SU1142733A1 - Устройство дл автоматического контрол фотошаблонов - Google Patents
Устройство дл автоматического контрол фотошаблонов Download PDFInfo
- Publication number
- SU1142733A1 SU1142733A1 SU807771388A SU7771388A SU1142733A1 SU 1142733 A1 SU1142733 A1 SU 1142733A1 SU 807771388 A SU807771388 A SU 807771388A SU 7771388 A SU7771388 A SU 7771388A SU 1142733 A1 SU1142733 A1 SU 1142733A1
- Authority
- SU
- USSR - Soviet Union
- Prior art keywords
- photomask
- photosensors
- photo
- lines
- image
- Prior art date
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
- G03F1/68—Preparation processes not covered by groups G03F1/20 - G03F1/50
- G03F1/82—Auxiliary processes, e.g. cleaning or inspecting
- G03F1/84—Inspecting
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/84—Systems specially adapted for particular applications
- G01N21/88—Investigating the presence of flaws or contamination
- G01N21/95—Investigating the presence of flaws or contamination characterised by the material or shape of the object to be examined
- G01N21/956—Inspecting patterns on the surface of objects
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Biochemistry (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- Immunology (AREA)
- Pathology (AREA)
- Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
- Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
Description
iJ
%
IND
-ч|
00 00 Изобретение относитс к измерительной технике и может быть испол зовано при контроле фотошаблонов. Примен емые фотошаблоны подвергаютс износу, что приводит к выпу ку дефектных элементов. Поэтому дл технического контрол фотошаблонов важно иметь устройство, позвол юще быстро и безотказно обнаруживать влени износа и дефекты. С помощью метода контрольного осмотра фотошаблонов под микроскопом о состо нии фотошаблонов могут быть получены лишь статистические сведени . Известны различные методы фотоэлектронного технического контрол образцов фотошаблонов, основанные на применении голографии или согла сованных фильтров. Наиболее близким к изобретению по технической сущности вл етс устройство дл автоматического кон рол фотошаблонов, содержащее не менее чем один источник света, две линейки фотодатчиков дл распознавани дефектов фотошаблона, два не зависимых друг от друга объектива одинаковых оптических свойств дл проекции изображени фотошаблона н соответствующую линейку фотодатчик и приспособление дл передвижени фотошаблона в двух направл ющих, параллельных фотошаблону (см. прибор DKG 160 народного предпри ти ФЕБ Карл Цейсе Йена, который описан в Jenaer Rundschau 27, Janrgang, Heft 2/19.82, S. 83-86). В данном устройстве объективы и линейки фотодатчиков устанавливаютс на стандартное рассто ние между сопоставл емыми отдельными кадрами (за исключением остаточной ошибки). Остаточна ошибка, предст л юща собой механическую ошибку, неправильное положение отдельных кадров каждого фотошаблона вызывают при контроле фотошаблонов сигнал ошибки - псевдоошибку,что приводит к снижению точности контрол . Целью изобретени вл етс повы шение точности контрол путем устр нени псевдоошибок, возникающих при техническом контроле фотошаблонов из-за неправильного положени отдельных кадров фотошаблона и механической ошибки контрольного прибора. . Поставленна цель достигаетс тем, что устройство дл автоматического контрол фотошаблонов, содержащее не менее, чем один источник света, две линейки фотодатчиков дл распознавани дефектов фотошаблона, два независимых друг от друга объектива одинаковых оптических свойств дл проекции изображени фотошаблона на соответствующую линейку фотодатчика и приспособление дл передвижени фотошаблона в двух направлени х, параллельных фотошаблону, снабжено двум дополнительными линейками фотодат чиков, кажда из которых расположена пе1эед каждой основной линейкой фотодатчиков, двум светопропускающими плоскопараллельными пластинками , установленными между одним из объективов и соответствующими линейками фотодатчиков, кажда пластинка выполнена с возможностью поворота вокруг оси, расположенной перпендикул рно оптической оси устройства, и всей оси поворота. На фиг. 1 изображена принципиальна схема устройства дл автоматического контрол фотошаблонов; на фиг. 2 - две светопропускающие плоскопараллельные пластинки. Устройство состоит из источника 1 света, оптических элементов l дл расщеплени светового луча и наход щегос над ними исследуемого объекта фотошаблона 2. Над фотошаблоном 2 наход тс объективы 3 и 4. За объективами 3 и 4 следуют оптические элементы - призмы 5 и 6, а также зеркала 7 и 8 дл наведени ходов лучей 17 и 18 в тубусные системы 9 и 10. В ходе лучей 17 за тубусной системой 10 перед линейками 14 и 16 фотодатчиков расположены две светопропускающие плоскопараллельные пластинки 11 и 12. В ходе лучей 18 за тубусной системой 9 следуют линейки 13 и 14 фотодатчиков . С помощью источника 1 света и оптических элементов г дл ..расщепени светового луча происходит проекци определенной части двух отдельых кадров фотошаблона 2 в объективах 3 и 4. 1 Выход щий из объектива 3 луч 18 проецируетс призмой 5 и зеркалом 7на тубусную систему 9, освещающую линейку 13 фотодатчиков дл распознавани неправильньос; положений и линейку 15 фотодатчиков дл распознавани дефектов фотошаблона 2. Выход щий из объектива 4 луч 17 проецируетс призмой 6 и зеркалом 8на тубусную систему. 10. За тубусной системой 1О в ходе лучей 17 следуют две ппоскопараллельные плас тинки 11 и 12, причем плоскопараллельна пластинка 11 может поворачиватьс относительно оси X, а плоскопараллельна пластинка 12 относительно оси У плоскости X, У, Такш4 образом, обеспечиваетс возможность поправки части отдельного кадра фотошаблона 2 с помощью инфор мации о .неправильном положении этой части отдельного кадра фотошаблона 334 получаемой при помощи линейки 14 фотодатчиков. Откорректированные лучи 17 попадают на линейку 16 фотодатчиков дл распознавани дефектов фотошаблона 2. Компенсаци неправильного положени отдельных кадров фотошаблона 2 достигаетс на основании информации о неправильном положении отдельных кадров относительно координат X и У, получаемой в зависимости от структуры отдельных изображений с помощью строк двух дополнительных линеек фотодатчиков, а также системы плоскопараллельных пластинок, котора действует в качестве коррегирующего звена в пределах координат X и У плоскости изображени . Признано изобретением по результатам экспертизы, осуществленной Ведомством по изобретательству Германской Демократической республики.
(Риг.2
Claims (1)
- :(J7) УСТРОЙСТВО ДЛЯ АВТОМАТИЧЕСКОГО КОНТРОЛЯ ФОТОШАБЛОНОВ, со:^держащее не менее чем один источник света, две линейки фотодатчиков для распознавания дефектов фотошаблона, два независимых друг от друга объектива одинаковых оптических свойств для проекции изображенйя фотошаблона на соответствующую линейку фотодатчика и приспособление для передвижения фотошаблона в двух направлениях, параллельных фотошаблону, отличающееся тем, что оно снабжено двумя дополнительными линейками фотодатчиков, каждая из которых расположена перед каждой основной линейкой фотодатчиков,двумя светопропускающими плоскопараллельными пластинами, установленными между одним из объективов и соответствующими линейками фотодатчиков, каждая пластинка выполнена с возможностью поворота вокруг оси, располо- 5. женной перпендикулярно оптической оси устройства, и своей оси поворота.
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DD21623879A DD146500A1 (de) | 1979-10-16 | 1979-10-16 | Anordnung zur automatischen pruefung von photomasken |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
SU1142733A1 true SU1142733A1 (ru) | 1985-02-28 |
Family
ID=5520612
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
SU807771388A SU1142733A1 (ru) | 1979-10-16 | 1980-09-22 | Устройство дл автоматического контрол фотошаблонов |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS56142533A (ru) |
DD (1) | DD146500A1 (ru) |
DE (1) | DE3037467A1 (ru) |
FR (1) | FR2468100A1 (ru) |
GB (1) | GB2060876B (ru) |
SU (1) | SU1142733A1 (ru) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE3274015D1 (en) * | 1981-07-14 | 1986-12-04 | Hitachi Ltd | Pattern detection system |
JPS58204346A (ja) * | 1982-05-24 | 1983-11-29 | Nippon Jido Seigyo Kk | パタ−ンの欠陥検査装置 |
JP3069417B2 (ja) * | 1991-11-21 | 2000-07-24 | シャープ株式会社 | 位相シフトマスクの検査方法 |
WO2005026706A1 (en) * | 2003-09-04 | 2005-03-24 | Applied Materials Israel, Ltd. | Method for high efficiency multipass article inspection |
Family Cites Families (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5265671A (en) * | 1975-11-26 | 1977-05-31 | Nippon Jidoseigyo Ltd | Apparatus for testing defects in pattern |
JPS5419664A (en) * | 1977-07-15 | 1979-02-14 | Nippon Jidoseigyo Ltd | Device for inspecting fault of pattern |
-
1979
- 1979-10-16 DD DD21623879A patent/DD146500A1/de not_active IP Right Cessation
-
1980
- 1980-09-22 SU SU807771388A patent/SU1142733A1/ru active
- 1980-10-03 DE DE19803037467 patent/DE3037467A1/de not_active Withdrawn
- 1980-10-10 FR FR8021700A patent/FR2468100A1/fr active Granted
- 1980-10-16 JP JP14373880A patent/JPS56142533A/ja active Pending
- 1980-10-16 GB GB8033396A patent/GB2060876B/en not_active Expired
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DD146500A1 (de) | 1981-02-11 |
GB2060876A (en) | 1981-05-07 |
DE3037467A1 (de) | 1981-04-30 |
GB2060876B (en) | 1983-12-21 |
JPS56142533A (en) | 1981-11-06 |
FR2468100A1 (fr) | 1981-04-30 |
FR2468100B1 (ru) | 1984-02-24 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US4247203A (en) | Automatic photomask inspection system and apparatus | |
BRPI0711890A2 (pt) | método para determinação do ángulo de divergência entre uma imagem primária e uma imagem secundária gerada por uma vidraça, programa de computador, e método para determinação de um ángulo de divergência entre uma imagem primária e uma imagem secundária gerada por uma vidraça | |
CN110662020B (zh) | 一种基于自准直原理的传函测试系统及方法 | |
US4747689A (en) | Optical measurement apparatus | |
SU1142733A1 (ru) | Устройство дл автоматического контрол фотошаблонов | |
US3361025A (en) | Method and apparatus of detecting flaws in transparent bodies | |
US4359282A (en) | Optical measuring method and apparatus | |
CN111220095B (zh) | 一种用于高精度检测发散光束光轴垂直度的方法及装置 | |
EP0019941B1 (en) | Reduction projection aligner system | |
US5059023A (en) | Angular deviation measurement system | |
US4808001A (en) | Optical inspection system for cylindrical objects | |
AU606679B2 (en) | Optical inspection system for cylindrical objects | |
CN219957320U (zh) | 一种辅助调节装置及光学检测设备 | |
SU1758423A1 (ru) | Интерференционное устройство дл контрол линз | |
RU2078305C1 (ru) | Интерференционный способ контроля геометрического расположения линз и интерференционное устройство для его осуществления | |
CN212378715U (zh) | 测角仪 | |
SU1721436A1 (ru) | Устройство дл контрол углов призм | |
JPH0411422Y2 (ru) | ||
CA1293309C (en) | Optical inspection system for cylindrical objects | |
JPH0519297B2 (ru) | ||
SU1364865A1 (ru) | Устройство дл измерени пол отклонений от плоскостности поверхности твердого тела | |
CN115406905A (zh) | 缺陷检测装置及缺陷检测的校正方法 | |
JP2534699B2 (ja) | マスク/レチクル処理装置における光軸方向位置補正方法 | |
CN116661166A (zh) | 一种平行度调节装置及光学检测设备 | |
CN117348184A (zh) | 一种光学系统调节装置及方法 |