SE419907B - Forfarande for upplinjering av ett monster innefattande exponering av ett negativt resistmaterial - Google Patents

Forfarande for upplinjering av ett monster innefattande exponering av ett negativt resistmaterial

Info

Publication number
SE419907B
SE419907B SE7412962A SE7412962A SE419907B SE 419907 B SE419907 B SE 419907B SE 7412962 A SE7412962 A SE 7412962A SE 7412962 A SE7412962 A SE 7412962A SE 419907 B SE419907 B SE 419907B
Authority
SE
Sweden
Prior art keywords
uplining
procedure
resist material
negative resist
sample including
Prior art date
Application number
SE7412962A
Other languages
English (en)
Other versions
SE7412962L (sv
Inventor
E D Feit
L F Thompson
Original Assignee
Western Electric Co
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Western Electric Co filed Critical Western Electric Co
Publication of SE7412962L publication Critical patent/SE7412962L/xx
Publication of SE419907B publication Critical patent/SE419907B/sv

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/038—Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
  • Electrophotography Using Other Than Carlson'S Method (AREA)
  • Epoxy Resins (AREA)
  • Materials For Photolithography (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
SE7412962A 1973-10-23 1974-10-15 Forfarande for upplinjering av ett monster innefattande exponering av ett negativt resistmaterial SE419907B (sv)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US40892773A 1973-10-23 1973-10-23

Publications (2)

Publication Number Publication Date
SE7412962L SE7412962L (sv) 1975-04-24
SE419907B true SE419907B (sv) 1981-08-31

Family

ID=23618345

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
SE7412962A SE419907B (sv) 1973-10-23 1974-10-15 Forfarande for upplinjering av ett monster innefattande exponering av ett negativt resistmaterial

Country Status (9)

Country Link
JP (1) JPS5929852B2 (sv)
BE (1) BE821326A (sv)
CA (1) CA1032392A (sv)
DE (1) DE2450381C3 (sv)
FR (1) FR2248289B1 (sv)
GB (1) GB1484873A (sv)
IT (1) IT1024658B (sv)
NL (1) NL163633C (sv)
SE (1) SE419907B (sv)

Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4130424A (en) * 1976-08-06 1978-12-19 Bell Telephone Laboratories, Incorporated Process using radiation curable epoxy containing resist and resultant product
JPS5786831A (en) * 1980-11-20 1982-05-31 Fujitsu Ltd Pattern forming material
JPS5786830A (en) * 1980-11-20 1982-05-31 Fujitsu Ltd Pattern forming material
JPS57109943A (en) * 1980-12-26 1982-07-08 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> Formation of submicron pattern using radiation sensitive resist
DE3114931A1 (de) * 1981-04-13 1982-10-28 Hoechst Ag, 6000 Frankfurt Durch strahlung polymerisierbares gemisch und daraus hergestelltes photopolymerisierbares kopiermaterial
GB2285141B (en) * 1993-12-23 1998-03-11 Motorola Ltd Method of removing photo resist

Family Cites Families (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3770433A (en) * 1972-03-22 1973-11-06 Bell Telephone Labor Inc High sensitivity negative electron resist

Also Published As

Publication number Publication date
NL163633C (nl) 1980-09-15
FR2248289B1 (sv) 1979-03-16
BE821326A (fr) 1975-02-17
FR2248289A1 (sv) 1975-05-16
DE2450381B2 (de) 1979-07-19
GB1484873A (en) 1977-09-08
DE2450381C3 (de) 1984-09-20
SE7412962L (sv) 1975-04-24
IT1024658B (it) 1978-07-20
DE2450381A1 (de) 1975-04-24
NL7413817A (nl) 1975-04-25
NL163633B (nl) 1980-04-15
JPS5074427A (sv) 1975-06-19
JPS5929852B2 (ja) 1984-07-24
CA1032392A (en) 1978-06-06

Similar Documents

Publication Publication Date Title
SE422967B (sv) Sett och anordning for brytning av ett fast material
BR7500892A (pt) Material fotografico foto-sensivel
AT347975B (de) Lichtempfindliches kopiermaterial
SE429830B (sv) Artikel av ett vikbart arkmaterial
AT345089B (de) Photographisches material
FI55972B (fi) Foerpackning bestaoende av ett yttre uppstoedjande hoelje och en inuti detta placerad behaollare av flexibelt material
SE422631B (sv) Anordning vid fotoresistelement innefattande ett overskikt av fotokensligt material och ett underskikt av framkallarlosligt material
SE419105B (sv) Forfarande for elektropletering av ett zirkoniummaterial och aktiveringslosning for genomforande av forfarandet
SE416957B (sv) Fotopolymeriserbar komposition och sett att framstella ett polymert material herav
SE7601684L (sv) Forfarande och maskin for framstellning av bikaksmaterial
FI56405B (fi) Ett varpstickat material
SE7604453L (sv) Apparat for avlegsnande av fast material ur ett flode av kloakvatten eller annan vetska
SE7602945L (sv) Forfarande for tillverkning av ett gjutstycke
SE389981B (sv) Forfarande for framstellning av ett metalliskt filtermaterial
SE398069B (sv) Sett och anordning att tillverka en av arkmaterial och formsprutat material sammansatt behallare
SE420132B (sv) Sett och apparat for metning av hallfastheten hos ett material
SE419907B (sv) Forfarande for upplinjering av ett monster innefattande exponering av ett negativt resistmaterial
BE837537A (nl) Lichtgevoelig fotografisch kleurenmateriaal
SE412564B (sv) Av en sleplina dragen gripare for ankartrossar for sjominor
FI53664C (fi) Saett och anordning foer separering av suspenderat material ur en vaetskestroem
NO138446C (no) Fremgangsmaate ved fremstilling av et hydrofobt byggemateriale
FI64203B (fi) Inloppslaoda foer maskiner foer framstaellning av ett banformigt material
SE7506094L (sv) Sett och anordning for framstellning av ett av flera olika material sammansatt foremal
SE7511857L (sv) Sett och apparat for bestemning av ett fartygs rorelse
FI56208B (fi) Foerfarande foer rengoering av dysoeppningarna i en apparat foer jetfaergning av poroesa material och anordning foer utfoerande av foerfarandet

Legal Events

Date Code Title Description
NUG Patent has lapsed

Ref document number: 7412962-8

Effective date: 19941110

Format of ref document f/p: F