental + Technik GmbH & Co. KG | Verfahren zum Entfernen silberhaltiger Leitmaterialien von galvanisch hergestellten Teilen |
RU2743195C1 (ru) * | 2019-09-05 | 2021-02-16 | Акционерное общество "Иркутский научно-исследовательский институт благородных и редких металлов и алмазов" АО "Иргиредмет" | Способ обеззолачивания и регенерации катодов |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN101838828B (zh) | 一种无氰镀金电镀液 | |
US2093406A (en) | Stripping or transferring platinum metals | |
SU1382874A1 (ru) | Раствор дл удалени покрытий на основе золота и серебра | |
US3935005A (en) | Composition and method for stripping gold and silver | |
US3622470A (en) | Continuous plating method | |
CA1211691A (en) | Thallium-containing composition for stripping palladium | |
US3274022A (en) | Palladium deposition | |
JP2553574B2 (ja) | 銀剥離液 | |
Pushpavanam et al. | Rhodium—Electrodeposition and applications | |
US4048023A (en) | Electrodeposition of gold-palladium alloys | |
JP4992434B2 (ja) | 金メッキ液および金メッキ方法 | |
JP4401550B2 (ja) | パラジウム又はパラジウム化合物の溶解処理方法 | |
JPS6320489A (ja) | めつきの剥離方法 | |
EP0221359B1 (en) | A process for accelerating pd/sn seeds for electroless copper plating | |
US3859149A (en) | Method for etching aluminium alloys | |
US3582415A (en) | Method of etching cu with use of pb and sn layers as a mask | |
US4167240A (en) | Method of treating an electroplating solution comprising ions of gold and cyanide prior to electroplating and thermocompression bonding | |
US5380400A (en) | Chemical etchant for palladium | |
JP2008174796A (ja) | 金メッキ液および金メッキ方法 | |
JP3685276B2 (ja) | パラジウム・銀合金めっき浴 | |
KR950014641B1 (ko) | 팔라듐-니켈 합금의 도금을 위한 전기도금조 및 도금 방법 | |
JPH0146591B2 (ru) | ||
KR850000807B1 (ko) | 무전해 주석 도금액조성물 | |
SU1036812A1 (ru) | Способ предварительной обработки поверхности металлов перед амальгамированием | |
JP2851168B2 (ja) | すず・すず合金めっき材の製造方法 |