SE540581C2 - Hard X-Ray Photoelectron Spectroscopy Apparatus - Google Patents

Hard X-Ray Photoelectron Spectroscopy Apparatus

Info

Publication number
SE540581C2
SE540581C2 SE1551639A SE1551639A SE540581C2 SE 540581 C2 SE540581 C2 SE 540581C2 SE 1551639 A SE1551639 A SE 1551639A SE 1551639 A SE1551639 A SE 1551639A SE 540581 C2 SE540581 C2 SE 540581C2
Authority
SE
Sweden
Prior art keywords
ray
sample
target
ray source
photoelectron spectroscopy
Prior art date
Application number
SE1551639A
Other languages
English (en)
Other versions
SE1551639A1 (sv
Inventor
Kobayashi Keisuke
Kobayashi Yoshiko
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Priority claimed from JP2015130414A external-priority patent/JP6501357B2/ja
Application filed filed Critical
Publication of SE1551639A1 publication Critical patent/SE1551639A1/sv
Publication of SE540581C2 publication Critical patent/SE540581C2/sv

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N23/00Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00
    • G01N23/22Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by measuring secondary emission from the material
    • G01N23/227Measuring photoelectric effect, e.g. photoelectron emission microscopy [PEEM]
    • G01N23/2273Measuring photoelectron spectrum, e.g. electron spectroscopy for chemical analysis [ESCA] or X-ray photoelectron spectroscopy [XPS]
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N23/00Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00
    • G01N23/22Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by measuring secondary emission from the material

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Biochemistry (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Immunology (AREA)
  • Pathology (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)

Claims (11)

PATENTKRAV
1. En robust apparat för röntgen fotoelektronspektroskopi innefattande, en röntgenkälla (3, 40), en analysator (6), en provmanipulator (2), en analyskammare (14), och vakuumevakueringssystem, där, i ett tredimensionellt utrymme som definieras av ett XYZ-koordinataxelsystem, ett plåtliknande prov (5) anordnas för att vara roterbar runt Z-axeln genom nämnda provmanipulator, nämnda röntgenkälla innefattar; en elektronkanon (3b) som accelererar och fokuserar elektroner vidare, ett mål (7), som bestrålas med elektronerna accelererade och fokuserade av nämnda fokuseringselektronkanon för att generera en röntgenstråle, ett monokromator-kristallaggregat (9, 9a, 9b), där kristallaggregatet uppfyller Bragg-villkoret för röntgendiffraktion i X-Y-plan för att diffraktera/reflektera och monokromatisera röntgenstrålarna som genereras i nämnda mål och extraherar endast karakteristiska röntgenstrålar, och å andra sidan, är positionen för elektronstrålebestrålning i målcentret av provets monokromator-kristallaggregatscentret anordnad i Rowland-cirkeln (C) för att minimera fokusavvikelse till provet, företrädesvis är positionen för elektronstrålebestrålning i nämnda mål och provets centret placerade på vardera av två fokuser i en ellips som kommer i kontakt med nämnda Rowlandcirkel i kristallernas centret, nämnda monokromator-kristallaggregat har en toroidformad yta i Z axiell riktning som erhållits genom att rotera nämnda ellips i kontakt med nämnda Rowland-cirkel runt en rät linje som förbinder positionen för elektronstrålebestrålning på nämnda mål och provets centret, och, ett vakuumkärl (3a) för installation av dessa komponenter, där monokromator-kristallaggregatet som används för monokromatisering med diffraktion och reflektion av röntgenkällan, är placerad i Rowland-cirkeln tillsammans med nämnda mål och nämnda prov för att uppfylla villkoret att den dispergerade röntgenstrålen fokuseras på ytan av provet med minimal avvikelse, där nämnda Rowland-cirkel är placerad att vara ortogonal mot provets ytan, varvid en axel hos analysatorn ska ligga inom ett vinkelintervall 90 ± 15 grader till röntgenstrålars infallningsriktningen, där provet är placerat så att röntgenstrålarna som är diffrakterade och reflekterade av reflektionsytan hos monokromator-kristallaggregatet, fokuserar på provets ytan och är snett infallande på ytan av nämnda prov, så att fläcken hos nämnda röntgenstrålar sträcker längs en linje i huvudsak parallell med X-axeln, och där en öppning av en slits (6S) som tillhandahålls vid ingången till analysatorn är anordnad parallellt med en riktning där röntgenstrålen sträcker sig långsträckt, där analyskammaren och röntgenkällan är integrerade, en analyskammardel och röntgenkällan är anordnade i en och samma struktur, vakuumområden av analyskammardelen och röntgenkällan är uppdelade av en skiljevägg, röntgenstrålarna är styrda genom ett röntgenfönster (13) anordnat vid skiljeväggen mot analyskammaren.
2. En robust apparat för röntgen fotoelektronspektroskopi enligt krav 1, där nämnda mål är ett Cr-mål.
3. En robust apparat för röntgen fotoelektronspektroskopi enligt krav 1 eller 2, där nämnda monokromator-kristallaggregat består av en typ av kristall vald från en grupp som består av joniska kristaller såsom LiF eller NaCl och halvledare såsom Ge, Si eller GaAs.
4. En robust apparat för röntgen fotoelektronspektroskopi enligt krav 1, där ett reflektionsplan för nämnda monokromator-kristallaggregat är ett Ge422-reflektionsplan eller ett Li222-reflektionsplan.
5. En robust apparat för röntgen fotoelektronspektroskopi enligt krav 1, där en elektron accelereras till 20-50 keV och fokuseras till ca 100 mikrometer eller mindre med nämnda elektronkanon.
6. En robust apparat för röntgen fotoelektronspektroskopi innefattande, en röntgenkälla (3, 40), en analysator (6), en provmanipulator (2), en analyskammare (14), och vaku u mevakueringssystem , där, i ett tredimensionellt utrymme som definieras av ett XYZ-koordinataxelsystem, ett plåtliknande prov (5) anordnas för att vara roterbar runt Z-axeln genom nämnda provmanipulator (2), där nämnda röntgenkälla innefattar en elektronkanon (3b) som accelererar och fokuserar elektroner, ett mål (7), som bestrålas med elektronerna accelererade och fokuserade av elektronkanonen för att alstra en röntgenstråle, ett monokromator-kristallaggregat (9, 9a, 9b), där kristallaggregatet uppfyller Bragg-villkoret för röntgendiffraktion i X-Y-plan för att diffraktera/reflektera och monokromatisera röntgenstrålarna som genereras i nämnda mål och extraherar endast karakteristiska röntgenstrålar, och å andra sidan, är positionen för elektronstrålebestrålning i målcentret av provets monokromator-kristallaggregatcentret anordnad i Rowland-cirkeln (C) för att minimera fokusavvikelse till provet, monokromatorkristallerna är placerade i en cirkel med en radie som är dubbelt så stor som den för Rowland-cirkeln i ett X-Y-plan, företrädesvis är positionen för elektronstrålebestrålning hos nämnda mål och provets centret placerade på vardera av två fokuser i en ellips som kommer i kontakt med nämnda Rowland-cirkel i monokromator kristallaggregatscentret, nämnda monokromator-kristallaggregat har en toroidformad yta i Z axiell riktning som erhållits genom att rotera nämnda ellips i kontakt med nämnda Rowland-cirkel runt en rät linje som förbinder positionen för elektronstrålebestrålning hos nämnda mål och provets centret, och, ett vakuumkärl (3a) för installation av dessa komponenter, där monokromator-kristallaggregatet som används för monokromatisering med diffraktion och reflektion av röntgenkällan, är placerad i Rowland-cirkeln tillsammans med nämnda mål och nämnda prov för att uppfylla villkoret att den dispergerade röntgenstrålen fokuseras på ytan av provet med minimal avvikelse, där nämnda Rowland-cirkel är placerad att vara ortogonal mot provets ytan, där en optisk axel hos nämnda analysator är placerad för att vara vinkelrät (i X axiell riktning) mot den infallande riktningen (i Y-axiell riktning) av röntgenstrålar eller inom ett område ±36 graders vinkel i ett X-Y-plan och inom ett område ±49 graders vinkel i ett X-Z-plan, där provet är placerat så att röntgenstrålarna som är diffrakterade och reflekterade av reflektionsytan hos monokromator kristallaggregatet, fokuserar på provets ytan och är snett infallande på ytan av nämnda prov, så att fläcken hos nämnda röntgenstråle sträcker sig längs en linje i huvudsak parallell med X-axel (väsentligt vinkelrätt mot X-axel), och där en öppning av en slits (6S) som tillhandahålls vid ingången till analysatorn är anordnad parallellt med en riktning där röntgenstrålfläcken sträcker sig långsträckt på provytan, där analyskammaren och röntgenkällan är integrerade, en analyskammardel och en röntgenkälldel är anordnade i en och samma struktur, vakuumområden av analyskammardelen och röntgenkälldelen är uppdelade av en skiljevägg, röntgenstrålarna är styrda genom ett röntgenfönster (13) anordnat vid skiljeväggen mot analyskammaren.
7. En robust apparat för röntgen fotoelektronspektroskopi enligt krav 6, där nämnda mål är ett Cr-mål.
8. En robust apparat för röntgen fotoelektronspektroskopi enligt krav 6 eller 7, där nämnda monokromator kristallaggregat består av en typ av kristall vald från en grupp som består av joniska kristaller såsom LiF eller NaCl och halvledare såsom Ge, Si eller GaAs.
9. En robust apparat för röntgen fotoelektronspektroskopi enligt krav 6, där ett reflektionsplan för nämnda monokromatorkristallaggregat är ett Ge422-reflektionsplan eller ett Li222-reflektionsplan.
10. En robust apparat för röntgen fotoelektronspektroskopi enligt krav 6, där en elektron accelereras till 20-50 keV och fokuseras till ca 100 mikrometer eller mindre med nämnda elektronkanon.
11. En robust apparat för röntgen fotoelektronspektroskopi enligt krav 10, där i nämnda röntgenkälla, är målet bestrålat av elektronkanonen en roterbar vattenkyld antikatod med höghastighet, och kan hålla storleken på ljuskällan små efter det att den genererade röntgenstrålen fångats från ytan vid hög vinkel.
SE1551639A 2015-05-08 2015-12-14 Hard X-Ray Photoelectron Spectroscopy Apparatus SE540581C2 (sv)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2015096104 2015-05-08
JP2015130414A JP6501357B2 (ja) 2015-05-08 2015-06-29 硬x線光電子分光装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
SE1551639A1 SE1551639A1 (sv) 2016-11-09
SE540581C2 true SE540581C2 (sv) 2018-10-02

Family

ID=55274708

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
SE1551639A SE540581C2 (sv) 2015-05-08 2015-12-14 Hard X-Ray Photoelectron Spectroscopy Apparatus

Country Status (5)

Country Link
US (2) US20160327499A1 (sv)
DE (1) DE102015225868A1 (sv)
GB (1) GB2538125B (sv)
PL (1) PL238735B1 (sv)
SE (1) SE540581C2 (sv)

Families Citing this family (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6640531B2 (ja) * 2015-11-02 2020-02-05 国立大学法人名古屋大学 電子が持つエネルギーの計測装置と計測方法
KR20200037733A (ko) 2018-10-01 2020-04-09 사이언타 오미크론 악티에볼라그 경질 x-선 광전자 분광 장치 및 시스템
SE544271C2 (en) * 2018-10-02 2022-03-22 Scienta Omicron Ab Hard X-ray photoelectron spectroscopy arrangement and system
US11002693B2 (en) * 2019-07-09 2021-05-11 Scienta Omicron Ab Hard X-ray photoelectron spectroscopy system
CN112630483B (zh) * 2020-11-26 2024-04-02 江阴力源电子有限公司 一种取样脚上附加有硬连接片的抗工频磁场影响的分流器
CN113030141A (zh) * 2021-02-26 2021-06-25 上海交通大学 一种用于真空腔的样品位置保持装置
CN113406133B (zh) * 2021-06-15 2023-03-21 上海科技大学 一种x射线自由电子激光单脉冲在线诊断能谱仪
CN114594121B (zh) * 2022-03-04 2022-11-29 南开大学 一种高通量xps设备、检测方法及应用

Family Cites Families (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH04198848A (ja) * 1990-11-29 1992-07-20 Jeol Ltd X線光電子分光装置
US5315113A (en) * 1992-09-29 1994-05-24 The Perkin-Elmer Corporation Scanning and high resolution x-ray photoelectron spectroscopy and imaging
GB9222135D0 (en) * 1992-10-21 1992-12-02 Fisons Ltd Electron spectrometer
US5280176A (en) * 1992-11-06 1994-01-18 The United States Of America As Represented By The Secretary Of Commerce X-ray photoelectron emission spectrometry system
US5602899A (en) * 1996-01-31 1997-02-11 Physical Electronics Inc. Anode assembly for generating x-rays and instrument with such anode assembly
JP4051427B2 (ja) * 1998-03-26 2008-02-27 独立行政法人産業技術総合研究所 光電子分光装置及び表面分析法
JP2002228609A (ja) * 2001-02-06 2002-08-14 Ricoh Co Ltd モノクロームx線光電子分光装置
KR20050043257A (ko) * 2003-11-05 2005-05-11 삼성전자주식회사 3차원 표면 분석 방법
KR20060088272A (ko) * 2005-02-01 2006-08-04 삼성전자주식회사 X-선 광전자 분광분석장치
GB2442485B (en) * 2006-10-03 2008-12-10 Thermo Electron Corp X-ray photoelectron spectroscopy analysis system for surface analysis and method therefor
JP5550082B2 (ja) * 2010-03-31 2014-07-16 独立行政法人物質・材料研究機構 X線照射装置および分析装置
GB2515468A (en) * 2013-05-24 2014-12-31 Torr Scient Ltd X-ray source
JP6362979B2 (ja) * 2013-09-27 2018-07-25 国立研究開発法人物質・材料研究機構 X線源及びこれを用いるx線照射装置並びにx線光電子分光装置

Also Published As

Publication number Publication date
SE1551639A1 (sv) 2016-11-09
US20160327499A1 (en) 2016-11-10
GB2538125A (en) 2016-11-09
GB201522029D0 (en) 2016-01-27
US20220291155A1 (en) 2022-09-15
DE102015225868A1 (de) 2016-11-10
GB2538125B (en) 2017-11-22
PL238735B1 (pl) 2021-09-27
PL417083A1 (pl) 2016-11-21

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US20220291155A1 (en) Hard x-ray photoelectron spectroscopy apparatus
US9823203B2 (en) X-ray surface analysis and measurement apparatus
US10578566B2 (en) X-ray emission spectrometer system
US9594036B2 (en) X-ray surface analysis and measurement apparatus
US9570265B1 (en) X-ray fluorescence system with high flux and high flux density
US10401309B2 (en) X-ray techniques using structured illumination
US5778039A (en) Method and apparatus for the detection of light elements on the surface of a semiconductor substrate using x-ray fluorescence (XRF)
US7206375B2 (en) Method and apparatus for implement XANES analysis
US20190088381A9 (en) X-ray illuminators with high flux and high flux density
CN110530907B (zh) X射线吸收测量系统
JP4278108B2 (ja) 超小角x線散乱測定装置
WO2016187623A1 (en) X-ray techniques using structured illumination
JP6501357B2 (ja) 硬x線光電子分光装置
WO2002025258A1 (en) Total-reflection x-ray fluorescence apparatus and method using a doubly-curved optic
US11686692B2 (en) High throughput 3D x-ray imaging system using a transmission x-ray source
US6577705B1 (en) Combinatorial material analysis using X-ray capillary optics
JP5684032B2 (ja) 荷電粒子線分析装置および分析方法
Maniguet et al. X-ray microanalysis: the state of the art of SDD detectors and WDS systems on scanning electron microscopes (SEM)
Klockenkämper Chemical Analysis. A series of monographs on Analytical Chemistry and its Applications
Tsuji et al. Characterization of x‐rays emerging from between reflector and sample carrier in reflector‐assisted TXRF analysis
JPH08220027A (ja) 蛍光x線分析装置
JP2002243671A (ja) X線フィルタ、及び蛍光x線分析装置
Vis et al. On the development of X-ray microprobes using synchrotron radiation
JP3755034B2 (ja) 全反射蛍光x線分析法およびその装置
MacDowell et al. Progress toward submicron hard x-ray imaging using elliptically bent mirrors and its applications