SE186167C1 - - Google Patents

Info

Publication number
SE186167C1
SE186167C1 SE186167DA SE186167C1 SE 186167 C1 SE186167 C1 SE 186167C1 SE 186167D A SE186167D A SE 186167DA SE 186167 C1 SE186167 C1 SE 186167C1
Authority
SE
Sweden
Prior art keywords
platinum
layer
bath
immersed
molybdenum
Prior art date
Application number
Other languages
English (en)
Publication date
Publication of SE186167C1 publication Critical patent/SE186167C1/sv

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D3/00Electroplating: Baths therefor
    • C25D3/02Electroplating: Baths therefor from solutions
    • C25D3/50Electroplating: Baths therefor from solutions of platinum group metals
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D7/00Electroplating characterised by the article coated
    • C25D7/06Wires; Strips; Foils
    • C25D7/0607Wires

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Electrochemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)
  • Electrodes For Compound Or Non-Metal Manufacture (AREA)

Description

Uppfinnare: P R Dijksterhuis och A R Hovingh Prioritet begard fran den 19 oktober 1955 (Nederldnderna) Foreliggande uppfinning avser ett satt att forhallandevis hastigt overdraga metallforemal, isynnerhet molybdentrad, med ett tjockt, val fastsittande, rent platinaskikt, som om sit onskas kan ha en starre tjocklek.
Platinering av metaller, isynnerhet molybden, har visat sig forhallandevis sva'r att genomfora, varfOr man ej har kunnat framstalla vat fastsittande, rena platinaskikt med hj alp av Hilda elektrolytiska metoder.
Vid ett sadant forfarande nedfores ,ett metallforemal i ett elektrolytbad, soin innehaller en platinaforening oeh vartill man oftast satter ett salt av en annan metal! for Ran-de av badets verkningsgrad. Platinan utfaller darvid i form av ett skikt av platinasvart, som .darefter genom upphettning till c:a 1000° C sintras och ombildas till platina. Darvid fOrangas den samtidigt utfallda frammande metallen till storsta delen frail skiktet. Det har emellertid visat sig sardeles svart att avlagsna sadana frammande metaller, isynnerhet om platinaskiktet har en storre tjoeklek, -varfor dessa metaller vid anvandning av det platinerade foremalet i hogvakuum och vid hag temperatur kunna forangas oak darigenom orsaka en metallutfallning pa ieke anskade stallen. Isynnerhet vid foremal av molybden, vilka exempelvis skola .anvandas som elektroder i sandarror, ha de angivna nackdelarna visat sig mycket storande. De till sadana platinabad satta metallsalterna utgaras oftast av blyforeningar, vadar bly forekommer som fororening i platinaskiktet. Delta bly avlagsnas namligen icke fullstandigt under sintringen av platinasvartskiktet vid c :a 1000° C och ger dad& senare upphov till de omnamnda nackdelarna. En nackdel med de kanda metoderna är dessutom, att markningsgraden fortfarande i allmanhet är forhallandevis lag, varflir 'det drojer lange, innan det tillvaxande skiktet fatt den onskade tjockleken. Dessutom kan skiktet vid detta forfarande endast fa en tjocklek av nagra fa mikron, 'emedan de fra.mmande metallerna vid storre skikttjocklekar praktiskt taget ej Lang-re kunna avlagsnas.
De angivna nackdelarna kunna fullstandigt undvikas vid elektrolytisk Overdragning av ett metallforemal med ett platinaskikt under anvandning av ett platinahaltigt bad, ur vilket platina atminstone en gang utfalles pa foremget i form av ett skikt av platinasvart, varvid skiktet varje gang efterat sintras vid c:a 1000° C och omvandlas till blank platina, om man enligt uppfinningen nedfor forema.- let i ett elektrolytbad, bestaende ,av en vattenlasning av 150-300 g/1 platinaklorvatesyra (1-1213tC16) och 1-15 g/1 kvicksilverklorid (HgC12), foretradesvis med ,anvandning ay en elektrisk shorn med en stromtathet av c:a 50-150 A/dm.2. Del visar sig att (let samtidigt med platinasvart utfallda kvicksilvret forangas nastan fullstandigt ur skiktet vid den darefter foljande sintringen.
Badet innehaller foretradesvis 240 g/1 H2PtC16 och 7 g/1 HgC12, och stromtatheten bor vara sit hog som kan tillatas utan att skada foremalet. Pa data sail ar det majligt att framstalla platinaskikt med en godtycklig totaltjoCklek, utan att skiktet borjar flagna ay, bli por5st 'eller att det innehaller kvieksilver eller andra frammande metaller. Eftersom kvicksilverforeningen vasentligt iikar badets verkningsgrad, utfalles ett skikt av,bestaind tiocklek forhallandevis hastigt. 2— Del liar visat sig sardeles fordelaktigt att for erkallande av ett tjockt skikt anbringa flera tunna platinaskikt pa varandra, varvid foremalet salunda flera ganger overdrages elektrolytiskt och upphettas. Isynnerhet vid molybden Or det av betydelse, att det forsta skiktet valjes mycket hint (t. ex. 0,5-0,7 /2), emedan det I annat fall uppstar en risk for att skiktet uppvisar sprickor efter sintringen. Pa detta f8rsta skikt kan man darefter anbringa ett andra, tjockare skikt.
Uppfinningen skall i det foljande forklaras narmare med ett utforingsexempel. En molybdentrad med 175 z tjocklek ledes med en hastighet av 20-120 in/h, motsvarande tjockleken hos det skikt, som skall paforas, genona ett ,elektrolytbad av den ovannamnda sammansattningen. Traden loper genom badet over en langd av 30 cm och stromstyr= kan utgor 1,5 A, varvid den negativa polen Or ansluten till traden. Vid en genomloppshastighet av 120 m/h Or tjockleken hos det platinaskikt, som erhalles efter sintring yid 1000° G, 0,5-0,7 lb Det liar visat sig mojligt att pa detta skikt anbringa ytterligare skikt upp till tz total tjocklek. Ett sadant av tva eller flera tunna .skikt uppbyggt platinaskikt kan best& av praktiskt taget ren platina, har en tat struktur och ingen tendens att flagna. Uppfinningen baserar sig salunda - pa kvicksilvrets .egenskap att vasentligt Oka badets verkningsgrad, kombinerat med dess forkallandevis stora flyktighet. En sadan platinerad molybdentrad lampar sig sardeles val for framstallning av galler for sandarror.

Claims (3)

Patentansprak:
1. Forfarande for elektrolytisk overdragRing av ett metallforemal med ett platinaskikt under anvandning av ett platinahaltigt bad, ur vilket platina atminstone en gang utMies pa foremalet i form av ett skikt av platinasvart, varvid skiktet vane gang efterat sintras vid c:a 1000° C och onavandlas till blank platina, kannetecknat darav, att foremalet nedfores i ett elektrolytbad, bestaende av en vattenlasning av 150-300 g/1 platinaklorvatesyra (H2PtC16) och 1-15 g/1 kvicksilverklorid (HgC12), foretradesvis med anvandning av en elektrisk strom med en stromtathet ,av c:a 50-150 A/dm2.
2. Forfarande enligt patentanspraket 1, kannetecknat av att badet innehaller 240 g/1 H2PtC16 och 7 g/1 HgC12.
3. Forfarande enligt patentan.spraket 1 eller 2, f5r 8verdragning av ett foremal, vars yta bestar av molybden, kannetecknat av att foremalet nedf Ores i ett elektrolytbad och upphettas atminstone 2 ganger .efter varandra, varvid i det f8rsta badet ett mycket tunt platinaskikt (0,5-0,7 ,u) pafores, vilket skikt ett eller flera darph foljande bad uppbygges till den anskade tjockleken. Anforda publikationer:
SE186167D SE186167C1 (sv)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SE186167T

Publications (1)

Publication Number Publication Date
SE186167C1 true SE186167C1 (sv) 1963-01-01

Family

ID=38410287

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
SE186167D SE186167C1 (sv)

Country Status (1)

Country Link
SE (1) SE186167C1 (sv)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPWO2005116301A1 (ja) ジルコニウム基金属ガラス部品の表面着色方法
JP5862883B2 (ja) 金属材料のめっき方法および固体高分子電解質膜・触媒金属複合電極の製造方法
CN104562090A (zh) 一种低共熔型离子液体原位电解制备纳米多孔铜的方法
SE200017C1 (sv)
JP6162161B2 (ja) 電気めっきセル及び金属皮膜の製造方法
SE186167C1 (sv)
JP2000073198A (ja) バルブ金属を陽極処理するための方法及び電解質
US3671410A (en) Method for making metal oxide membranes
JP2007217780A (ja) 電解金属粉の製造方法
NO122236B (sv)
US4589960A (en) Activated metal anodes and a process for making them
DE1033478B (de) Verfahren zum galvanischen Abscheiden von Platin auf einen Metallgegenstand
CN112226727A (zh) 一种表面梯度纳米多孔铜膜的制备方法
WO2020006761A1 (zh) 电解液、使用该电解液以电沉积制备单晶铜的方法以及电沉积设备
CN113458513B (zh) 一种基于涂覆多孔聚合物掩膜的电解加工微结构方法
JP5676515B2 (ja) 不溶性金属電極、電解装置、および、めっき方法
JP6124443B2 (ja) 金多孔質膜の製造方法
JP7291858B2 (ja) 金属化すべきプラスチック部品を調製するための電解処理装置及びプラスチック部品をエッチングする方法
SE202899C1 (sv)
JPS55125125A (en) Production of flexible copper-laminated substrate
JPH0544100A (ja) アルミ系材料の表面処理方法
JPH0735597B2 (ja) 低pH、高電流密度における電気化学的処理に用いる陽極
KR20150101021A (ko) 복합 세라믹 전극의 제조방법
US2975112A (en) Electrodeposition of zinc
SU36656A1 (ru) Способ электролитического сн ти олова с жести