SE422117B - Anordning for utmerkande av enslinjer - Google Patents

Description

8006622-8 Vidare erfordras en mycket jämn kvalitet avseende anordningens aktiva ele- ment och dessas placering för att därvid åstadkomma att de av olika instrument alstrade interferensmönstren är desammaför samma avvikelse från enslinjen.

Nämnda problem löses enl. föreliggande uppfinning genom en kombination av rastrens utformning och deras infästningsorgan. Rastren är enl. uppfinningen så ut- formade att precisionen i dessas placering i en första riktning är mindre väsentlig och så utformade att erforderlig precision avseende dessas placering i en riktning vinkelrätt mot den första riktningen automatiskt uppnås medelst infästningsorganen.

Föreliggande uppfinning hänför sig till en anordning för utmärkande av ens- linjer innefattande ett framförliggande och ett bakomliggande raster, vilka innefat- tar opaka linjer åtskilda av transparenta mellanrum, varvid ett interferensmönster, ett s.k. moirémönster, uppkommer när anordningen betraktas och vilka raster har oli- ka delning d.v.s. olika avstånd mellan de opaka linjerna och utmärkes av att vardera av nämnda raster innefattar en skiva, vilken är bockad på mitten till en trubbig vinkel och av att två sådana rasterskivor förefinns placerade medelst infästningsor- gan, så att de trubbiga vinklarna antingen vetter mot varandra, varvid den framför- liggande rasterskivan är försedd med en tätare rasterdelning än den bakre rasterski- van, eller alternativt så att de trubbiga vinklarna vetter från varandra, varvid den framförliggande rasterskivan är försedd med en glesare rasterdelning än den bak- re rasterskivan.

Nedan beskrives uppfinningen närmare i samband med bifogade ritningar, där - fig. l och 6 schematiskt visar rasteruppställningar enl. uppfinningen. - fig. 2 visar anordningen sedd utmed dess angivna enslinje. - fig. 3 visar en vy, där höger sidostycke i fig. 2 borttagits. - fig. H visar anordningen betraktad till vänster om dess angivna enslinje. - fig. 5 visar anordningen betraktad till höger om dess angivna enslinje. l fig. l visas schematiskt en rasteruppställning enl. uppfinningen. Varje raster l,2 innefattar opaka linjer 3 åtskilda av transparenta mellanrum 4. Rastren 1,2 är placerade omlott så att en betraktare, vilken betraktar rastren ifrån en riktning schematiskt utmärkt med pilen S ser genom framförliggande och bakomliggande raster. Härvid uppkommer ett interferensmönster, s.k. moirëmönster, när anordningen betraktas. 7 Rastren 1,2 har olika delning d.v.s. olika antal opaka linjer per längdenhet vinkelrätt mot de opaka linjerna.

Vardera rastret 1,2 innefattar en skiva, vilken är bockad på mitten till en trubbig vinkel v, se fig. 3.

Vinkeln v kan vara mellan l20° och 1700 eller därunder eller över, beroende på önskad känslighet, vilket närmare beskrives nedan.

Enl. en utföringsform av uppfinningen förefinns två sådana rasterskivor 1,2 placerade så att de trubbiga vinklarna vetter mot varandra, såsom visas i fig. 1 och enl. en annan utföringsform, så att vinklarna vetter från varandra såsom visas i fig. 6. 8006622- 8 Den främre rasterskivan l är enligt förstnämnda utföringsform försedd med en delning, som är tätare än den bakre rasterskivan 2.

För användning av instrumentet inom ett föredraget avståndsintervall från c:a 25m till 250m kan exempelvis det främre rastrets l opaka linjer 3 ha en bredd av 3mm medan avståndet mellan två närliggande opaka linjer, d.v.s. det transparenta mellanrummet Ä ha en bredd av l,Smm. Härvid är det bakre rastrets 2 opaka linjers 3 bredd även 3mm medan dess transparenta mellanrum har en bredd av l,75mm. Dessa måttuppgifter är endast angivna såsom exempel.

Rasterskivorna l,2 är uppburna av infästningsorgan, som innefattar två si- dostycken 6,7 såsom plåtar eller motsvarande anordnade inbördes parallellt och an- ordnade vinkelrätt mot rasterskívornas l,2 plana ytor.

Rasterskivorna l,2 är fastklämda mellan sidostyckena 6,7 medelst dragbultar 8 eller motsvarande, vilka löper mellan sidostyckena 6,7.

Sidostyckena 6,7 är försedda med anvisningar 9 såsom uppåtstående stift el- ler liknande, vilka är anordnade parvis eller anvisningar i form av spår. Mellan varje par av anvisningar löper en rasterskivas l,2 kant l0.

Rasterskivorna l,2 utgöres av rektangulära eller fyrkantiga plana skivor, vilka efter att ha försetts med ett raster löpande parallellt med två sidor, bockas till vinkeln v vinkelrätt mot rasterlínjerna. Detta medför att varje rasterskiva l,2 har parallella sidor, där varje rasterlinje är parallell med två motstående sidor.

Var och en av rasterskivorna l,2 har med avseende på skivan en symmetriskt placerad opak linje 3 eller ett transparent mellanrum Å.

När således rasterskivorna l,2 placeras såsom schematiskt visas i fig. I och omges av sidostyckena 6,7 och inpassas mellan de parvisa anvisningarna 9 före- finns rastren så placerade att deras rasterlinjer 3 är inbördes parallella och så att den nämnda symmetriskt placerade opaka linjen 3 eller det transparenta mellan- rummet Å ligger mitt för varandra sett i en betraktelseriktníng, som är vinkelrät mot rasterskívornas l,2 plana ytor.

Det är ytterst väsentligt att rasterlinjerna 3,ü är inbördes parallella och att placeringen av nämnda symmetriska linje 3 eller mellanrum 4 är den ovan angivna, för att ett interferensmönster bestående av inbördes parallella mörka band ll, såsom visas i fig. 2, skall erhållas när anordningen betraktas vinkelrätt mot rasterskivornas l,2 plana ytor i en betraktelseriktning antydd med pilen 12 i fig. 3, d.v.s. utmed den av anordningen utvisade enslinjen. lnterferensmönstret eller noggrannheten, uttryckt som den avvikelse från enslinjen, där det i fig. 2 visade interferensmönstret störes, påverkas relativt lite av att rasterskivorna l,2 är något förskjutna i vertikal led från det i fig. 3 visade läget.

Med den inledningsvis nämnda första riktningen avses en i fig. 2 vertikal förskjutning av den ena rasterskivan i förhållande till den andra. Med den inlednings- 8006622-s A vis nämnda andra riktningen avses en förskjutning vinkelrätt mot papperets plan i fig. 2, så att placeringen av nämnda symmetriska linjer ej blir den avsedda.

Genom att rasterskívorna l,2 består av plana rektangulära skivor, vilka är försedda med rasterlinjer 3,4 löpande parallellt med två sidor och därefter bockade till en bestämd vinkel ernås således en hög noggrannhet, även avseende vinkeln v, hos anordningen då rastren inspänns mellan de plana sidostyckena 6,7.

De ovan beskrivna rasterskívorna l,2 ger i en uppställning enligt fig. l och 3 en interferensbild, som schematiskt visas i fig. 2 när anordningen betraktas utmed dess enslinje d.v.s. i en riktning, som är vïnkelrät mot rasterskivornas l, 2 plana ytor. ' När anordningen enligt fig. l och 3 betraktas från en riktning, som lig- ærtfllväßæromemfinknuwuäærda ifig.üvBmeimefimamfimneL Detta består likaledes av mörka band 13. Emellertid bildar dessa band l3 pilar, vilka anger korrigeríngsriktningen för att komma till enslinjen. När anordningen betraktas från en riktning, som ligger till höger om enslinjen uppträder på mot- svarande sätt det i fig. 5 visade interferensmönstret, vilket består av pilar bild- ade av mörka band lå och likaledes utvisande korrigeríngsriktningen.

Genom att ge rasterskívorna l,2 det ovan angivna utförandet och den ovan angivna placeringen erhålles en enkel och noggrann anordning för utmärkande av ens- linjer och för indikering av korrigeríngsriktningen.

För det fall att rasterskívorna uppställs såsom i fig. 6, där rasterskívor- na benäms l5,l6, förses den framförliggande rasterskivan l5 med ett raster med glesare delning än det bakre rastret l6. Härvid kan rasterdelningarna vara de ovan angivna. Härigenom uppträder interferensmönstren i fig. M och 5 vid de i anslutning till dessa figurer beskrivna avvikelserna från enslinjen.

Vinkeln v inverkar på anordningens känslighet. När vinkeln v är liten ut- bildas det av pilar bestående interferensmönstret för en mycket liten avvikelse från enslinjen. När vinkeln v är större är denna känslighet lägre. Praktiska prov har vi- sat att för ett avsett avståndsintervall av 25 till 250m är en vinkel v av lå5° att föredraga.

Ovan är ordet enslinje och enslinjemärke använt. Dessa ord är använda för att uttrycka att anordningen ensam, d.v.s. utan tillgripande av ytterligare en an- ordning eller märke, utvisar en specifik linje vid betraktande av anordningen och för att uttrycka att anordningen är avsedd att företrädesvis användas för att indi- kera enslinjer, exempelvis vid navigering. V Enligt fig. 2 och 3 innefattar anordningen utöver vad som ovan nämnts ett framstycke l7 av ett transparent material, såsom ett plastmaterial och ett bakstyc- ke l8 företrädesvis av plåt, Vidare förefinns företrädesvis en inre vägg l9 av transparent material, såsom ett plastmaterial. Den inre väggen I9 är avsedd att tjäna såsom en diffusor för det ljus som utsändes av en eller flera ljuskällor, företrädesvis lysrör 20, placerade mellan den inre väggen l9 och bakstycket l8. 8006622-8 NW För att öka kontrasten hos interferensmönstret är ljuskällorna 20 anord- nade att utsända gult ljus. Alternativt är ljuskällorna 20 anordnade att utsända vitt ljus medan den inre väggen l9 är färgad så att den utsänder gult ljus mot rasterskivorna l,2.

Vidare kan ett elektriskt värmeelement Zl av känd typ förefinnas för att uppvärma anordningen och därigenom förhindra frostbildning vid utomhusplacering av anordningen. Vid användning av ett värmeelement 2l förefinns lämpligen en ter- mostat 22 i anordningens övre del för reglering av temperaturen inuti anordningen.

Föreliggande anordning kan användas för ett stort antal ändamål exempel- vis enslinjemarkering för sjöfart. En speciell tillämpning är att uppsätta tvâ an- ordningar på avstånd från varandra för utmärkande av var sin enslinje, vilka ens- linjer korsar varandra i en punkt. Exempelvis kan en sådan uppsättning användas för índockning eller parkering av flygplan. Härvid följer piloten enslinjen hos en av anordningarna till den punkt, där han även befinner sig på den andra anordningens ensllnje, varvid avsett läge för flygplanet uppnåtts.

Föreliggande uppfinning medför således en enkel anordning, vilken har jämn kvalitet avseende de av olika instrument alstrade interferensmönstren, vilken ut- visar en enslinje och därutöver korrigeringsriktningen för det fall att betrakta- ren inte befinner sig på enslinjen.

Givetvis kan infästningsanordningen varieras och rastrens utformning vari- eras utan att uppfinningstanken frångâs.

Föreliggande uppfinning skall således inte anses begränsad till de ovan an- givna utföringsformerna, utan kan varieras inom dess av bifogade patentkrav angivna Fam-

Claims (3)

81306622-8 Patentkrav

1. Anordning för utmärkande av enslínjer innefattande ett framförliggande och ett bakomliggande raster, vilka innefattar opaka linjer (3) åtskilda av transparen- ta mellanrum (Ä), varvid ett interferensmönster, ett s.k. moirëmönster. uppkommer när anordningen betraktas och vilka raster (l,2;15,16) har olika delning d.v.s. 0- lika avstånd mellan de opaka linjerna, k ä n n e t e c k n a d av, att vardera av nämnda raster (1,2;15,16) innefattar en skiva, vilken är bockad på mitten till en trubbig vinkel (v) och av, att två sådana rasterskivor förefínns placerade medelst infästningsorgan (6,7,8) så att de trubbiga vinklarna (v) antingen vetter mot va- randra, varvid den framförliggande rasterskivan (1) är försedd med en tätare ras- terdelning än den bakre (Z) rasterskivan, eller alternativt så att de trubbiga vinklarna (v) vetter från varandra, varvid den framförliggande rasterskivan (15) är försedd med en glesare rasterdelning än den bakre rasterskivan (16).

2. Anordning enl. krav 1, k ä n n e t e c k n a d av, att nämnda infästníngs- organ (6,7,8) innefattar två plåtar (6,7) eller motsvarande anordnade inbördes pa- rallellt och vinkelrätt mot rasterskívornas (1,2;15,l6) plan, mellan vilka plåtar (6,7) rasterskivorna är fastklämda och av, att nämnda plåtar är försedda med anvis- ningar (9) såsom uppåtstående stift eller motsvarande, vilka är anordnade parvis och där varje sådant par av anvisningar (9) är anordnat att mellan anvisningarna (9) fixera en rasterskivas kant (10).

3. Anordning enl. krav 1 eller 2, k ä n n e t e c k n a d av, att nämnda trub- biga vinkel är 12o° fm ,17u°, företrädesvis ih5°.