SU1142733A1 - Устройство дл автоматического контрол фотошаблонов - Google Patents

Устройство дл автоматического контрол фотошаблонов Download PDF

Info

Publication number
SU1142733A1
SU1142733A1 SU807771388A SU7771388A SU1142733A1 SU 1142733 A1 SU1142733 A1 SU 1142733A1 SU 807771388 A SU807771388 A SU 807771388A SU 7771388 A SU7771388 A SU 7771388A SU 1142733 A1 SU1142733 A1 SU 1142733A1
Authority
SU
USSR - Soviet Union
Prior art keywords
photomask
photosensors
photo
lines
image
Prior art date
Application number
SU807771388A
Other languages
English (en)
Inventor
Дегенколбе Эберхард
Хейнце Манфред
Рамлов Карл
Шмидт Йерг
Original Assignee
Феб Карл-Цейсс Йена (Инопредприятие)
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Феб Карл-Цейсс Йена (Инопредприятие) filed Critical Феб Карл-Цейсс Йена (Инопредприятие)
Application granted granted Critical
Publication of SU1142733A1 publication Critical patent/SU1142733A1/ru

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F1/00Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
    • G03F1/68Preparation processes not covered by groups G03F1/20 - G03F1/50
    • G03F1/82Auxiliary processes, e.g. cleaning or inspecting
    • G03F1/84Inspecting
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/84Systems specially adapted for particular applications
    • G01N21/88Investigating the presence of flaws or contamination
    • G01N21/95Investigating the presence of flaws or contamination characterised by the material or shape of the object to be examined
    • G01N21/956Inspecting patterns on the surface of objects

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Biochemistry (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • Immunology (AREA)
  • Pathology (AREA)
  • Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
  • Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
  • Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
  • Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
  • Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)

Description

iJ
%
IND
-ч|
00 00 Изобретение относитс  к измерительной технике и может быть испол зовано при контроле фотошаблонов. Примен емые фотошаблоны подвергаютс  износу, что приводит к выпу ку дефектных элементов. Поэтому дл технического контрол  фотошаблонов важно иметь устройство, позвол юще быстро и безотказно обнаруживать  влени  износа и дефекты. С помощью метода контрольного осмотра фотошаблонов под микроскопом о состо нии фотошаблонов могут быть получены лишь статистические сведени . Известны различные методы фотоэлектронного технического контрол  образцов фотошаблонов, основанные на применении голографии или согла сованных фильтров. Наиболее близким к изобретению по технической сущности  вл етс  устройство дл  автоматического кон рол  фотошаблонов, содержащее не менее чем один источник света, две линейки фотодатчиков дл  распознавани  дефектов фотошаблона, два не зависимых друг от друга объектива одинаковых оптических свойств дл  проекции изображени  фотошаблона н соответствующую линейку фотодатчик и приспособление дл  передвижени  фотошаблона в двух направл ющих, параллельных фотошаблону (см. прибор DKG 160 народного предпри ти  ФЕБ Карл Цейсе Йена, который описан в Jenaer Rundschau 27, Janrgang, Heft 2/19.82, S. 83-86). В данном устройстве объективы и линейки фотодатчиков устанавливаютс  на стандартное рассто ние между сопоставл емыми отдельными кадрами (за исключением остаточной ошибки). Остаточна  ошибка, предст л юща  собой механическую ошибку, неправильное положение отдельных кадров каждого фотошаблона вызывают при контроле фотошаблонов сигнал ошибки - псевдоошибку,что приводит к снижению точности контрол . Целью изобретени   вл етс  повы шение точности контрол  путем устр нени  псевдоошибок, возникающих при техническом контроле фотошаблонов из-за неправильного положени  отдельных кадров фотошаблона и механической ошибки контрольного прибора. . Поставленна  цель достигаетс  тем, что устройство дл  автоматического контрол  фотошаблонов, содержащее не менее, чем один источник света, две линейки фотодатчиков дл  распознавани  дефектов фотошаблона, два независимых друг от друга объектива одинаковых оптических свойств дл  проекции изображени  фотошаблона на соответствующую линейку фотодатчика и приспособление дл  передвижени  фотошаблона в двух направлени х, параллельных фотошаблону, снабжено двум  дополнительными линейками фотодат чиков, кажда  из которых расположена пе1эед каждой основной линейкой фотодатчиков, двум  светопропускающими плоскопараллельными пластинками , установленными между одним из объективов и соответствующими линейками фотодатчиков, кажда  пластинка выполнена с возможностью поворота вокруг оси, расположенной перпендикул рно оптической оси устройства, и всей оси поворота. На фиг. 1 изображена принципиальна  схема устройства дл  автоматического контрол  фотошаблонов; на фиг. 2 - две светопропускающие плоскопараллельные пластинки. Устройство состоит из источника 1 света, оптических элементов l дл  расщеплени  светового луча и наход щегос  над ними исследуемого объекта фотошаблона 2. Над фотошаблоном 2 наход тс  объективы 3 и 4. За объективами 3 и 4 следуют оптические элементы - призмы 5 и 6, а также зеркала 7 и 8 дл  наведени  ходов лучей 17 и 18 в тубусные системы 9 и 10. В ходе лучей 17 за тубусной системой 10 перед линейками 14 и 16 фотодатчиков расположены две светопропускающие плоскопараллельные пластинки 11 и 12. В ходе лучей 18 за тубусной системой 9 следуют линейки 13 и 14 фотодатчиков . С помощью источника 1 света и оптических элементов г дл ..расщепени  светового луча происходит проекци  определенной части двух отдельых кадров фотошаблона 2 в объективах 3 и 4. 1 Выход щий из объектива 3 луч 18 проецируетс  призмой 5 и зеркалом 7на тубусную систему 9, освещающую линейку 13 фотодатчиков дл  распознавани  неправильньос; положений и линейку 15 фотодатчиков дл  распознавани  дефектов фотошаблона 2. Выход щий из объектива 4 луч 17 проецируетс  призмой 6 и зеркалом 8на тубусную систему. 10. За тубусной системой 1О в ходе лучей 17 следуют две ппоскопараллельные плас тинки 11 и 12, причем плоскопараллельна  пластинка 11 может поворачиватьс  относительно оси X, а плоскопараллельна  пластинка 12 относительно оси У плоскости X, У, Такш4 образом, обеспечиваетс  возможность поправки части отдельного кадра фотошаблона 2 с помощью инфор мации о .неправильном положении этой части отдельного кадра фотошаблона 334 получаемой при помощи линейки 14 фотодатчиков. Откорректированные лучи 17 попадают на линейку 16 фотодатчиков дл  распознавани  дефектов фотошаблона 2. Компенсаци  неправильного положени  отдельных кадров фотошаблона 2 достигаетс  на основании информации о неправильном положении отдельных кадров относительно координат X и У, получаемой в зависимости от структуры отдельных изображений с помощью строк двух дополнительных линеек фотодатчиков, а также системы плоскопараллельных пластинок, котора  действует в качестве коррегирующего звена в пределах координат X и У плоскости изображени . Признано изобретением по результатам экспертизы, осуществленной Ведомством по изобретательству Германской Демократической республики.
(Риг.2

Claims (1)

  1. :(J7) УСТРОЙСТВО ДЛЯ АВТОМАТИЧЕСКОГО КОНТРОЛЯ ФОТОШАБЛОНОВ, со:^держащее не менее чем один источник света, две линейки фотодатчиков для распознавания дефектов фотошаблона, два независимых друг от друга объектива одинаковых оптических свойств для проекции изображенйя фотошаблона на соответствующую линейку фотодатчика и приспособление для передвижения фотошаблона в двух направлениях, параллельных фотошаблону, отличающееся тем, что оно снабжено двумя дополнительными линейками фотодатчиков, каждая из которых расположена перед каждой основной линейкой фотодатчиков,двумя светопропускающими плоскопараллельными пластинами, установленными между одним из объективов и соответствующими линейками фотодатчиков, каждая пластинка выполнена с возможностью поворота вокруг оси, располо- 5. женной перпендикулярно оптической оси устройства, и своей оси поворота.
SU807771388A 1979-10-16 1980-09-22 Устройство дл автоматического контрол фотошаблонов SU1142733A1 (ru)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DD21623879A DD146500A1 (de) 1979-10-16 1979-10-16 Anordnung zur automatischen pruefung von photomasken

Publications (1)

Publication Number Publication Date
SU1142733A1 true SU1142733A1 (ru) 1985-02-28

Family

ID=5520612

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
SU807771388A SU1142733A1 (ru) 1979-10-16 1980-09-22 Устройство дл автоматического контрол фотошаблонов

Country Status (6)

Country Link
JP (1) JPS56142533A (ru)
DD (1) DD146500A1 (ru)
DE (1) DE3037467A1 (ru)
FR (1) FR2468100A1 (ru)
GB (1) GB2060876B (ru)
SU (1) SU1142733A1 (ru)

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3274015D1 (en) * 1981-07-14 1986-12-04 Hitachi Ltd Pattern detection system
JPS58204346A (ja) * 1982-05-24 1983-11-29 Nippon Jido Seigyo Kk パタ−ンの欠陥検査装置
JP3069417B2 (ja) * 1991-11-21 2000-07-24 シャープ株式会社 位相シフトマスクの検査方法
WO2005026706A1 (en) * 2003-09-04 2005-03-24 Applied Materials Israel, Ltd. Method for high efficiency multipass article inspection

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5265671A (en) * 1975-11-26 1977-05-31 Nippon Jidoseigyo Ltd Apparatus for testing defects in pattern
JPS5419664A (en) * 1977-07-15 1979-02-14 Nippon Jidoseigyo Ltd Device for inspecting fault of pattern

Also Published As

Publication number Publication date
DD146500A1 (de) 1981-02-11
GB2060876A (en) 1981-05-07
DE3037467A1 (de) 1981-04-30
GB2060876B (en) 1983-12-21
JPS56142533A (en) 1981-11-06
FR2468100A1 (fr) 1981-04-30
FR2468100B1 (ru) 1984-02-24

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4247203A (en) Automatic photomask inspection system and apparatus
BRPI0711890A2 (pt) método para determinação do ángulo de divergência entre uma imagem primária e uma imagem secundária gerada por uma vidraça, programa de computador, e método para determinação de um ángulo de divergência entre uma imagem primária e uma imagem secundária gerada por uma vidraça
CN110662020B (zh) 一种基于自准直原理的传函测试系统及方法
US4747689A (en) Optical measurement apparatus
SU1142733A1 (ru) Устройство дл автоматического контрол фотошаблонов
US3361025A (en) Method and apparatus of detecting flaws in transparent bodies
US4359282A (en) Optical measuring method and apparatus
CN111220095B (zh) 一种用于高精度检测发散光束光轴垂直度的方法及装置
EP0019941B1 (en) Reduction projection aligner system
US5059023A (en) Angular deviation measurement system
US4808001A (en) Optical inspection system for cylindrical objects
AU606679B2 (en) Optical inspection system for cylindrical objects
CN219957320U (zh) 一种辅助调节装置及光学检测设备
SU1758423A1 (ru) Интерференционное устройство дл контрол линз
RU2078305C1 (ru) Интерференционный способ контроля геометрического расположения линз и интерференционное устройство для его осуществления
CN212378715U (zh) 测角仪
SU1721436A1 (ru) Устройство дл контрол углов призм
JPH0411422Y2 (ru)
CA1293309C (en) Optical inspection system for cylindrical objects
JPH0519297B2 (ru)
SU1364865A1 (ru) Устройство дл измерени пол отклонений от плоскостности поверхности твердого тела
CN115406905A (zh) 缺陷检测装置及缺陷检测的校正方法
JP2534699B2 (ja) マスク/レチクル処理装置における光軸方向位置補正方法
CN116661166A (zh) 一种平行度调节装置及光学检测设备
CN117348184A (zh) 一种光学系统调节装置及方法