SU1173278A1 - Устройство дл исследовани структурного совершенства тонких приповерхностных слоев монокристаллов - Google Patents

Устройство дл исследовани структурного совершенства тонких приповерхностных слоев монокристаллов Download PDF

Info

Publication number
SU1173278A1
SU1173278A1 SU833668727A SU3668727A SU1173278A1 SU 1173278 A1 SU1173278 A1 SU 1173278A1 SU 833668727 A SU833668727 A SU 833668727A SU 3668727 A SU3668727 A SU 3668727A SU 1173278 A1 SU1173278 A1 SU 1173278A1
Authority
SU
USSR - Soviet Union
Prior art keywords
electrode
sample
detector
shaft
structural perfection
Prior art date
Application number
SU833668727A
Other languages
English (en)
Inventor
Александр Михайлович Афанасьев
Рафик Мамед Имамов
Энвер Хамзяевич Мухамеджанов
Конг Куи Ле
Юрий Николаевич Шилин
Анатолий Васильевич Челенков
Original Assignee
Институт Кристаллографии Им.А.В.Шубникова Ан Ссср
Специальное Конструкторское Бюро Института Кристаллографии Им.А.В.Шубникова
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Институт Кристаллографии Им.А.В.Шубникова Ан Ссср, Специальное Конструкторское Бюро Института Кристаллографии Им.А.В.Шубникова filed Critical Институт Кристаллографии Им.А.В.Шубникова Ан Ссср
Priority to SU833668727A priority Critical patent/SU1173278A1/ru
Application granted granted Critical
Publication of SU1173278A1 publication Critical patent/SU1173278A1/ru

Links

Landscapes

  • Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)

Abstract

УСТРОЙСТВО ДЛЯ ИССЛЕДОВАНИЯ СТРУКТУРНОГО СОВЕРШЕНСТВА ТОНКИХ ПРИПОВЕРХНОСТНЫХ СЛОЕВ МОНОКРИСТАЛЛОВ , содержащее источник рентгеновского излучени , кристалл-монохроматор , детектор дифрагированного излучени , детектор вторичной.эмиссии в виде газопроточной камеры, в которой расположены держатель образца и электрод, отличающеес  тем, что, с целью расширени  функциональных возможностей, держатель образца выполнен в виде установленной на валу рамки, на которой расположен электрод, при 3toM часть вала выведена из газопроточной камеры и снабжена устройством с дл  его вращени . zL/

Description

1. Изобретение относитьс  к аппаратуре дл  анализа тонких приповерхностных слоев монокристаллов методом регистрации вторичной эмиссии, возбуждаемой с помощью рентгеновского излучени , и может использоватьс  в технологии изготовлени  полупроводниковых приборов контрол  структурного совершенства монокристаллов на различных стади х обработки по верхности ионна  имплантаци , диффузи , эпитаксйальное наращивание и др . ) о Известно, устройство дл  исследова ни  монокристаллических слоев, содержащее источник рентгеновского излучени , кристалл-монохроматор, установленные в вакуумной камере держатель с исследуемым образцом и детектор вторичной эмиссии, детектор отраженного рентгеновского пучка. Коллимированный монохроматический рентгеновский пучок направл ют на образец в области углов, удовлетвор  ющих услови м дифракции в геометрии Брэгга, и регистрируют изменение выхода фотоэлектронной эмиссии в зависимости от угла падени  рентгеновско го пучка на кристалл lj . Наиболее близким к предлагаемому  вл етс  устройство дл  исследовани  структурного совершенства тонких приповерхностных слоев монокристаллов , содержащее источник рентгеновского излучени , кристалл-монохроматор , детектор дифрагированного излучени , детектор вторичной эмиссии в виде газопроточной камеры, в которой расположены держатель образца и электрод ZJ . В этом устройстве существует возможность измерени  угловой зависимости выхода вторичной эмиссии с по верхности образца в УСЛОВИЯХ симметричных схем брэгговской и лауэвской дифракции рентгеновских лучей. Недостатком указанного устройств  вл етс  узка  область применени , ограниченна  симметричными (классическими ) схемами брэгговской и ла эвской дифракции. Это св зано с неподвижньм закреплением образца отно сительно плоскости дифракции, а также с фиксированным относительно плоскости дифракции, а также с фиксированным относительно камеры расположением собирающего электрода. 782 В то же врем  существуют дифракционные . схемы как в геометрии Лауэ, так и в геометрии Брэгга, в которых падающим и дифрагированным образцом пучки образуют малые (0,5-5) углы с поверхностью кристалла. Измерени  угловых зависимостей выхода вторичной эмиссии в такИх дифракционных схемах открывают новые возможности в исследовани х структурного совершенства очень тонких приповерхностных , слоев монокристаллов. Целью изобретени   вл етс  расширение функциональных возможностей. Поставленна  цель достигаетс  тем, что в устройстве дл  исследовани  структурного совершенства тонких приповерхностных слоев монокристаллов , содержащей источник рентгеновского излучени , кристалл-монохроматор , детектор дифрагированного излучени , детектор вторичной эмиссии в В1аде газопроточной камеры, в которой расположены держатель образца и электрод, держатель образца выполнен в виде установленной на валу рамки, на которой расположен электрод, при этом часть вала выведена из газопроточной камеры и снабжена устройством дл  его вращени . На фиг.1 схематически изображено предлагаемое устройство , на фиг.2 детектор вторичных излучений. Устройство содержит источник излучени  1, коллиматорные щели 2, кристалл-монохроматор 3, детектор вторичной эмиссии 4, установленный на гониометрической головке главного гониометра 5, и детекторы прошедшего 6 и дифрагированного 7 излучений . Детектор вторичной эмиссии (фиг.2) представл ет собой цилиндрическую камеру 8 с крьшкой 9, внутри которой расположена рамка (держатель образца) 10 с образцом 11 и электродом 12, выполненным в виде тонкой нити. Рамка (держатель) 10 с образцом 11 и электродом 12 закреплена на валу 13, выведенном наружу и вращающемс  вокруг своей оси во втулке 14, обеспечивающей герметичность объема. Вал 13 выполнен полым дл  первоначальной рентгеновской юстировки кристалла (располовинивани ). Отсчет углов наклона рамки (держател ) 10 производитс  по лимбу 15. Камера .снабжена штуцером 16 дл  ввода и штуцером 17 дл 
3
вывода газовой смеси и имеет прозрачные дл  рентгеновских лучей окна 18. Положительный потенциал подаетс  на электрод 12 через разъем 19, Вторым электродом  вл етс  корпус камеры 8.
Устройство работает следующим образом .
Коллимированньй монохроматизированный рентгеновский пучок падает на образец 11, наход щийс  в положении , удовлетвор ющем дифракционным услови м в геометрии Лауэ.
При поглощении рентгеновских лучей в кристалле с поверхности последнего вылетают фотоэлектроны, ионизирующие атомы газовой смеси.
Благодар  положительному потенциалу все вторичные электроны ионизации собираютс  на электроде 12, что ведет к возникновению на нем импульсов напр жени , амплитуда которых пропорциональна энергии фотоэлектронов . Величина потенциала на электроде 12 выбираетс  такой, чтобы обеспечить работу детектора в режиме газового усили , т.е. в режиме пропорционального счетчика.
Это позвол ет получать энергетический спектр фотоэлектронов и обеспечивает высокую эффективность регистрации . Враща  вал 13 с рамкой 10 с образцом 11 (т.е. поворачива  образец 11 вокруг векторов обратной решетки), можно, сохран   услови  дифракции, измен ть угол между падаю цим рентгеновским пучком и поверхностью образца 11. Взаимное расположение электрода 12 и образца 11 при этом остаетс  посто нным, что очень важно при работе детектора в режиме пропорционального счетчика, например, дл  сохранени  коэффициента газового усили .
В случае, если отражающие ллоскости в Лауэ-геометрии составл ют с поверхностью образца угол, отлич732784
ный от 90 (асимметрична  схема Лауэ-дифракции), то поворотом образ ца вокруг вектора обратной решетки можно добитьс  того, что дифрагированный пучок будет выходить из образца через входную поверхность. Это позвол ет получать дифракцию в геометрии Брэгга при скольз щих углах падени  рентгеновских лучей. to При повороте гониометра с детектором и образцом вблизи точного угла дифракции регистрируетс  углова  зависимость выхода вторичной эмиссии с поверхности образца. Детекторы рентгеновского излучени  одновременно с этим фиксируют угловую зависимость прошедшего и дифрагированного лучей.
В качестве базового объекта выбрано устройство,  вл ющеес  прототипом предложенного устройства.
По сравнению с базовым объектом предложенное решение позвол ет расширить область исследовани  монокристаллов за счет использовани 
пшрокого класса методов, позвол ющих получать различные характеристики структурного совершенства тонких приповерхностных слоев кристаллов, 30 в то врем  как в базовом объекте возможность исследовани  тонких приповерхностных слоев кристаллов ограничена.
Таким образом, предлагаемое устроиство  вл етс  универсальным и
позвол ет проводить измерени  вторичной эмиссии в любых схемах дифракции по Лауэ и Брэггу при любых углах падени  рентгеновских лучей на образец, а также при дифракции в услови х полного внешнего отражени .
Реализаци  таких дифракционных схем позвол ет исследовать структуРУ очень тонких (менее 100 А) приповерхностных слоев монокристаллов.
(риг. 2

Claims (1)

  1. УСТРОЙСТВО ДЛЯ ИССЛЕДОВАНИЯ СТРУКТУРНОГО СОВЕРШЕНСТВА ТОНКИХ ПРИПОВЕРХНОСТНЫХ СЛОЕВ МОНОКРИСТАЛЛОВ, содержащее источник рентгеновского излучения, кристалл-монохроматор, детектор дифрагированного излучения, детектор вторичной.эмиссии в виде газопроточной камеры, в которой расположены держатель образца и электрод, отличающееся тем, что, с целью расширения функциональных возможностей, держатель образца выполнен в виде установленной на валу рамки, на которой расположен электрод, при эТом часть вала выведена из газопроточной камеры и снабжена устройством для его вращения.
    SU«> 1173278 .'1 173278
SU833668727A 1983-12-02 1983-12-02 Устройство дл исследовани структурного совершенства тонких приповерхностных слоев монокристаллов SU1173278A1 (ru)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SU833668727A SU1173278A1 (ru) 1983-12-02 1983-12-02 Устройство дл исследовани структурного совершенства тонких приповерхностных слоев монокристаллов

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SU833668727A SU1173278A1 (ru) 1983-12-02 1983-12-02 Устройство дл исследовани структурного совершенства тонких приповерхностных слоев монокристаллов

Publications (1)

Publication Number Publication Date
SU1173278A1 true SU1173278A1 (ru) 1985-08-15

Family

ID=21091435

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
SU833668727A SU1173278A1 (ru) 1983-12-02 1983-12-02 Устройство дл исследовани структурного совершенства тонких приповерхностных слоев монокристаллов

Country Status (1)

Country Link
SU (1) SU1173278A1 (ru)

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
1. Ковьев Э.К. и др. Спектрометр дл исследовани вторичных процессов в рентгеновской дифракции. П.Т.Э., 1981, № 5, с. 224. 2. Авторское свидетельство СССР № 800836, кл.. G 01 N 23/20, 1981 (прототип). СЕСОГОЗГГДЯ t ч if ..--. .. 13 ткч, П Т«- сСЙАЯ «НБлаатЕКА *

Similar Documents

Publication Publication Date Title
Bowen et al. High resolution X-ray diffractometry and topography
CA2088100C (en) Methods and apparatus for isotopic analysis
US5373544A (en) X-ray diffractometer
Alexandropoulos et al. Crystals for stellar spectrometers
SU1173278A1 (ru) Устройство дл исследовани структурного совершенства тонких приповерхностных слоев монокристаллов
CN117330594A (zh) 同步辐射x射线多方法联用测量系统
Fukamachi et al. Measurements of integrated intensity near the absorption edge with synchrotron radiation
US4426719A (en) Production of monochromatic x-ray images of x-ray sources and space resolving x-ray spectra
WO2015163792A1 (ru) Устройство для рентгенофлуоресцентного анализа материалов с формированием потока возбуждения плоским рентгеновским волноводом-резонатором
Long X-ray absorption microanalysis with fine-focus tubes
SU1226210A1 (ru) Устройство дл исследовани совершенства структуры монокристаллических слоев
SU800836A1 (ru) Устройство дл исследовани совер-шЕНСТВА СТРуКТуРы МОНОКРиСТАлли-чЕСКиХ СлОЕВ
Doyle et al. Efficient, high‐spectral‐resolution Bragg crystal x‐ray polarimeter
SU1704046A1 (ru) Узел регистрации вторичной эмиссии
CN220730091U (zh) 同步辐射x射线多方法联用测量系统
RU2370757C2 (ru) Устройство для исследования совершенства структуры монокристаллических слоев
SU543858A1 (ru) Устройство дл исследовани совершенства структуры кристаллов
SU1402873A1 (ru) Способ исследовани структурного совершенства монокристаллов
SU855457A1 (ru) Устройство дл исследовани структурного совершенства монокристаллов
Chwaszczewska et al. Application of semiconductor detectors in crystal structure investigations
SU442399A1 (ru) Рентгеновска приставка к электронному микроскопу
Afanasev et al. Double‐channel X‐ray standing wave technique
SU958932A1 (ru) Устройство дл рентгеноспектрального флуоресцентного анализа
SU1257484A1 (ru) Способ определени рассеивающей способности вещества
Afanasev et al. Photoemission curves obtained in conditions of X‐ray grazing‐incidence Laue diffraction from crystals with a disturbed surface layer