SE435436B - Tvapoligt overstromsskydd - Google Patents
Tvapoligt overstromsskyddInfo
- Publication number
- SE435436B SE435436B SE8300853A SE8300853A SE435436B SE 435436 B SE435436 B SE 435436B SE 8300853 A SE8300853 A SE 8300853A SE 8300853 A SE8300853 A SE 8300853A SE 435436 B SE435436 B SE 435436B
- Authority
- SE
- Sweden
- Prior art keywords
- thyristor
- layer
- base layer
- overcurrent protection
- current
- Prior art date
Links
- 230000004224 protection Effects 0.000 title claims description 27
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims description 7
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims description 4
- 230000000630 rising effect Effects 0.000 claims 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 3
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 3
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 3
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 2
- 230000002457 bidirectional effect Effects 0.000 description 2
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 2
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 2
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 2
- 238000005468 ion implantation Methods 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- ZXEYZECDXFPJRJ-UHFFFAOYSA-N $l^{3}-silane;platinum Chemical compound [SiH3].[Pt] ZXEYZECDXFPJRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical compound [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 1
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000005669 field effect Effects 0.000 description 1
- 238000002513 implantation Methods 0.000 description 1
- 230000002452 interceptive effect Effects 0.000 description 1
- 230000003071 parasitic effect Effects 0.000 description 1
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 1
- 229910021339 platinum silicide Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L29/00—Semiconductor devices specially adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching and having potential barriers; Capacitors or resistors having potential barriers, e.g. a PN-junction depletion layer or carrier concentration layer; Details of semiconductor bodies or of electrodes thereof ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/66—Types of semiconductor device ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/86—Types of semiconductor device ; Multistep manufacturing processes therefor controllable only by variation of the electric current supplied, or only the electric potential applied, to one or more of the electrodes carrying the current to be rectified, amplified, oscillated or switched
- H01L29/861—Diodes
- H01L29/87—Thyristor diodes, e.g. Shockley diodes, break-over diodes
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L27/00—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
- H01L27/02—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers
- H01L27/0203—Particular design considerations for integrated circuits
- H01L27/0248—Particular design considerations for integrated circuits for electrical or thermal protection, e.g. electrostatic discharge [ESD] protection
- H01L27/0251—Particular design considerations for integrated circuits for electrical or thermal protection, e.g. electrostatic discharge [ESD] protection for MOS devices
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L29/00—Semiconductor devices specially adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching and having potential barriers; Capacitors or resistors having potential barriers, e.g. a PN-junction depletion layer or carrier concentration layer; Details of semiconductor bodies or of electrodes thereof ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/66—Types of semiconductor device ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/68—Types of semiconductor device ; Multistep manufacturing processes therefor controllable by only the electric current supplied, or only the electric potential applied, to an electrode which does not carry the current to be rectified, amplified or switched
- H01L29/70—Bipolar devices
- H01L29/74—Thyristor-type devices, e.g. having four-zone regenerative action
- H01L29/744—Gate-turn-off devices
- H01L29/745—Gate-turn-off devices with turn-off by field effect
- H01L29/7455—Gate-turn-off devices with turn-off by field effect produced by an insulated gate structure
-
- H—ELECTRICITY
- H02—GENERATION; CONVERSION OR DISTRIBUTION OF ELECTRIC POWER
- H02H—EMERGENCY PROTECTIVE CIRCUIT ARRANGEMENTS
- H02H9/00—Emergency protective circuit arrangements for limiting excess current or voltage without disconnection
- H02H9/02—Emergency protective circuit arrangements for limiting excess current or voltage without disconnection responsive to excess current
- H02H9/025—Current limitation using field effect transistors
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Ceramic Engineering (AREA)
- Thyristors (AREA)
- Emergency Protection Circuit Devices (AREA)
Description
ázoosasz-z -2 a<~ 15 20 25 30 strömmen når spänningen på transistorns styre upp till transistorns tröskelspänning. Transistorn blir då ledande och kortsluter tyristorns katodemitterövergång, varvid tyristorn släcks och strömmen genom tyristorn bryts. Tyristorn förblir oledande till dess den påtryckta spänningen över tyristorn sänks till ett lågt värde, vilket t ex vid växelströmsdrift in- träffar i samband med nästföljande nollgenomgång hos spänningen.
Vid denna kända typ av överströmsskydd tillförs som nämnts ovan tyristorns styre tändström från anoden via ett med tyristorn integrerat motstånd. För att erhålla säker tändning av tyristorn vid låg blockspänning krävs att motståndets resistans ej är alltför hög. Ett tillräckligt lågt resistans- värde orsakar emellertid att en hög läckström flyter genom motståndet när tyristorn på grund av en överström har släckts och tyristorspänningen därför är hög.Denna läckström ger upphov till höga förluster i överströmsskyddet och till bristfällig isolation meülan den drivande spänningen och skydds- objektet. ' Uppfinningen avser att åstadkomma ett överströmsskydd av inledningsvis angivet slag, vid vilket en säker tändning av tyristorn erhålles vid låg blockspänning samtidigt som läckströmmen vid släckt tyristor begränsas och därmed låga förluster och god isolation erhålles. Uppfinningen avser vidare att åstadkomma ett överströmsskydd där tillverkningsförfarandet är enklare och där halvledarskivans area utnyttjas effektivare än vid tidigare kända anordningar.
Vad som kännetecknar ett överströmsskydd enligt uppfinningen framgår av bifogade patentkrav.
Uppfinningen skall i det följande beskrivas i anslutning till bifogade figurer 1 - 3.
Fig 1 visar ett snitt genom ett dubbelriktat överströmsskydd enligt upp- finningen. Fig 2 visar ett ekvivalent schema över överströmsskyddet och fig 3 visar i större skala en detalj ur fig 1. överströmsskyddet är utbildat i en kiselskiva med en N-ledande huvuddel 1.
I skivans i figuren övre yta är ett centralt P-ledande skikt 12 utbildat, vilket omges av ett P-ledande skikt 1U. I skivans undre yta år på samma sätt utbildade ett centralt P-ledande skikt 22 och ett omgivande P-ledande skikt Zü. I skikten 12 och 22 är kraftigt P-dopade områden 11 och 21 an- 15 20 25 30 35 TA! ordnade. Skikten 12 och 22 är anordnade i kontakt med skyddets anslut- ningskontakter A och B.
I skiktet 1§ är ett N+-ledande skikt 13 anordnad, vilket kontakteras av kontakten A.Skikten 11, 12, 1, 22, 21 utgör en PNP-transístor, som i fig 2 betecknas med TR. Skikten 21, 22, 1, 1H,13 utgör en tyristor som betecknas med TV i fig 2. I det följande skall uppbyggnaden av och funktionen hos det enkelriktade överströmsskydd beskrivas, som utgörs av kontakten B, skikten 21, 22 och 1 samt de vid skivans övre yta anordnade skikten och kontakterna, dvs transistorn TR och tyristorn TV med till den senare an- slutna komponenter för tändning och släckning av tyristorn.
För att erhålla ett dubbelriktat överströmsskydd är kiselskivans undre yta utformad på samma sätt som den övre ytan. Skikten och kontakterna har samma beteckningar som motsvarande enheter vid den övre ytan, men med "2" som första siffra i stället för "1" i fig 1 och 3 och med index "H" i stället för "V" i fig 2. Tyristorn TH i fig 2 utgörs sålunda av skikten 11, 12, 1, 2Ä, 23 och komponenterna för tändning och släckning av denna tyristor är anordnade vid skivans undre yta.
Nedan kommer funktionen hos tyristorn Tv och transistordelen TR att beskrivas.
Tyristorn T med sina på skivans i fig 2 undre yta anordnade element för tändning oc: släckning har samma uppbyggnad och funktion. Det i figurerna visade skyddet är dubbelriktat, dvs det fungerar för båda ström- och' spänningsriktningarna. Om så önskas kan skyddet utföras enkelriktat, t ex genom att i skivans undre yta alla de i fig 1 visade skikten och kontakterna utom skikten 21 ooh 22 samt kontakten B utelämnas.
Tyristorns TV NPN-sektion 13, 14, 1 har strömberoende injektionsverknings- grad. Vid hög ström sjunker injektionsverkningsgraden hos emitterskiktet 13. Detta medför att tyristorns totala strömförstärkning avtar och närmar sig 1, vilket i sin tur medför en ökning av tyristorns ledspänningsfall.
Detta inträffar vid en strömtäthet på t ex 105 A/cmz. Genom val av relationen mellan arean nos skiktet 1" och den totala arean hos skikten 12 och 15 kan man styra den effektiva förstärkningen för hål i tyrístorsystemet och man kan därigenom bestämma den tyristorström vid vilken ledspänningsfallet markant börjar öka.
Kontakten A är isolerad från skikten 1, 12, 1U och 15 med hjälp av ett under- liggande kiseldioxidskikt 120. Ett eller flera P+-skikt 118 med liten utsträck- ning i förhållande till skiktet 18 ger en kortslutning av emitterövergången 18-15 och hindrar tändning av den parasitära tyristordelen 21, 22, 1, 15, 18. 8300853-2 20 25 30 35 8300853-2 Halvledarskivan är vid sin rand försedd med ett N+-dopat område 16 för förhindrande av ytläckströmmar. Skivans yta är täckt med ett skikt 121 av kiseldioxid, vilket är försett med öppningar för kontakterna.
Den för släckning av tyristorn vid överström anordnadeMOS-transistorn (FV i fig 2) består av ett skikt 116 som tillsammans med skikten 18 och 15 samt styrelektroden 17 bildar en MOSFET-transistor av anrikningstyp med P-ledande kanalområde. Skiktet 116 har en kontakt 117 som via en ledning E är för- bunden med kontakten 111 och därmed via skiktet 115 med tyristorns P-bas 14. Styret 17 är via en ledning D förbunden med en kontakt 191, under vilken ett tunt skikt 192 är omvandlat till platinasilicid och med skiktet 1 bildar en schottkydiod. En ring 193 av P+-ledande kisel är anordnad runt schottkydiodens rand.Schottkydioden är anordnad i en öppning i skiktet 15.
Vid positiv spänning över tyristorn (B positiv relativt A) får styret 17 positiv spänning via övergången 22-23 (dioden DV i fig 2) och schottky- dioden (SDV i fig 2). MOS-transistorn dimensioneras så att den blir ledande vid önskat ledspänningsfallöver tyristorn, varvid den kortsluter övergången mellan skikten 13 och 14 och bringar tyristorn att slockna.
Avståndet mellan skikten 193 och 15är så valt att den spänning vid vilken spärrskiktet i övergången mellan skikten 1 och 15 penetrerar till skiktet 193 understiger genombrottsspänningen hos styret 17. Härigenom skyddas MOS- transistorn mot höga tyristorspänningar. Skikten 193-1-15 kan uppfattas som en PNP-varistor, vilken är betecknad med VV i fig 2.
Tändström till tyristorn tillförs P-basskiktet 14 via en JFET-transistor med horisontellt kanalområde. Denna betecknas med FETV i fig 2 och visas mera i detalj i fig 3. Skiktet 14 är försett med en öppning 110. Ett närmast ytan beläget skikt 113 av halvledarskivan är N~ledande. Vid randen av skiktet 113 är ett N+-ledande skikt 114 och invid detta ett P+-ledande skikt 115 anordnade. Skiktet 113 är täckt med ett tunt kiseldioxidskíkt 112.
Ovanpå detta och i kontaktxned skikten 114 och 115 är en kontakt 111 anord- nad, vilken via en förbindelse E är ansluten till kontakten 117.
Vid blockspänning över tyristorn (B positiv relativt A) flyter ström från kontakten B via skiktet 21, skikten 22 och 1 (dioden DV i fig 2),öppningen 110, kanaldelen 113, skiktet 114, kontakten 111 och skiktet 115 till tyris- torns P-basskikt 14 (pilarna "i" i fig 3). Strömmen orsakar ett lateralt spänningsfall i kanaldelen 113a, vilket förspänner övergången mellan skiktet 113 och skiktet 14 i spärriktningen. Vid ökande ström breder spärr- 5 azooasz-2 “ skiktet ut sig uppåt i kanalområdet 113a och stryper kanalen mer och mer.
På samma sätt som vid en konventionell JFET-transistor får härigenom kanal- delen 113a en mättnadsström som ej kan överskridas. Denna mättnadsström kan inställas till önskat värde genom lämpligt val av kanalområdets dopning, 5 längd och tjocklek. Mättnadsströmmen ställs in till ett värde som medger säker tändning av tyristorn. Vid de höga värden på tyristorspänningen som kan uppträda när tyristorn släckts med hjälp av fälteffekttransistorn FV U kommer JFET-transistorn att arbeta som en konstantströmkälla och begränsar automatiskt sin ström till ett värde lika med mättnadsströmmen. 10 Vid ett överströmsskydd enligt uppfinningen erhålles härigenom kraftigt reducerade förluster jämfört med tidigare kända överströmsskydd av samma '7'¿ typ. Vidare uppnås en kraftigt förbättrad isolation mellan den drivande I spänningen och skyddsobjektet. Man slipper vidare de komplicerade t ex spiral- eller meanderformade styrströmsbegränsande motstånden vid de 15 tidigare kända överströmsskydden. Detta ärdelsen fördel ur tillverknings- synpunkt, delsundgår man den relativt stora förlust av effektiv area som dessa motstånd medför.
Den ovan beskrivna utformningen av ett överströmsskydd med en JFET-transistor med horisontellt kanalområde för tillförande av tändström till tyristorns 20 styrskikt har vidare den fördelen att skyddets (tyristorns) genombrotte- spänning ej påverkas menligt. Denna effekt accentueras av att kontakten 111, som täcker hela öppningen 110 i P-basskiktet 1Ä, fungerar som fältplatta och förhindrar oregelbundenheter hos fältet vid öppningen.
Vid den i fig 1 och 3 visade JFET-transistordelen kan öppningen 110 vara 25 kvadratisk med en sida pä 20-HO /um. Kanalområdet 113a kan ha samma bredd (20-no I 20-H0 /um från öppningen (åt höger och åt vänster i figurerna). P-bas- um) men en längd som är så mycket större att det sträcker sig ut skiktets 14 tjocklek kan vara 10/um och kanalområdets 113 tjocklek 0,5/um. 14 3 N-basskiktets 1 dopning kan vara 10 om . Skiktet 1H kan alstras genom 30 jonimplantation av bor till en ytkoncentration pä 1013 cm_2 följd av in- diffusion till önskat djup. Kanalområdet 113 alstras genom jonimplantation av fosfor till en ytkoncentration av 3 - 1011 _ 3 - 10 Cm-2- N+-0mPådefi 11ä och P+-området 115 kan därefter alstras genom implantation av lämpliga störämnen. En på detta sätt utformad JFET-sektion får en mättnadsström av 35 storleksordningen något hundratal /uA, vilket kan vara ett lämpligt värde för ett överströmsskydd med en märkström på några hundra milliampere och en märkspänning på nâgra hundratal volt.
Claims (5)
1. Tvåpoligt överströmsskydd för inkoppling i en strömförande ledning och innefattande en normalt ledande släckbar tyristor (TV). Tyristorn har en halvledarkropp med i tur och ordning ett första emitterskikt (13), ett första basskikt (14), ett andra basskikt (1) och ett andra emitter- skikt (21, 22). En med tyristorn integrerad MOS-transistor (FV) är paral- lellkopplad med PN-övergången mellan det första emitterskiktet (13) och det första basskiktet (14) och anordnad att, när spänningen över tyristorn överstiger ett förutbestämt värde kortsluta PN-övergången för släckning .°. av tyristorn. Skyddet k ä n n e t e c k n a s av att tyristorn är an- ordnad att tillföras tändström via ett i halvledarkroppen utbildat kanal- område (113a) med en första ledningstyp (N), vilket är anordnat angräns- ande till ett område (14) med motsatt ledningstyp (P) på sådant sätt att vid stigande spänning över tyristorn den genom kanalområdet flytande strömmen begränsas.
2. Överströmsskydd enligt patentkrav 1, k ä n n e t e c k n a d därav, att kanalområdet (113a) är anordnat mellan en yta hos halvledarkroppen och nämnda område (14) med motsatt ledningstyp, varigenom strömmen genom kanalområdet kommer att flyta i huvudsak parallellt med nämnda yta.
3. Överströmsskydd enligt något av patentkraven 1 och 2, k ä n n e - t e c k n a d därav, att kanalområdet (113a) har samma ledningstyp (N) som det andra basskiktet (1) och gränsar till detta samt att området av motsatt ledningstyp (14) utgörs av det första basskiktet.
4. Överströmsskydd enligt patentkraven 2 och 3, k ä n n e t e c k n a d därav, att det första basskiktet (14) är försett med en öppning (110), genom vilken det andra basskiktet (1) sträcker sig upp till halvledar- kroppens yta samt av att kanalområdet (113a) är anordnat vid randen av öppningen.
5. - överströmsskydd enligt patentkrav 4, k ä n n e t e c k n a d därav, att ett till det första basskiktet (14) elektriskt anslutet ledande skikt (111) är anordnat på ett över kanalomrâdet (113a) och öppningen (110) an- bringat elektriskt isolerande skikt (112).
Priority Applications (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
SE8300853A SE435436B (sv) | 1983-02-16 | 1983-02-16 | Tvapoligt overstromsskydd |
US06/578,383 US4546401A (en) | 1983-01-16 | 1984-02-08 | Two-pole overcurrent protection device |
EP84101454A EP0118785B1 (de) | 1983-02-16 | 1984-02-13 | Zweipoliger Überstromschutz |
DE8484101454T DE3463988D1 (en) | 1983-02-16 | 1984-02-13 | Two-pole overcurrent protection |
JP59025949A JPS59155964A (ja) | 1983-02-16 | 1984-02-14 | 過電流保護装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
SE8300853A SE435436B (sv) | 1983-02-16 | 1983-02-16 | Tvapoligt overstromsskydd |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
SE8300853D0 SE8300853D0 (sv) | 1983-02-16 |
SE8300853L SE8300853L (sv) | 1984-08-17 |
SE435436B true SE435436B (sv) | 1984-09-24 |
Family
ID=20350065
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
SE8300853A SE435436B (sv) | 1983-01-16 | 1983-02-16 | Tvapoligt overstromsskydd |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4546401A (sv) |
EP (1) | EP0118785B1 (sv) |
JP (1) | JPS59155964A (sv) |
DE (1) | DE3463988D1 (sv) |
SE (1) | SE435436B (sv) |
Families Citing this family (27)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
ZA853266B (en) * | 1984-05-02 | 1985-12-24 | Int Standard Electric Corp | Semiconductor device and arrangement |
DE3521079A1 (de) * | 1984-06-12 | 1985-12-12 | Kabushiki Kaisha Toshiba, Kawasaki, Kanagawa | Rueckwaerts leitende vollsteuergate-thyristoranordnung |
FR2584237B1 (fr) * | 1985-06-28 | 1987-08-07 | Telemecanique Electrique | Dispositif integre mos-bipolaire normalement passant |
JPS624368A (ja) * | 1985-06-28 | 1987-01-10 | シ−メンス、アクチエンゲゼルシヤフト | サイリスタ |
EP0230278A3 (de) * | 1986-01-24 | 1989-09-06 | Siemens Aktiengesellschaft | Thyristor mit integrierter Stromversorgung für eine zugeordnete Schaltungseinheit und Verfahren zu seiner Herstellung |
KR900008746B1 (ko) * | 1986-11-19 | 1990-11-29 | 삼성전자 주식회사 | 접합 파괴장치 반도체장치 |
JPS63198525A (ja) * | 1987-02-12 | 1988-08-17 | 三菱電機株式会社 | 過電圧保護装置 |
US4799126A (en) * | 1987-04-16 | 1989-01-17 | Navistar International Transportation Corp. | Overload protection for D.C. circuits |
US4811156A (en) * | 1988-02-26 | 1989-03-07 | Cherne Medical, Inc. | Medical current limiter |
US4980741A (en) * | 1989-02-10 | 1990-12-25 | General Electric Company | MOS protection device |
US4931778A (en) * | 1989-02-27 | 1990-06-05 | Teledyne Industries, Inc. | Circuitry for indicating the presence of an overload or short circuit in solid state relay circuits |
US4916572A (en) * | 1989-02-27 | 1990-04-10 | Teledyne Industries, Inc. | Circuitry for protecting against load voltage transients in solid state relay circuits |
US4924344A (en) * | 1989-02-27 | 1990-05-08 | Teledyne Industries, Inc. | Circuitry for protection against electromotively-induced voltage transients in solid state relay circuits |
JPH03253078A (ja) * | 1989-12-21 | 1991-11-12 | Asea Brown Boveri Ag | 遮断可能なパワー半導体素子 |
FR2683947B1 (fr) * | 1991-11-18 | 1994-02-18 | Sgs Thomson Microelectronics Sa | Diode de protection monolithique basse tension a faible capacite. |
FR2688941B1 (fr) * | 1992-03-20 | 1994-06-17 | Sgs Thomson Microelectronics | Interrupteur de tension alternative a declenchement sur une alternance determinee et conduction par periode. |
EP0745273B1 (en) * | 1994-12-20 | 1998-10-28 | Koninklijke Philips Electronics N.V. | Circuit arrangement, and junction field effect transistor suitable for use in such a circuit arrangement |
US5761019A (en) * | 1996-01-11 | 1998-06-02 | L.Vad Technology, Inc. | Medical current limiter |
FR2754392B1 (fr) * | 1996-10-04 | 1999-04-30 | Centre Nat Rech Scient | Thyristor dual normalement passant blocable par une impulsion appliquee sur la gachette |
DE19726678A1 (de) * | 1997-06-24 | 1999-01-07 | Siemens Ag | Passiver Halbleiterstrombegrenzer |
US5962878A (en) * | 1997-09-17 | 1999-10-05 | Citizen Watch Co., Ltd. | Surge protection device and method of fabricating the same |
US5995348A (en) * | 1997-09-19 | 1999-11-30 | Acuson Corporation | Ground safety device for medical ultrasound probes |
US6271067B1 (en) | 1998-02-27 | 2001-08-07 | Micron Technology, Inc. | Methods of forming field effect transistors and field effect transistor circuitry |
WO2005020402A1 (en) * | 2003-08-21 | 2005-03-03 | Fultec Pty Ltd | Integrated electronic disconnecting circuits methods, and systems |
US7355368B2 (en) * | 2004-08-12 | 2008-04-08 | International Rectifier Corporation | Efficient in-rush current limiting circuit with dual gated bidirectional hemts |
US7276883B2 (en) * | 2004-08-12 | 2007-10-02 | International Rectifier Corporation | Self-driven synchronous rectified boost converter with inrush current protection using bidirectional normally on device |
SE533026C2 (sv) * | 2008-04-04 | 2010-06-08 | Klas-Haakan Eklund | Fälteffekttransistor med isolerad gate seriekopplad med en JFET |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3263128A (en) * | 1962-07-23 | 1966-07-26 | Richard L White | Circuit breaker |
DE1464960A1 (de) * | 1963-09-03 | 1969-08-28 | Gen Electric | Halbleiter-Schalter |
DE2248005C3 (de) * | 1971-10-01 | 1979-09-27 | Hitachi, Ltd., Tokio | Unidirektionaler gesteuerter Halbleitergleichrichter |
SE392783B (sv) * | 1975-06-19 | 1977-04-18 | Asea Ab | Halvledaranordning innefattande en tyristor och en felteffekttransistordel |
JPS5574168A (en) * | 1978-11-28 | 1980-06-04 | Oki Electric Ind Co Ltd | Pnpn switch |
US4268846A (en) * | 1978-12-22 | 1981-05-19 | Eaton Corporation | Integrated gate turn-off device with lateral regenerative portion and vertical non-regenerative power portion |
SE430450B (sv) * | 1979-04-03 | 1983-11-14 | Asea Ab | Tvapoligt overstromsskydd for inkoppling i en stromforande ledning |
US4400711A (en) * | 1981-03-31 | 1983-08-23 | Rca Corporation | Integrated circuit protection device |
-
1983
- 1983-02-16 SE SE8300853A patent/SE435436B/sv not_active IP Right Cessation
-
1984
- 1984-02-08 US US06/578,383 patent/US4546401A/en not_active Expired - Fee Related
- 1984-02-13 EP EP84101454A patent/EP0118785B1/de not_active Expired
- 1984-02-13 DE DE8484101454T patent/DE3463988D1/de not_active Expired
- 1984-02-14 JP JP59025949A patent/JPS59155964A/ja active Pending
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE3463988D1 (en) | 1987-07-02 |
US4546401A (en) | 1985-10-08 |
SE8300853L (sv) | 1984-08-17 |
EP0118785B1 (de) | 1987-05-27 |
EP0118785A1 (de) | 1984-09-19 |
SE8300853D0 (sv) | 1983-02-16 |
JPS59155964A (ja) | 1984-09-05 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
SE435436B (sv) | Tvapoligt overstromsskydd | |
JP3288115B2 (ja) | 半導体部品 | |
JP2967327B2 (ja) | 多層過電圧保護デバイス及び双方向性多層過電圧保護デバイス | |
US5304802A (en) | Semiconductor device including overvoltage protective circuit | |
US4967256A (en) | Overvoltage protector | |
US5557128A (en) | Insulated-gate type bipolar transistor | |
JPH06104444A (ja) | アクティブクランプを備えたパワーmosfet回路 | |
EP3176823B1 (en) | Semiconductor device having esd element | |
KR20160053881A (ko) | 2 단자 다중채널 esd 장치 및 그것을 위한 방법 | |
JP2008509548A (ja) | 半導体スイッチ装置と電子素子 | |
US4562454A (en) | Electronic fuse for semiconductor devices | |
US4509089A (en) | Two-pole overcurrent protection device | |
JPH06163889A (ja) | 半導体部品 | |
US6639253B2 (en) | Overvoltage protection device | |
US4437107A (en) | Self-igniting thyristor with a plurality of discrete, field controlled zener diodes | |
US4323942A (en) | Solid-state protector circuitry using gated diode switch | |
US5821586A (en) | Semiconductor device including a protective element having negative resistance characteristic | |
JPH07254613A (ja) | 半導体デバイスの降伏電圧強度を増大させる装置及び方法 | |
EP0084050B1 (en) | Controlled breakover bidirectional semiconductor switch | |
SE455552B (sv) | Halvledaranordning innefattande en overspenningsskyddskrets | |
US4980741A (en) | MOS protection device | |
EP0580242B1 (en) | A semiconductor component including protection means | |
US10199368B2 (en) | Stucture for protecting an integrated circuit against electrostatic discharges | |
US4502072A (en) | FET Controlled thyristor | |
US4292646A (en) | Semiconductor thyristor device having integral ballast means |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
NUG | Patent has lapsed |
Ref document number: 8300853-2 Effective date: 19940910 Format of ref document f/p: F |