SE502384C2 - Förfarande för styckvis metallbeläggning av CD-skivor - Google Patents
Förfarande för styckvis metallbeläggning av CD-skivorInfo
- Publication number
- SE502384C2 SE502384C2 SE9100372A SE9100372A SE502384C2 SE 502384 C2 SE502384 C2 SE 502384C2 SE 9100372 A SE9100372 A SE 9100372A SE 9100372 A SE9100372 A SE 9100372A SE 502384 C2 SE502384 C2 SE 502384C2
- Authority
- SE
- Sweden
- Prior art keywords
- melt
- metal
- piece
- instance
- coated
- Prior art date
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/54—Controlling or regulating the coating process
- C23C14/542—Controlling the film thickness or evaporation rate
- C23C14/545—Controlling the film thickness or evaporation rate using measurement on deposited material
- C23C14/547—Controlling the film thickness or evaporation rate using measurement on deposited material using optical methods
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/24—Vacuum evaporation
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Description
10
15
20
25
30
502 384
2
marknad. Mot bakgrund härav har uppfmningen till uppgift att ge ett metalliseringsförfarande
för styckvis metallbeläggning av känsliga föremål såsom CD-skivor av PMMA med hjälp av
förångning av metall vid lågt tryck eller vakuum, som är snabbt och effektivt, och som kräver
ett minimum av plats och maskinutrustning.
Ovanstående uppgift har i enlighet med uppfinningen en förvånande enkel lösning, som
emellertid är helt i strid med de konventionella tankegångarna för förångning i synnerhet med
tanke på att den skall kunna användas för känsligare material. I enlighet med uppfinningen
placeras nämligen källan för metallånga och föremålet som skall bestrålas mycket nära var-
andra. Förångningshastigheten från en strålningskälla är beroende av temperaturen och en hög
temperatur krävs för att överhuvudtaget få någon märkbar förångning. Man kan därför knapp-
ast tänka sig att plaster och i synnerhet då inte värmekänsliga sådana, skulle kunna beläggas
på detta sätt eftersom de ju har en förhållandevis låg smältpunkt och även värmebelastningen
ökar med temperaturen och minskningen i avstånd. I synnerhet vad det gäller beläggandet av
så kallade CD-skivor och liknande där en mycket fin ytstruktur måste bibehållas är det enligt
den kända tekniken helt osannolikt att man skulle kunna placera strålningskällan så nära före-
målet som skall bestrålas utan att föremålet fördärvas. Det osannolika i uppñnningstanken är
emellertid skenbart eftersom det visat sig i praktiken att trots hög temperatur på för-
ångningskällan och ett kort avstånd till denna så kan exempelvis CD-skivor beläggas med ett
tillfredställande metallskikt. Förångningskällan görs stor, det vill säga med en yta mer eller
mindre motsvarande CD-skivan. Den stora ytan ger dessutom lång livslängd för förångnings-
källan och en jämn beläggning av exempelvis CD-skivor.
Förångningskällan kommer naturligtvis att stråla ut värme som i sin tur vänner upp det
föremål som skall metalliseras. Det har emellertid visat sig att metallbeläggningen på det fö-
remål som skall beläggas sker mycket snabbt (fåtal sekunder) och när metalliseringen är klar
så har fortfarande temperaturstegringen stannat vid ett måttligt värde, i praktiken uppmätt till
cirka 30”. Skälet härtill är inte endast att exponeringstiden kan hållas kort, utan när man efter-
forskar sannolika förklaringar till att uppfinningsförfarandet överhuvudtaget kan fungera så
ligger detta snarare i att när en förångningskälla såsom exempelvis smält aluminium väl blir
smält så erhålles en spegelblank smältyta. Det faktum att metallytan är spegelblank innebär
i sin tur att den blir en dålig värmeutstrâlare. Ett faktum är att smältans spegelblanka yta
endast har några få procent av den värmeutstrålning som eljest skulle föreligga. Till följd
härav blir således metallförångningen effektivare och snabbare än värmeutstrålningen. När
10
15
20
25
30
502 384
3
dessutom successivt den avsedda ytan belägges blir ju även denna blank och äterreflekterar
värrnestrålningen. I fallet med aluminium bidrar även den låga specifika emissionsfaktorn för
värmestrålning.
Genom att, i enlighet med en vidareutveckling av uppfmningen, använda en stor yta för
förángningssmältan kan i praktiken även dennas temperatur tillåtas vara lägre än vad som
annars skulle vara fallet för att åstadkomma avgivandet av en given erforderlig ångmängd per
tidsenhet. Även härigenom minskas värmebelastningen för det föremål som skall beläggas.
Med hjälp av uppfinningsförfarandet är det även möjligt att metallisera CD-skivor
tillverkade av polymetylmetaakrylat (PMMA) (plexiglas) eller andra plaster med låg smält-
punkt, detta eftersom värrnebelastningen blir sä pass liten att ytstrukturen ej riskerar att mju-
kas upp. Hitintills har man istället varit tvungen att använda polykarbonat (PC). Denna plast
är emellertid i sig inte idealisk med tanke på snabba forrnningsförfaranden och uppfinningen
medger därför en stor vinst ur praktiskt hänseende eftersom den medger användandet av de
lättare forrnbara PMMA plasterna. Dessa är dessutom mindre känsliga för repor vilket också
är av intresse just för optiska skivor, såsom CD-, video-, CD-ROM- skivor etc. Inte
oväsentligt är också att PMMA är påtagligt billigare än PC och har bättre optiska egenskaper
än PC. Det senare är särskilt viktigt vid analogt lagrad information som till exempel bilder
på videoskivor, men mindre viktigt vid ljudskivor med digital lagring av informationen,
varför man där kunnat använda så kallad sputtering samt (PC).
En indirekt effekt av uppfmningsförfarandet med det korta avståndet mellan förång-
ningskällan och beläggningsföremål blir att träffsäkerheten för den förångade metallen blir
stor eller spillet litet det vill säga man får ett mycket gott utnyttjande av metallen.
I enlighet med uppfinningstanken är det således möjligt att låta även förhållandevis tunna
plastföremâl med ty åtföljande låg värrneupptagningskapacitet under kort tid exponeras för
metallånga på nära avstånd till den metallångan avgivande metallsmältan. Avståndet kan
faktiskt tillåtas vara endast några få centimeter med en förångningskälla som har lika stor
eller t o m större yta än det föremål som skall metalliseras.
I en lämplig vidareutveckling av uppfinningsförfarandet kan säkerställas en från föremål
till föremål konstant och god beläggning genom att skikttjockleken mätes. Detta kan exempel-
vis ske genom att en fototransistor via en spegel mäter den värme eller ljusstrålning som
passerar från metallsmältan genom plastföremålet och ut på dess baksida. Med spegel-
användningen skyddas fototransistorn från metallbeläggning och spegeln fortsätter att fungera
10
15
20
25
30
502 384
4
som spegel även om den blir metallbelagd. Visserligen ändras dess reflektionsförhållanden
med tiden, men eftersom ett relativt mätande är tillräckligt för processens kontrollerande
respektive styrande är detta inget problem. Alternativt kan den mot beläggningsföremâlet
reflekterade värmeljusstrâlningen mätas men detta ger sannolikt en mindre mätnoggrannhet
och är besvärligare att anordna.
Till följd av de korta exponeringstidema är det möjligt att utföra uppfmningsförfarandet
som ett delsteg i en större fabrikationsprocess, där för säkerställandet av vakuum i metallise-
ringskarnmaren denna kan vara försedd med vakuumslussar på in- och utgångssida. För-
farandets realiserande underlättas även av att vakuum-kammaren kan vara liten och därigenom
snabbt kan evakueras.
Ytterligare fördelar och kännetecken på uppfinningen framgår närmare av nedanstående
beskrivning av ett utföringsexempel i anslutning till bifogade ritning. Härvid visar fig 1 sche-
matiskt en anläggning för metallisering av CD-skivor och ñg 2 mera i detalj för-
ângningskällan för metall i enlighet med uppfinningen.
Den i fig 1 visade metalliseringsanläggningen innefattar en första slusskammare 1, ett
förångningsrum 2 och en andra slusskammare 5. Till kamrarna 1, 2 och 5 är vardera anslutet
en vakuumpump 3 via vardera en ventil 4. Slusskamrarna 1 och 5 är i sina ytterändar för-
sedda med tätt tillslutbara lock 6 och mellan slusskamrarria 1 och 5 respektive metal-
liseringskammaren 2 är ventiler eller slussportar 7 anordnade.
Beläggningskammaren 2 är på undersidan försedd med en förángningsenhet för aluminium
i enlighet med fig 2. Denna enhet har betecknats med 8 och den är ansluten till en driv- och
styrenhet 9.
Vid användningen av anläggningen arbetar denna pâ så sätt att först införes en CD-skiva
i exempelvis den vänstra slusskammaren 1. Locket 6 tillslutes och luften evakueras med va-
kuumpumpen 3. När detta har skett öppnas ventilen eller slussporten 7 och CD-skivan förs
in i beläggningskammaren 2 ovanför föràngningskällan för aluminium. CD-skivan kvarblir
sedan i beläggningskammaren den korta tid som krävs för att en fullgod beläggning skall
erhållas. Därefter återförs CD-skivan till slusskammaren 1, ventilen 7 stänges och CD-skivan
kan tas ut via kammarens 1 lock 6. Kammaren 5 laddas på samma sätt som kammaren 1 med
CD-skivor och omväxlande belägges i beläggningskammaren 2 skivor från slusskammaren 1
respektive slusskammaren 5, varvid ventilema eller slussportarna 7 är stängda mot den
kammare som under tiden laddas.
10
15
20
25
30
502 384
5
Genom att skivor omväxlande matas från höger och vänster erhålles en stor pro-
duktionshastighet med lugnt och säkert hanterande av skivorna.
Naturligtvis kan en anordning av det ovan beskrivna slaget även anpassas för att fö-
remålen som skall beläggas hela tiden strömmar igenom i en och samma riktning stegvis.
Eftersom det i exemplet är fråga om CD-skivor, exempelvis av PMMA eller PC så har de
olika karnrama ett platt utseende. Om andra föremål exempelvis strålkastarreflektorer eller
dylikt skall beläggas får naturligtvis formen bli en amian.
Pumparna 3 som är anslutna till slusskamrarna 1 och 5 kan lämpligtvis vara tvåstegs ro-
tationsvingpumpar under det att pumpen som är ansluten till beläggningskammaren lämpligtvis
är en turbomolekylärpump.
Den i tig 2 visade förångningskällan för aluminium innefattar en degel 11 med smält
aluminium 12. Degeln vilar på en induktionsuppvärmare det vill säga spole 13, vilken även
är vattenkyld. Spolen 13 erhåller ström och kylning från drivenheten 14. Runt om är degeln
11 omgiven av en värmeisolering 15 och utanför denna av en kylskärm 16, vilken även snäc-
ker sig under större delen av degeln och in i induktionsvärmaren. Slutligen omges degel och
induktionsvärmare av en vakuuminneslutning 17. Ovanför smältan 12 av aluminium har strec-
kat inritats läget för en CD-skiva 18 när denna beläggs med aluminium. När beläggning sker
minskar den ljusvärxnestrålriing som kan detekteras av detektorn 19, bestående av en fo-
totransistor. Demia minskning detekteras av en styrenhet 20 som i sin tur styr drivenheten för
induktionsvärmaren så att en stabil beläggningshastighet erhålles för värmaren. Dessutom styr
styrenheten 20 framrnatningen av CD-skivorna 18. Detta sker på så sätt att när detektorn 19
noterat en tillräcklig sänkning av strålningen i förhållande till den strålningsnivå som erhålles
då ingen skiva finns på plats så är skivan fårdigbelagd och bortföres. På detta sätt kan mat-
ningstakten anpassas till beläggningshastigheten och en kontinuerlig tillräcklig men ej
överdriven beläggning för skivorna erhållas. Alternativt kan tiden hållas mer eller mindre
konstant (vilket underlättar för övriga produktionssteg) varvid istället beläggningstakten
påverkas genom att smältans temperatur styrs av den av fototransistom mätta belägg-
ningstjockleken.
Även ovanför degeln och aluminiumsmältan är en skärm 21 anordnad. Demia fungerar
dels som kylskärm dels som uppsamlare av aluminiumånga som ej fastnat på de avsedda fö-
remålen. Härigenom är det enkelt att genom byte av skärmen 21 hålla beläggningskammaren
ren från metallavlagringar som annars skulle kunna fungera som nedsmutsning.
10
15
20
25
30
502 384
6
Genom att beläggningen sker underifrån på CD-skivorna minskas risken för att damm och
liknande inneslutes, eftersom dammet hellre faller ner än upp.
Med den beskrivna anläggningen kan uppskattningsvis cirka 120.000 CD-skivor beläggas
under en tid av cirka 100 timmar. Tiden för att belägga en CD-skiva tillfredställande kan upp-
skattas till cirka 3 sekunder.
Det säger sig självt att förångningskällan enligt uppfinningen har betydligt längre
livslängd än Wolframtrådama i den kända tekniken och att uppfinningsförfarandet samt dess
strålningskälla lämpar sig betydligt bättre för industriellt utnyttjande än vad tidigare känd
teknik gör. Strålningskällan enligt uppfinningen som beskrivits ovan kräver emellertid ej
kontinuerlig drift utan kan slås av och på relativt snabbt. Detta kan ske genom att tem-
peraturen för smältan sänks. Genom en måttlig sänkning minskas nämligen förångningshas-
tigheten och aluminiumet blir kvar i smältan. När sedan förångning återigen skall ske höjs
temperaturen återigen till driftstemperaturen. Åstadkommandet av dessa temperturvariationer
går betydligt snabbare än ifall man skulle ner till total avstängning. Genom att smältan
befinner sig i vakuum kan den under förhållandevis lång tid hållas uppvärmd och flytande
men icke arbetande.
Starttiden från normal rumstempertur kan uppskattas till ungefär tjugo minuter, under det
att en förändring från drifttemperatur till en lägre vilotempertur är i storleksordningen tre
minuter och en återgång till drifttemperatur kan sedan ske på ungefär två minuter. Vid dessa
sänkningar respektive höjningar av temperaturen mellan drifttemperatur och beredskaps-
temperatur kan härvid förångad aluminium uppsamlas av en härför särskilt avsedd skärm.
Även om såsom ovan sagts förångningen och beläggningen sker i en evakuerad omgivning
så är det ingen katastrof om lite luft skulle råka komma in till förångníngskällan exempelvis
i samband med service eller till följd av bristande täthet. Vid de hitintills använda
förångningskällorna med Wolframtrådar etc. kan man däremot räkna med en så gott som full-
ständig förstöring av förångningskällorna om luft skulle råka komma in, med andra ord är
höjningen i driftsäkerhet stor.
Sammanfattningsvis möjliggör uppfinningen snabb kontinuerlig styckvis och ytvis
metallbeläggning med god och varaktig vidhäftning även på känsliga föremål av exempelvis
plaster med låg smält- och förångningstemperatur med, i förhållande till den kända tekniken,
en enkel och liten apparatur med stor driftsäkerhet och väsentligen reducerad kassationsrisk.
Uppfinningen kan även användas för metallisering av mindre känsliga material.
Claims (3)
1. Förfarande för styckvis metallbeläggning av känsliga föremål såsom CD-skivor av PMMA med hjälp av förångning av metall vid lågt tryck eller vakuum, kännetecknat av att föremålet som skall metalliseras under kort tid, några få sekunder, hålles tätt intill en med induktion uppvärmd strålningskälla för metallânga på ett avstånd från strålningskällan, vilket avstånd är i samma storleksordning som, eller mindre än dimensionerna hos den yta som skall beläggas, motsvarande några få centimetrar och att strålningskällan är stor, det vill säga med en yta mer eller mindre motsvarande föremålet som skall metalliseras.
2. Förfarande enligt krav 1, kännetecknat av att strålningskällan för metallånga utgöres av en metallsmälta av ett ämne med en låg värmeutstrâlningskoefficient, exempelvis aluminium eller aluminiumlegering.
3. Förfarande enligt något av kraven 1 eller 2, kännetecknat av att strålningskällan motsvarar eller utgör en spegelbild av beläggningsytans form.
Priority Applications (7)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
SE9100372A SE502384C2 (sv) | 1991-02-06 | 1991-02-06 | Förfarande för styckvis metallbeläggning av CD-skivor |
AU12550/92A AU1255092A (en) | 1991-02-06 | 1992-02-06 | Vapour deposition |
DE69216628T DE69216628T2 (de) | 1991-02-06 | 1992-02-06 | Dampfbeschichtung |
EP92904776A EP0604424B1 (en) | 1991-02-06 | 1992-02-06 | Vapour deposition |
JP4505108A JPH06505307A (ja) | 1991-02-06 | 1992-02-06 | 蒸着 |
PCT/SE1992/000070 WO1992013980A1 (en) | 1991-02-06 | 1992-02-06 | Vapour deposition |
US08/499,637 US5858456A (en) | 1991-02-06 | 1995-07-07 | Method for metal coating discrete objects by vapor deposition |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
SE9100372A SE502384C2 (sv) | 1991-02-06 | 1991-02-06 | Förfarande för styckvis metallbeläggning av CD-skivor |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
SE9100372D0 SE9100372D0 (sv) | 1991-02-06 |
SE9100372L SE9100372L (sv) | 1992-08-07 |
SE502384C2 true SE502384C2 (sv) | 1995-10-09 |
Family
ID=20381834
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
SE9100372A SE502384C2 (sv) | 1991-02-06 | 1991-02-06 | Förfarande för styckvis metallbeläggning av CD-skivor |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
EP (1) | EP0604424B1 (sv) |
JP (1) | JPH06505307A (sv) |
AU (1) | AU1255092A (sv) |
DE (1) | DE69216628T2 (sv) |
SE (1) | SE502384C2 (sv) |
WO (1) | WO1992013980A1 (sv) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN103849837B (zh) * | 2014-03-24 | 2016-02-10 | 四川虹视显示技术有限公司 | 一种蒸发源装置 |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE2821131C2 (de) * | 1978-05-13 | 1986-02-06 | Leybold-Heraeus GmbH, 5000 Köln | Vakuumbeschichtungsanlage mit einer Kondensat-Auffangeinrichtung |
US4406252A (en) * | 1980-12-29 | 1983-09-27 | Rockwell International Corporation | Inductive heating arrangement for evaporating thin film alloy onto a substrate |
GB8425917D0 (en) * | 1984-10-13 | 1984-11-21 | Metal Box Plc | Evaporating metal |
US4812101A (en) * | 1987-04-27 | 1989-03-14 | American Telephone And Telegraph Company, At&T Bell Laboratories | Method and apparatus for continuous throughput in a vacuum environment |
-
1991
- 1991-02-06 SE SE9100372A patent/SE502384C2/sv not_active IP Right Cessation
-
1992
- 1992-02-06 JP JP4505108A patent/JPH06505307A/ja active Pending
- 1992-02-06 WO PCT/SE1992/000070 patent/WO1992013980A1/en active IP Right Grant
- 1992-02-06 DE DE69216628T patent/DE69216628T2/de not_active Expired - Lifetime
- 1992-02-06 AU AU12550/92A patent/AU1255092A/en not_active Abandoned
- 1992-02-06 EP EP92904776A patent/EP0604424B1/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP0604424A1 (en) | 1994-07-06 |
JPH06505307A (ja) | 1994-06-16 |
SE9100372L (sv) | 1992-08-07 |
AU1255092A (en) | 1992-09-07 |
EP0604424B1 (en) | 1997-01-08 |
DE69216628D1 (de) | 1997-02-20 |
DE69216628T2 (de) | 1997-07-31 |
SE9100372D0 (sv) | 1991-02-06 |
WO1992013980A1 (en) | 1992-08-20 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
EP1297874B1 (en) | Method for determining temperature of evaporating liquid samples | |
KR100216542B1 (ko) | 펄스 레이저 증착장치용 멀티 타겟 구동장치 | |
JP2001209981A (ja) | 光ディスク基板成膜装置、光ディスク基板成膜方法、基板ホルダーの製造方法、基板ホルダー、光ディスクおよび相変化記録型光ディスク | |
CA2254650A1 (en) | Sputtering method and apparatus with optical monitoring | |
SE444873B (sv) | Informationsuppteckningselement samt sett att framstella detsamma | |
Matz et al. | A two magnetron sputter deposition chamber for in situ observation of thin film growth by synchrotron radiation scattering | |
SE502384C2 (sv) | Förfarande för styckvis metallbeläggning av CD-skivor | |
US20130008375A1 (en) | Palette modular device for collection and recovery of metals in thin film deposition equipment | |
JPH06171236A (ja) | 光記録媒体 | |
US9103032B2 (en) | Apparatus and method for forming thin films in solar cells | |
JP2889880B2 (ja) | 積層体、積層体に使用する化合物および積層体を備えた光情報キャリヤ | |
US5858456A (en) | Method for metal coating discrete objects by vapor deposition | |
JPS5815232A (ja) | 荷電ビ−ム露光装置 | |
US5092680A (en) | Device for measuring temperature of object in vacuum environment | |
JP2532274B2 (ja) | 光ディスク | |
KR100600880B1 (ko) | 진공 증착기 | |
US6792021B1 (en) | Near field light generating device | |
JP4989406B2 (ja) | パーティクル付着防止カバー、このパーティクル付着防止カバーを設けた蒸着装置及び蒸着方法 | |
JPS56119949A (en) | Production of medium for optical recording | |
JP3353944B2 (ja) | 光学部品の反射防止膜およびこの反射防止膜を形成した光学部品 | |
Maier-Komor et al. | An UHV box coater for VUV reflective coatings on mirror substrates of up to 95 cm in diameter | |
JPS5760545A (en) | Optical recording medium | |
SU1213360A1 (ru) | Термоиндикаторное покрытие дл контрол пространственной неоднородности теплового излучени | |
KAJIYA et al. | The effect of preparation condition on crystallization of the ZnS evaporated thin films | |
Czanderna et al. | Specularity and stability of silvered polymers |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
NUG | Patent has lapsed |