SU1089465A1 - Реактив дл химического травлени - Google Patents

Реактив дл химического травлени Download PDF

Info

Publication number
SU1089465A1
SU1089465A1 SU823514958A SU3514958A SU1089465A1 SU 1089465 A1 SU1089465 A1 SU 1089465A1 SU 823514958 A SU823514958 A SU 823514958A SU 3514958 A SU3514958 A SU 3514958A SU 1089465 A1 SU1089465 A1 SU 1089465A1
Authority
SU
USSR - Soviet Union
Prior art keywords
acid
reagent
vol
chemical etching
nitric
Prior art date
Application number
SU823514958A
Other languages
English (en)
Inventor
Зинаида Иосифовна Кочергина
Инна Анатольевна Алехова
Феликс Аронович Гимельфарб
Юрий Аркадьевич Клячко
Татьяна Александровна Ухорская
Original Assignee
Государственный ордена Октябрьской Революции научно-исследовательский и проектный институт редкометаллической промышленности
Всесоюзный Заочный Институт Пищевой Промышленности
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Государственный ордена Октябрьской Революции научно-исследовательский и проектный институт редкометаллической промышленности, Всесоюзный Заочный Институт Пищевой Промышленности filed Critical Государственный ордена Октябрьской Революции научно-исследовательский и проектный институт редкометаллической промышленности
Priority to SU823514958A priority Critical patent/SU1089465A1/ru
Application granted granted Critical
Publication of SU1089465A1 publication Critical patent/SU1089465A1/ru

Links

Landscapes

  • ing And Chemical Polishing (AREA)

Abstract

РЕАКТИВ ДЛЯ ХИМИЧЕСКОГО ТРАВЛЕНИЯ; содержаний азотную, фосфорную и уксусную кислоты, о тличающийс  тем, что, с целью вьивлени  микровключений размером менее 3 мкм, он дополнительно содержит плавиковую кислоту при следующем соотношении компонентов, об.%; Азотна  кисЛота (j 1,352 г/см) 4-6 Фосфорна  кислота (j 1,696 г/см) 18-22 Уксусна  кислота ( / 1,665 г/см) 60-70 Плавикова  кислота ( j 1, 126 г/см-3) Остальное

Description

о
00
Ф
О) СП 1089465 Изобретение относитс  к металлографии , в частности к химическим реактивам, предназначенным дл  травлени  шлифов с последующим исследованием их методом локального рентге- 5 носпёктрального анализа. Известен реактив til дп  химического травлени  шлифов ппфокого круга материалов, содержащий, ч: Азотна  кислота 5 Плавикова  кислота 3 Уксусна  кислота 3 Однако травитель обладает высокой скоростью травлени  поверхности (больше 20 { осм/мин), при обработке Г4атериапа в течение 1 мин зтим травителем снимаетс  толстый ( 20 мкм) поверхностный слой, а следовательно , и микровключени  размером менее 3 мкм, расположенные на поверхности , которые и должны подвергатьс  микроанализу. При обработке материала в зтом реактиве менее 1 мин не достигаетс  необходимого Дл  локального рентгеноспектрального метода качества поверхности. . Наиболее близким к предлагаемому  вл етс  реактив 23 дл  химического {фанлени , содержащий, мл: же ско вен го вы  мен в р фор тел сле об. реа кот Азотна  кислота 20 Сол на  кислота 20 Фосфорна  кислота 8 . Уксусна  кислота 40 Однако в известном реактиве такпроисходит травление с высокой ростью, что не позвол ет качестно подготовить ошиф дл  локальнорентгеноспектрального анализа. Цель изобретени  - возможность влени  микровключений размером ее 3 мкм. Дл  достижени  поставленной цели еактив, содержащий азотнуюj фосную и уксусную кислоты, дополниьно введена плавикова  кислота при дующем соотношении компонентов, %: Азотна  кислота ( j 1,352 г/смЪ Фосфорна  кислота ( j « 1,696 г/смЗ) Уксусна  кислота ( J 1,665 г/см) Плавикова  кислота ( j 1,126 г/см) Остальное Дл  опробовани  предлагаемого ктива готов т композиции, состав орых приведен в табл. 1. Т а б л и ц а 1
20 18 22 19 20 18 23 20
5 4 6 5 3 7 6 5
20
8
Остальное
11
Остальное
20
Опробованные составы предлагаемого реактива используют дл  вьшалеки  образцов меди, сурьмы, никел  и антимонида инди . При этом нерабочую поверхность образца покрывают химически стойким лаком. Рабочую поверхность образца, предварительно отшлифованную порошками М28 и Ml4 и алмазной пастой, погружают в реактив. Врем  травлени  при 18-22 С составл Скорость травлени , Реактив Медь Сурьма
1,6
3,0
Микровключенн  размером 3 мкм вы вл ютс 
23
80
Образуютс  нерастворимые продукты реакции
Таким образом, обработка исследуei ix образцов в предлагаемом реактиве позвол ет обнаружить микровключени  размером менее 3 мкм.Отклонение от указанных соотно- 50 шений компонентов приводит к резкому, изменению скорости травлени  или ухудшению поверхности образца, а именно: если количество азотной кислоты меньше 4 об.%, то включени  не 55 вы вл ютс , а если больше 6 об.%, то скорость травлени  становитс  ; больше 20 мкм/мин, что недопустимо;
ет 0,5-1 мин. При травлении образец слегка покачивают дл  лучшего контакта поверхности с реактивом, далее образец промывают дистиллированной водой и просушивают.
Результаты травлени  различных материалов в предлагаемом реактиве, в сопоставлении°с известным реактивом представлены в табл. 2.
Таблица 2
0,9
3.0
42
35
если количество плавиковой кислоты меньше, 8 об.%, то не раздел ютс  фазы матрица - включение, а если больше 12 об.%, то границы раздела фаз очень сильно растравливаютс , что делает невозможным дальнейший анализ} если количество уксусной кислоты меньше 60 об:%, то скорость травлени  резко возрастает, если больше 70 об.%, то, наоборот, сильно замедл етс  и дл  получени  необходимого качества поверхности и вы влени  микровключений требуетмкм/мин , материала I Никель I Антимонид инди 
i1089465
с  длительное врем  ( до 30 мин)/с  не все имеющиес  на поверхности если количество фосфорной кислотымикровключени , а если больше меньше 18 об.Х. то травление поверх-22 об.%, то скорость травлени  вознести идет неравномерно и вы вл ют-растает выше допустимой (3 мкм/мин)

Claims (1)

  1. РЕАКТИВ ДЛЯ ХИМИЧЕСКОГО ТРАВЛЕНИЯ,' содержаний азотную, фосфорную и уксусную кислоты, о тличающийся тем, что, с целью выявления микровключений раз мерой менее 3 мкм, он дополнительно содержит плавиковую кислоту при следующем соотношении компонентов, об. %:
    Азотная кисЛота (j- 1,352 г/см3) 4-6 Фосфорная кислота (j = 1,696 г/см3) 18-22 Уксусная кислота (J = 1,665 г/см3) 60-70 Плавиковая кислота ( j = Г,126 г/см3) Остальное
    >
    1089465 2
SU823514958A 1982-11-29 1982-11-29 Реактив дл химического травлени SU1089465A1 (ru)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SU823514958A SU1089465A1 (ru) 1982-11-29 1982-11-29 Реактив дл химического травлени

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SU823514958A SU1089465A1 (ru) 1982-11-29 1982-11-29 Реактив дл химического травлени

Publications (1)

Publication Number Publication Date
SU1089465A1 true SU1089465A1 (ru) 1984-04-30

Family

ID=21036878

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
SU823514958A SU1089465A1 (ru) 1982-11-29 1982-11-29 Реактив дл химического травлени

Country Status (1)

Country Link
SU (1) SU1089465A1 (ru)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1325697C (zh) * 2002-12-10 2007-07-11 关东化学株式会社 蚀刻液组合物及使用该蚀刻液组合物制造反射板的方法
CN103471897A (zh) * 2013-09-09 2013-12-25 河北科技大学 一种铝合金彩色金相着色方法
WO2016090063A1 (en) * 2014-12-02 2016-06-09 Texas Instruments Incorporated IMPROVED PROCESS FOR NiFe FLUXGATE DEVICE

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
1. Травление полупроводников. Пер. с англ. М., Мир, 1965, с. 313. 2. Коваленко B.C. Металлургические реактивы. Справочник, М., Металлурги , 1981, с. 64. .Г---- . *

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1325697C (zh) * 2002-12-10 2007-07-11 关东化学株式会社 蚀刻液组合物及使用该蚀刻液组合物制造反射板的方法
CN103471897A (zh) * 2013-09-09 2013-12-25 河北科技大学 一种铝合金彩色金相着色方法
CN103471897B (zh) * 2013-09-09 2015-06-17 河北科技大学 一种铝合金彩色金相着色方法
WO2016090063A1 (en) * 2014-12-02 2016-06-09 Texas Instruments Incorporated IMPROVED PROCESS FOR NiFe FLUXGATE DEVICE
US9840781B2 (en) 2014-12-02 2017-12-12 Texas Instruments Incorporated Process for NiFe fluxgate device
US10266950B2 (en) 2014-12-02 2019-04-23 Texas Instruments Incorporated Process for NiFe fluxgate device

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE69117958T2 (de) Elektrochemische biosensorstabilität
EP0932828B1 (de) Anordnung für gassensorelektroden
DE10359173B4 (de) Messvorrichtung mit mehreren auf einem Substrat angeordneten potentiometrischen Elektrodenpaaren
EP0587665B1 (en) Electro-analysis of liquids and sensing elements for use therein
US5830343A (en) Electrochemical analysis process
SU1089465A1 (ru) Реактив дл химического травлени
Ambrose et al. Characterization of photopolymerized decyl methacrylate as a membrane matrix for ion‐selective electrodes
DE3406773A1 (de) Vorrichtung und verfahren zur chemischen analyse
Osteryoung et al. Pulse voltammetric methods of analysis
WO1994028405A1 (en) Electrochemical metal analysis
US4797192A (en) Ion selective electrode apparatus with an earth electrode
EP0255328B1 (en) Improved sodium ion selective electrode and method of use
Fossdal et al. Polarographic determination of chloramphenicol
Wechter et al. Voltammaetric characterization of small platinum-iridium-based mercury film electrodes
Wang Anodic stripping voltammetry at graphite-epoxy microelectrodes for in vitro and in vivo measurements of trace metals
Smith et al. Direct Titration of Potassium with Tetraphenylborate. Amperometric Equivalence-Point Detection
Cookeas et al. Preconcentration of organic compounds at a diphenyl ether graphite paste electrode and determination of vanillin by adsorptive–extractive stripping voltammetry
Beňadiková et al. Polarographic determination of some nitro group-containing pesticides
DE69305978T2 (de) Verfahren und elektrodengerät zur analyse durch elektrochemisches abbeizen
EP0241991A2 (en) Field effect transistor having a membrane overlying the gate insulator
DE10323638B4 (de) Verfahren und Vorrichtung zur Entwicklung einer elektrochemischen Messanordnung
JP3449906B2 (ja) 電気化学的分析装置
JPH06249764A (ja) シリコンウェハ表面の金属汚染分析用標準試料の作製方法
Wang et al. Sensitive and selective voltammetric measurements of tricyclic antidepressants using lipid-coated electrodes
SU1100527A1 (ru) Реактив дл опробовани сплавов золота