SA520411066B1 - الحد من تراكم ناتج تكثيف باستخدام تعديل سطحي - Google Patents
الحد من تراكم ناتج تكثيف باستخدام تعديل سطحي Download PDFInfo
- Publication number
- SA520411066B1 SA520411066B1 SA520411066A SA520411066A SA520411066B1 SA 520411066 B1 SA520411066 B1 SA 520411066B1 SA 520411066 A SA520411066 A SA 520411066A SA 520411066 A SA520411066 A SA 520411066A SA 520411066 B1 SA520411066 B1 SA 520411066B1
- Authority
- SA
- Saudi Arabia
- Prior art keywords
- charged
- polymer
- ether
- glycol mono
- solution
- Prior art date
Links
- 230000000116 mitigating effect Effects 0.000 title abstract description 3
- 230000004048 modification Effects 0.000 title description 11
- 238000012986 modification Methods 0.000 title description 11
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims abstract description 115
- 239000011435 rock Substances 0.000 claims abstract description 85
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 64
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims description 115
- 239000002105 nanoparticle Substances 0.000 claims description 75
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 72
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 61
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 claims description 56
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 55
- 239000000725 suspension Substances 0.000 claims description 55
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims description 28
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 26
- 229920002873 Polyethylenimine Polymers 0.000 claims description 26
- -1 polyethylene Polymers 0.000 claims description 24
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 claims description 24
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 22
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 20
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 19
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 11
- AMQJEAYHLZJPGS-UHFFFAOYSA-N N-Pentanol Chemical compound CCCCCO AMQJEAYHLZJPGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Substances OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- ZSIAUFGUXNUGDI-UHFFFAOYSA-N hexan-1-ol Chemical compound CCCCCCO ZSIAUFGUXNUGDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 2-butoxyethanol Chemical compound CCCCOCCO POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 claims description 7
- 235000007586 terpenes Nutrition 0.000 claims description 7
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 claims description 6
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 claims description 6
- 229920000289 Polyquaternium Polymers 0.000 claims description 5
- 238000009825 accumulation Methods 0.000 claims description 5
- 239000000178 monomer Substances 0.000 claims description 5
- OSSNTDFYBPYIEC-UHFFFAOYSA-N 1-ethenylimidazole Chemical compound C=CN1C=CN=C1 OSSNTDFYBPYIEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M Methacrylate Chemical compound CC(=C)C([O-])=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 4
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 claims description 4
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 claims description 4
- OAYXUHPQHDHDDZ-UHFFFAOYSA-N 2-(2-butoxyethoxy)ethanol Chemical compound CCCCOCCOCCO OAYXUHPQHDHDDZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 claims description 3
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 claims description 3
- 230000000379 polymerizing effect Effects 0.000 claims description 3
- 239000010936 titanium Substances 0.000 claims description 3
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 claims description 3
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 claims description 3
- QWOZZTWBWQMEPD-UHFFFAOYSA-N 1-(2-ethoxypropoxy)propan-2-ol Chemical compound CCOC(C)COCC(C)O QWOZZTWBWQMEPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- FENFUOGYJVOCRY-UHFFFAOYSA-N 1-propoxypropan-2-ol Chemical compound CCCOCC(C)O FENFUOGYJVOCRY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O Ammonium Chemical compound [NH4+] QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O 0.000 claims description 2
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N monopropylene glycol Natural products CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 13
- POLCUAVZOMRGSN-UHFFFAOYSA-N dipropyl ether Chemical compound CCCOCCC POLCUAVZOMRGSN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 6
- 229940075557 diethylene glycol monoethyl ether Drugs 0.000 claims 5
- XXJWXESWEXIICW-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol monoethyl ether Chemical compound CCOCCOCCO XXJWXESWEXIICW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 4
- NUKISOAHAGPDKI-UHFFFAOYSA-N hexan-1-ol;pentan-1-ol Chemical compound CCCCCO.CCCCCCO NUKISOAHAGPDKI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 3
- JQKFLNWRTBPECK-UHFFFAOYSA-N methoxymethane;propane-1,2-diol Chemical compound COC.CC(O)CO JQKFLNWRTBPECK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- SRLXEGITXWAGGH-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxypropoxy)propan-1-ol;propane-1,2-diol Chemical compound CC(O)CO.COC(C)COC(C)CO SRLXEGITXWAGGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- YEYKMVJDLWJFOA-UHFFFAOYSA-N 2-propoxyethanol Chemical compound CCCOCCO YEYKMVJDLWJFOA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 101000878595 Arabidopsis thaliana Squalene synthase 1 Proteins 0.000 claims 1
- 241000511343 Chondrostoma nasus Species 0.000 claims 1
- 241000196324 Embryophyta Species 0.000 claims 1
- 208000009989 Posterior Leukoencephalopathy Syndrome Diseases 0.000 claims 1
- 238000001983 electron spin resonance imaging Methods 0.000 claims 1
- 150000002466 imines Chemical class 0.000 claims 1
- 239000011800 void material Substances 0.000 claims 1
- 238000005755 formation reaction Methods 0.000 description 102
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 67
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 44
- 230000035699 permeability Effects 0.000 description 37
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 22
- DIOQZVSQGTUSAI-UHFFFAOYSA-N decane Chemical compound CCCCCCCCCC DIOQZVSQGTUSAI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 21
- 238000011282 treatment Methods 0.000 description 20
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 17
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 13
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 13
- GLZPCOQZEFWAFX-UHFFFAOYSA-N Geraniol Chemical compound CC(C)=CCCC(C)=CCO GLZPCOQZEFWAFX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 12
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 12
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 12
- WCUXLLCKKVVCTQ-UHFFFAOYSA-M Potassium chloride Chemical compound [Cl-].[K+] WCUXLLCKKVVCTQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 11
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 10
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 8
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 8
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 8
- 239000004575 stone Substances 0.000 description 7
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 6
- 238000002296 dynamic light scattering Methods 0.000 description 6
- 239000012634 fragment Substances 0.000 description 6
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 6
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 6
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 6
- WCYWZMWISLQXQU-UHFFFAOYSA-N methyl Chemical class [CH3] WCYWZMWISLQXQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 6
- 239000007791 liquid phase Substances 0.000 description 5
- BKIMMITUMNQMOS-UHFFFAOYSA-N nonane Chemical compound CCCCCCCCC BKIMMITUMNQMOS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000001103 potassium chloride Substances 0.000 description 5
- 235000011164 potassium chloride Nutrition 0.000 description 5
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- QMVPMAAFGQKVCJ-UHFFFAOYSA-N citronellol Chemical compound OCCC(C)CCC=C(C)C QMVPMAAFGQKVCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000008569 process Effects 0.000 description 4
- FQTLCLSUCSAZDY-UHFFFAOYSA-N (+) E(S) nerolidol Natural products CC(C)=CCCC(C)=CCCC(C)(O)C=C FQTLCLSUCSAZDY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- NOOLISFMXDJSKH-UTLUCORTSA-N (+)-Neomenthol Chemical compound CC(C)[C@@H]1CC[C@@H](C)C[C@@H]1O NOOLISFMXDJSKH-UTLUCORTSA-N 0.000 description 3
- YFSUTJLHUFNCNZ-UHFFFAOYSA-M 1,1,2,2,3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,8-heptadecafluorooctane-1-sulfonate Chemical compound [O-]S(=O)(=O)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)F YFSUTJLHUFNCNZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CUDYYMUUJHLCGZ-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxypropoxy)propan-1-ol Chemical compound COC(C)COC(C)CO CUDYYMUUJHLCGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- NOOLISFMXDJSKH-UHFFFAOYSA-N DL-menthol Natural products CC(C)C1CCC(C)CC1O NOOLISFMXDJSKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- GLZPCOQZEFWAFX-YFHOEESVSA-N Geraniol Natural products CC(C)=CCC\C(C)=C/CO GLZPCOQZEFWAFX-YFHOEESVSA-N 0.000 description 3
- 239000005792 Geraniol Substances 0.000 description 3
- GLZPCOQZEFWAFX-JXMROGBWSA-N Nerol Natural products CC(C)=CCC\C(C)=C\CO GLZPCOQZEFWAFX-JXMROGBWSA-N 0.000 description 3
- FQTLCLSUCSAZDY-ATGUSINASA-N Nerolidol Chemical compound CC(C)=CCC\C(C)=C\CC[C@](C)(O)C=C FQTLCLSUCSAZDY-ATGUSINASA-N 0.000 description 3
- OCBFFGCSTGGPSQ-UHFFFAOYSA-N [CH2]CC Chemical compound [CH2]CC OCBFFGCSTGGPSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WUOACPNHFRMFPN-UHFFFAOYSA-N alpha-terpineol Chemical compound CC1=CCC(C(C)(C)O)CC1 WUOACPNHFRMFPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CADWTSSKOVRVJC-UHFFFAOYSA-N benzyl(dimethyl)azanium;chloride Chemical compound [Cl-].C[NH+](C)CC1=CC=CC=C1 CADWTSSKOVRVJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 3
- 239000008367 deionised water Substances 0.000 description 3
- 229910021641 deionized water Inorganic materials 0.000 description 3
- SQIFACVGCPWBQZ-UHFFFAOYSA-N delta-terpineol Natural products CC(C)(O)C1CCC(=C)CC1 SQIFACVGCPWBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000010790 dilution Methods 0.000 description 3
- 239000012895 dilution Substances 0.000 description 3
- SNRUBQQJIBEYMU-UHFFFAOYSA-N dodecane Chemical compound CCCCCCCCCCCC SNRUBQQJIBEYMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000005553 drilling Methods 0.000 description 3
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- 229940113087 geraniol Drugs 0.000 description 3
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 3
- 229940041616 menthol Drugs 0.000 description 3
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 3
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WASNIKZYIWZQIP-AWEZNQCLSA-N nerolidol Natural products CC(=CCCC(=CCC[C@@H](O)C=C)C)C WASNIKZYIWZQIP-AWEZNQCLSA-N 0.000 description 3
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N nitrogen Substances N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZQPPMHVWECSIRJ-KTKRTIGZSA-N oleic acid group Chemical group C(CCCCCCC\C=C/CCCCCCCC)(=O)O ZQPPMHVWECSIRJ-KTKRTIGZSA-N 0.000 description 3
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 3
- 229940116411 terpineol Drugs 0.000 description 3
- RSJKGSCJYJTIGS-UHFFFAOYSA-N undecane Chemical compound CCCCCCCCCCC RSJKGSCJYJTIGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QMVPMAAFGQKVCJ-SNVBAGLBSA-N (R)-(+)-citronellol Natural products OCC[C@H](C)CCC=C(C)C QMVPMAAFGQKVCJ-SNVBAGLBSA-N 0.000 description 2
- REEBJQTUIJTGAL-UHFFFAOYSA-N 3-pyridin-1-ium-1-ylpropane-1-sulfonate Chemical compound [O-]S(=O)(=O)CCC[N+]1=CC=CC=C1 REEBJQTUIJTGAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZHZPKMZKYBQGKG-UHFFFAOYSA-N 6-methyl-2,4,6-tris(trifluoromethyl)oxane-2,4-diol Chemical compound FC(F)(F)C1(C)CC(O)(C(F)(F)F)CC(O)(C(F)(F)F)O1 ZHZPKMZKYBQGKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LZZYPRNAOMGNLH-UHFFFAOYSA-M Cetrimonium bromide Chemical compound [Br-].CCCCCCCCCCCCCCCC[N+](C)(C)C LZZYPRNAOMGNLH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 2
- GOOHAUXETOMSMM-UHFFFAOYSA-N Propylene oxide Chemical compound CC1CO1 GOOHAUXETOMSMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229960000686 benzalkonium chloride Drugs 0.000 description 2
- UREZNYTWGJKWBI-UHFFFAOYSA-M benzethonium chloride Chemical compound [Cl-].C1=CC(C(C)(C)CC(C)(C)C)=CC=C1OCCOCC[N+](C)(C)CC1=CC=CC=C1 UREZNYTWGJKWBI-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- JGQFVRIQXUFPAH-UHFFFAOYSA-N beta-citronellol Natural products OCCC(C)CCCC(C)=C JGQFVRIQXUFPAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920006317 cationic polymer Polymers 0.000 description 2
- 235000000484 citronellol Nutrition 0.000 description 2
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 2
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 2
- 230000004927 fusion Effects 0.000 description 2
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 2
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 2
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 2
- 229940087305 limonene Drugs 0.000 description 2
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N methane Chemical compound C VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- QZHDEAJFRJCDMF-UHFFFAOYSA-N perfluorohexanesulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)F QZHDEAJFRJCDMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SNGREZUHAYWORS-UHFFFAOYSA-N perfluorooctanoic acid Chemical compound OC(=O)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)F SNGREZUHAYWORS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000002203 pretreatment Methods 0.000 description 2
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 2
- 230000000750 progressive effect Effects 0.000 description 2
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 2
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 2
- JNYAEWCLZODPBN-JGWLITMVSA-N (2r,3r,4s)-2-[(1r)-1,2-dihydroxyethyl]oxolane-3,4-diol Chemical class OC[C@@H](O)[C@H]1OC[C@H](O)[C@H]1O JNYAEWCLZODPBN-JGWLITMVSA-N 0.000 description 1
- DNIAPMSPPWPWGF-GSVOUGTGSA-N (R)-(-)-Propylene glycol Chemical compound C[C@@H](O)CO DNIAPMSPPWPWGF-GSVOUGTGSA-N 0.000 description 1
- JDSQBDGCMUXRBM-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(2-butoxypropoxy)propoxy]propan-1-ol Chemical compound CCCCOC(C)COC(C)COC(C)CO JDSQBDGCMUXRBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethanol Chemical compound CCOCCO ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QMGYGZCGWOKPGR-UHFFFAOYSA-N 3-(4-tert-butylpyridin-1-ium-1-yl)propane-1-sulfonate Chemical compound CC(C)(C)C1=CC=[N+](CCCS([O-])(=O)=O)C=C1 QMGYGZCGWOKPGR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UMCMPZBLKLEWAF-BCTGSCMUSA-N 3-[(3-cholamidopropyl)dimethylammonio]propane-1-sulfonate Chemical compound C([C@H]1C[C@H]2O)[C@H](O)CC[C@]1(C)[C@@H]1[C@@H]2[C@@H]2CC[C@H]([C@@H](CCC(=O)NCCC[N+](C)(C)CCCS([O-])(=O)=O)C)[C@@]2(C)[C@@H](O)C1 UMCMPZBLKLEWAF-BCTGSCMUSA-N 0.000 description 1
- MEJASPJNLSQOAG-UHFFFAOYSA-N 3-[benzyl(dimethyl)azaniumyl]propane-1-sulfonate Chemical compound [O-]S(=O)(=O)CCC[N+](C)(C)CC1=CC=CC=C1 MEJASPJNLSQOAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DHMQDGOQFOQNFH-UHFFFAOYSA-M Aminoacetate Chemical compound NCC([O-])=O DHMQDGOQFOQNFH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N Ammonium chloride Substances [NH4+].[Cl-] NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N Ammonium hydroxide Chemical compound [NH4+].[OH-] VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 108010000916 Fimbriae Proteins Proteins 0.000 description 1
- PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N Fluorine Chemical compound FF PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 108010067035 Pancrelipase Proteins 0.000 description 1
- 241000779819 Syncarpia glomulifera Species 0.000 description 1
- DNCIILIMQUEGQH-UHFFFAOYSA-N [Cl-].[Cl-].C(CCCCCCCCCCCCCCCCC)[NH2+]CCCCCCCCCCCCCCCCCC.C(CCCCCCCCCCCCCCCCC)[NH2+]CCCCCCCCCCCCCCCCCC Chemical compound [Cl-].[Cl-].C(CCCCCCCCCCCCCCCCC)[NH2+]CCCCCCCCCCCCCCCCCC.C(CCCCCCCCCCCCCCCCC)[NH2+]CCCCCCCCCCCCCCCCCC DNCIILIMQUEGQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007792 addition Methods 0.000 description 1
- 230000001476 alcoholic effect Effects 0.000 description 1
- 150000003973 alkyl amines Chemical class 0.000 description 1
- 230000004075 alteration Effects 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000019270 ammonium chloride Nutrition 0.000 description 1
- 239000000908 ammonium hydroxide Substances 0.000 description 1
- 125000000129 anionic group Chemical group 0.000 description 1
- 239000010426 asphalt Substances 0.000 description 1
- 230000004323 axial length Effects 0.000 description 1
- 229960001950 benzethonium chloride Drugs 0.000 description 1
- 229960003237 betaine Drugs 0.000 description 1
- 239000001273 butane Substances 0.000 description 1
- SFROHDSJNZWBTF-UHFFFAOYSA-N butane;ethane;propane Chemical compound CC.CCC.CCCC SFROHDSJNZWBTF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000747 cardiac effect Effects 0.000 description 1
- 239000004359 castor oil Substances 0.000 description 1
- 235000019438 castor oil Nutrition 0.000 description 1
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 1
- 125000002091 cationic group Chemical group 0.000 description 1
- 238000005119 centrifugation Methods 0.000 description 1
- 229960000800 cetrimonium bromide Drugs 0.000 description 1
- 229960004830 cetylpyridinium Drugs 0.000 description 1
- 238000012512 characterization method Methods 0.000 description 1
- 239000004927 clay Substances 0.000 description 1
- MRUAUOIMASANKQ-UHFFFAOYSA-N cocamidopropyl betaine Chemical compound CCCCCCCCCCCC(=O)NCCC[N+](C)(C)CC([O-])=O MRUAUOIMASANKQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940073507 cocamidopropyl betaine Drugs 0.000 description 1
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 1
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 1
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 1
- 229940092125 creon Drugs 0.000 description 1
- PSLWZOIUBRXAQW-UHFFFAOYSA-M dimethyl(dioctadecyl)azanium;bromide Chemical compound [Br-].CCCCCCCCCCCCCCCCCC[N+](C)(C)CCCCCCCCCCCCCCCCCC PSLWZOIUBRXAQW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000003628 erosive effect Effects 0.000 description 1
- AINBZKYUNWUTRE-UHFFFAOYSA-N ethanol;propan-2-ol Chemical compound CCO.CC(C)O AINBZKYUNWUTRE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010433 feldspar Substances 0.000 description 1
- 238000003682 fluorination reaction Methods 0.000 description 1
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 description 1
- 238000009472 formulation Methods 0.000 description 1
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 1
- ZEMPKEQAKRGZGQ-XOQCFJPHSA-N glycerol triricinoleate Natural products CCCCCC[C@@H](O)CC=CCCCCCCCC(=O)OC[C@@H](COC(=O)CCCCCCCC=CC[C@@H](O)CCCCCC)OC(=O)CCCCCCCC=CC[C@H](O)CCCCCC ZEMPKEQAKRGZGQ-XOQCFJPHSA-N 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000014759 maintenance of location Effects 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N n-pentane Natural products CCCCC OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 description 1
- 229910052755 nonmetal Inorganic materials 0.000 description 1
- TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N octane Chemical compound CCCCCCCC TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SMGTYJPMKXNQFY-UHFFFAOYSA-N octenidine dihydrochloride Chemical compound Cl.Cl.C1=CC(=NCCCCCCCC)C=CN1CCCCCCCCCCN1C=CC(=NCCCCCCCC)C=C1 SMGTYJPMKXNQFY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003002 pH adjusting agent Substances 0.000 description 1
- UZUFPBIDKMEQEQ-UHFFFAOYSA-N perfluorononanoic acid Chemical compound OC(=O)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)F UZUFPBIDKMEQEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940089951 perfluorooctyl triethoxysilane Drugs 0.000 description 1
- 239000001739 pinus spp. Substances 0.000 description 1
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 1
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- ROSDSFDQCJNGOL-UHFFFAOYSA-N protonated dimethyl amine Natural products CNC ROSDSFDQCJNGOL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- 125000001453 quaternary ammonium group Chemical group 0.000 description 1
- 238000011084 recovery Methods 0.000 description 1
- 238000004064 recycling Methods 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 239000004576 sand Substances 0.000 description 1
- 229930195734 saturated hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 238000002791 soaking Methods 0.000 description 1
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 239000003760 tallow Substances 0.000 description 1
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 150000003568 thioethers Chemical class 0.000 description 1
- AVYKQOAMZCAHRG-UHFFFAOYSA-N triethoxy(3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,8-tridecafluorooctyl)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)F AVYKQOAMZCAHRG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940036248 turpentine Drugs 0.000 description 1
- 230000005514 two-phase flow Effects 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
- 238000009941 weaving Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
- C09K8/00—Compositions for drilling of boreholes or wells; Compositions for treating boreholes or wells, e.g. for completion or for remedial operations
- C09K8/58—Compositions for enhanced recovery methods for obtaining hydrocarbons, i.e. for improving the mobility of the oil, e.g. displacing fluids
- C09K8/588—Compositions for enhanced recovery methods for obtaining hydrocarbons, i.e. for improving the mobility of the oil, e.g. displacing fluids characterised by the use of specific polymers
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
- C09K8/00—Compositions for drilling of boreholes or wells; Compositions for treating boreholes or wells, e.g. for completion or for remedial operations
- C09K8/52—Compositions for preventing, limiting or eliminating depositions, e.g. for cleaning
- C09K8/524—Compositions for preventing, limiting or eliminating depositions, e.g. for cleaning organic depositions, e.g. paraffins or asphaltenes
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
- C09K8/00—Compositions for drilling of boreholes or wells; Compositions for treating boreholes or wells, e.g. for completion or for remedial operations
- C09K8/58—Compositions for enhanced recovery methods for obtaining hydrocarbons, i.e. for improving the mobility of the oil, e.g. displacing fluids
- C09K8/584—Compositions for enhanced recovery methods for obtaining hydrocarbons, i.e. for improving the mobility of the oil, e.g. displacing fluids characterised by the use of specific surfactants
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
- C09K8/00—Compositions for drilling of boreholes or wells; Compositions for treating boreholes or wells, e.g. for completion or for remedial operations
- C09K8/60—Compositions for stimulating production by acting on the underground formation
-
- E—FIXED CONSTRUCTIONS
- E21—EARTH OR ROCK DRILLING; MINING
- E21B—EARTH OR ROCK DRILLING; OBTAINING OIL, GAS, WATER, SOLUBLE OR MELTABLE MATERIALS OR A SLURRY OF MINERALS FROM WELLS
- E21B43/00—Methods or apparatus for obtaining oil, gas, water, soluble or meltable materials or a slurry of minerals from wells
- E21B43/25—Methods for stimulating production
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
- C09K2208/00—Aspects relating to compositions of drilling or well treatment fluids
- C09K2208/10—Nanoparticle-containing well treatment fluids
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
- C09K2208/00—Aspects relating to compositions of drilling or well treatment fluids
- C09K2208/22—Hydrates inhibition by using well treatment fluids containing inhibitors of hydrate formers
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- General Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Mining & Mineral Resources (AREA)
- Geology (AREA)
- Fluid Mechanics (AREA)
- Environmental & Geological Engineering (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Oil, Petroleum & Natural Gas (AREA)
- Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
- Emulsifying, Dispersing, Foam-Producing Or Wetting Agents (AREA)
- Silicates, Zeolites, And Molecular Sieves (AREA)
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
- Filling Or Discharging Of Gas Storage Vessels (AREA)
- Underground Structures, Protecting, Testing And Restoring Foundations (AREA)
Abstract
يوفر الاختراع الحالي طرق وأنظمة للحد من تراكم ناتج تكثيف condensate. في بعض النماذج، تتضمن الطرق والأنظمة تغيير قابلية ترطيب تكوين صخري بالقرب من حفرة البئر wellbore لخزان ناتج تكثيف الغاز gas condensate reservoir. شكل1
Description
الحد من تراكم ناتج تكثيف باستخدام تعديل سطحي MITIGATION OF CONDENSATE BANKING USING SURFACE MODIFICATION الوصف الكامل
خلفية الاختراع
يتعلق الطلب بشكل عام بطرق وأنظمة لتقليل من تراكم ناتج التكثيف .condensate
تحتوي خزانات ناتج تكثيف الغاز Gas condensate reservoirs على كمية مقدرة من احتياطيات
الغاز وناتج التكثيف السائل gas and liquid condensate والتي تكون حيوية لزيادة الطلب العالمي لموارد الطاقة energy resources في خزانات ناتج تكثيف الغازء عادة ما يكون ضغط الخزان
الأولي فوق ضغط نقطة الندى حيث يكون هناك فقط طور واحد في الخزان» أي طور الغاز gas
phase أثناء الإنتاج؛ يقع في النهاية ضغط قاع ll في بئر الإنتاج أقل من نقطة الندى. نتيجة
لذلك»؛ يتم تكثيف الهيدروكريونات الثقيلة heavy hydrocarbons (على سبيل المثال تتضمن
الهيدروكربونات الثقيلة وزن molecular weight er لأكبر من 30 جم/ مول) لطور سائل
phase 0 ندونا. يتراكم هذا الطور السائل بشكل شائع في حيزات المسام في المنطقة dll من حفرة البثر cwellbore مما يؤدي إلى ما يعرف بشكل شائع ب 'تراكم ناتج التكثيف". يتم احتجاز ناتج التكثيف بواسطة القوى الشعيرية capillary forces أو يتم احتجازه في الصخور نتيجة لحركية السائل الضعيفة. يمكن أن يسب هذا الانسداد لناتج التكثيف حول حفرة dl انخفاض في إنتاجية البثر بواسطة عامل اثنين أو أكثر.
5 .تم تطوير تقنيات متعددة في محاولة للتخفيف من تراكم ناتج التكثيف. تتضمن احدى التقنيات الحفاظ على ضغط الخزان el من ضغط نقطة الندى بواسطة غاز sale) التدوير recycling gas من ناحية (gal يتم تقييد حجم غاز قابل لإعادة الدوران recyclable gas ولا يمكن أن تحتفظ هذه الطريقة دائماً بضغط الخزان عالياً بصورة كافية. تشتمل الأساليب الأخرى على حفر آبار أفقية horizontal wells وتكسير هيدرولي hydraulic fracturing تكون هذه الحلول المؤقتة مكلفة Cus
0 تتطلب seal الحفر rigs 0:711108. من ثم هناك حاجة لتحسين الطرق والأنظمة المحسنة للتخفيف من تراكم ناتج التكثيف. يتعلق الطلب الدولي رقم 2011086361 بموائع مفيدة لعمليات تحت سطح الأرض» ويشكل أكثر تحديداً بموائع مُعالجة treatment fluids تشتمل على عوامل خفض توتر سطحي surfactants
وبوليمرات ذوابة بالماء cwater soluble polymers وطرق لاستخدام موائع المُعالجة المذكورة لمعالجة
تكوينات طينية صفحية منخفضة الإنفاذية .low permeability shale formations
يتعلق الطلب الدولي رقم 2015171596 بتركيبة وطرق لتحسين استخلاص الهيدروكربون أثناء
عملية إنتاج الهيدروكريون. بشكل أكثر تحديداً» يتعلق هذا الاختراع بتركيبة وطريقة لزيادة نقطة
الوميض flash point لمواد تحويل كيميائية قابلة للترطيب wettability alteration chemicals يتم
إضافتها إلى أبار الحقن .injection wells
الوصف العام للاختراع
يوفر الطلب الحالي استراتيجيات للحد من تراكم ناتج التكثيف بالقرب من حفر البئر 61100:85».
تشتمل نماذج الطلب الحالي على طرق وأنظمة والتي يتم استخدامها لتغيير قابلية ترطيب التكوين 0 الصخري ومن ثم الحد من تراكم التكثيف. في بعض النماذج؛ تتضمن الطرق التعديلات
المورفولوجية للتكوين الصخري باستخدام جسيمات (على سبيل المثال جسيمات نانو
(nanoparticles في توليفة مع المعالجة المسبقة الكيميائية للتكوين الصخري.
في أحد الجوانب» يوفر الطلب الحالي طرق للحد من تراكم ناتج التكثيف بالقرب من حفرة Sal
لخزان ناتج تكثيف الغاز cgas condensate reservoir والتي تشتمل على ملامسة تكوين صخري 5 بالقرب من حفرة البثر لخزان ناتج تكثيف الغاز مع محلول بوليمري polymer solution في بعض
النماذج؛ يشتمل المحلول البوليمري على بوليمر مشحون charged polymer بشحنة صافية net
charge أولى؛ مما يشكل تكوين صخري (Jane وملامسة التكوين الصخري المعدل مع مستعلق
الجسيم suspension 08:1116. في بعض النماذج؛ يشتمل محلول الجسيم particle solution على
جسيمات مشحونة charged particles بشحنة صافية Cua (dnl تكون الشحنات الصافية net IY) charges 20 والثانية متقابلة.
في بعض النماذج؛ يتم شحن البوليمر المشحون بصورة موجبة في محلول البوليمر (البوليمر
الكاتيوني (cationic polymer ويتم شحن الجسيمات المشحونة بصورة سالبة في مستعلق الجسيم
(الجسيمات الأيونية (anionic particles في بعض النماذج؛ يشتمل البوليمر المشحون على العديد
من مجموعات الأمين amine groups في بعض النماذج؛ يشتمل البوليمر المشحون على العديد 5 من مجموعات ١ لأمونيوم oly) العناصر quaternary ammonium groups في بعض النماذج؛
يكون البوليمر المشضحون بوليمر قابل لأن يكون رياعي العناصر quaternizable polymer تم
تحضيره بواسطة بلمرة فينيل إيميدازول vinylimidazole مع vinyl Jad أو أكربليك acrylic أو كل من المونومرات monomers في بعض النماذج؛ يكون البوليمر المشحون بولي كواتيرنيوم -polyquaternium في بعض النماذج؛ يكون البوليمر المشضحون بولي إيثيلين إيمين polyethylenimine (يشضتمل على مشتقات وظيفية functionalized derivatives لبولي إيثيلين إيمين). في بعض النماذج؛ يتضمن محلول البوليمر رقم هيدروجيني في مدى 5 إلى 10؛ على سبيل المثال في مدى حوالي 7 إلى حوالي 10. في بعض النماذج؛ يتضمن البوليمر المشحون متوسط عددي لوزن Si داخل مدى حوالي 120 إلى حوالي 0 جرام لكل مول على سبيل المثال» داخل مدى حوالي 300 إلى حوالي 10000 جرام لكل مول. في بعض النماذج؛ يوجد البوليمر المشحون في محلول البوليمر بكمية والتي تتراوح من حوالي 0.01 حجم 7 إلى 0 حوالي 10 حجم of على سبيل المثال في مدى حوالي 0.1 حجم MT حوالي 5 حجم 7. في بعض النماذج؛ تشتمل الجسيمات المشحونة على الجسيمات المشحونة بصورة سالبة negatively charged particles على سبيل المثال سيليكا مشحونة negatively charged Lula «silica زركونيا «zirconia أو جسيمات نانو تيتانيوم titanium nanoparticles في بعض النماذج؛ يتم تعديل الجسيمات المشضحونة Lita مع مجموعات تحتوي على فلور fluorine في بعض 5 النماذج؛ تتضمن الجسيمات المشحونة على متوسط قطر في مدى حوالي 30 نانومتر إلى حوالي 0 نانومتر؛ على سبيل المثال في مدى حوالي30 نانومتر إلى حوالي 500 نانومتر. في بعض cr lai توجد الجسيمات المشحونة في مستعلق الجسيم بكمية تتراوح من حوالي 0.01 وزن / إلى حوالي 10 وزن oT على سبيل المثال في مدى حوالي 0.02 وزن 7 إلى حوالي 1.0 وزن 7. في بعض النماذج؛ يشتمل محلول البوليمر على مذيب solvent مختار من المجموعة التي تتكون 0 من إيثانول ethanol أيزوبروبانول «isopropanol إيثيلين جليكول cethylene glycol بيوتانول cbutanol 2-بيوتوكسي إيثانول 2-butoxyethanol بيوتيل 1زان؛ كربيتول ccarbitol بنتانول لمصقادءم هكسائول chexanol كحولات تيريين terpene alcohols (مثل تيربينيول cterpineol جيرانيول ¢geraniol ستروتنيلول ccitronellol نيرول ¢nerol منثول «menthol نيروليدول 001 تيرينتين turpentine ©-ليمونين عصدعدمصنا-©؛ وفرنيزول (farnesol مذيب PROPYL CELLOSOLVE™ 5 (إثير مونو -«-بروييل جليكول إيثيلين Ethylene Glycol Mono- «(n-propyl Ether مذيب METHYL CARBITOL™ (إثير مونو إيثيل جليكول داي إيثيلين
«(Diethylene Glycol Monoethyl Ether إثير جليكول DOWANOL™ DPM (إثير ميثيل جليكول داي بروبيلين «(Dipropylene Glycol Methyl Ether إثير جليكول DOWANOL™ PnP (إثير Jug yn جليكول (Propylene Glycol n-Propyl Ether (lug yn وتوليفات من ذلك ٠ في بعض النماذج؛ يشتمل مستعلق الجسيم على مذيب مختار من المجموعة التي تتكون من إيثانول» أيزوبروبانول؛ إيثيلين جليكول» بيوتانول» 2-بيوتوكسي إيثانول» بيوتيل» كربيتول» PROPYL «CELLOSOLVE™ مذيب ¢METHYL CARBITOL™ مذيب (DOWANOL™ DPM إثير جليكول DOWANOL™ PrP وتوليفات من ذلك. في بعض النماذج؛ تشتمل مستعلقات الجسيم
particle suspensions الأولى على نفس المذيب أو توليفة من المذيبات. في بعض النماذج؛ يشتمل البوليمر المشحون على العديد من مجموعات الأمين المشحون بصورة
0 موجبة charged amine groups 00810761 على سبيل المثال بولي إيثيلين إيمين وتكون الجسيمات المشحونة بصورة سالبة على سبيل المتال جسيمات سيليكا معالجة بالفلور fluorinated .silica particles في بعض النماذج, يتم شحن التكوين الصخري بصورة سالبة قبل أن تتم ملامسته مع محلول البوليمر. في بعض النماذج؛ يكون التكوين الصخري تكوين حجر رملي.
5 في بعض النماذج؛ تشتمل الطرق أيضاً على ملامسة التكوين الصخري المعدل مع محلول مادة خافضة للتوتر السطحي يشتمل على مادة خافضة للتوتر السطحي ٠ في بعض النماذج؛ تشتمل الطرق أيضاً على ملامسة التكوين الصخري المعدل مع محلول sale خافضة للتوتر السطحي surfactant solution يشتمل على sale خافضة للتوتر السطحي قبل ملامسة التكوين الصخري مع مستعلق الجسيم. في بعض النماذج؛ تشتمل الطرق أيضاً على ملامسة التكوين الصخري المعدل
20 مع محلول المادة الخافضة للتوتر السطحي الذي يشتمل على مادة خافضة للتوتر السطحي أثناء ملامسة التكوين الصخري مع مستعلق الجسيم. في بعض النماذج؛ تشتمل الطرق أيضاً على ملامسة التكوين الصخري المعدل مع محلول مادة خافضة للتوتر السطحي يشتمل على مادة خافضة للتوتر السطحي بعد ملامسة التكوين الصخري مع مستعلق الجسيم. في بعض النماذج؛ توجد المادة الخافضة للتوتر السطحي في محلول المادة الخافضة للتوتر السطحي في كمية تتراوح
5 من حوالي 1 وزن 7 إلى حوالي 0 وزن 7 . في بعض النماذج؛ يشتمل محلول المادة الخافضة للتوتر المسطحي على ude مختار من المجموعة التي تتكون من إيثانول؛ أيزوبروبانول» إيثيلين
جليكول؛ بيوتانول» 2 بيوتوكسي إيثانول» بيوتيل كربيتول؛ بنتانول» هكسانول؛ كحولات تيربين؛
CELLOSOLVE™ Solvent, METHYL CARBITOL™ Solvent, DOWANOL™ DPM Glycol Ether, DOWANOLT PnP Glycol Ether وتوليفات من ذلك. في جانب آخرء يوفر الاختراع الحالي أنظمة للحد من تراكم ناتج التكثيف بالقرب من حفرة البثر لخزان ناتج تكثيف الغازء ally تشتمل على حاوية أولى أو مصدر محلول البوليمر الذي يشتمل على بوليمر مشحون بشحنة صافية أولى» وحاوية ثانية أو مصدر مستعلق الجسيم الذي يشتمل على جسيمات مشحونة بشحنة صافية ثانية. في بعض النماذج؛ تكون الشحنات الصافية الأولى والثانية متقابلة؛ أنابيب conduits لإدخال محلول البوليمر ومستعلق الجسيم داخل نفس التكوين الصخري بالقرب من حفرة البثر لخزان ناتج تكثيف الغاز. 0 في بعض النماذج؛ يشتمل النظام أيضاً على حاوية ثالثة أو مصدر محلول مادة خافضة للتوتر السطحي الذي يشتمل على مادة خافضة للتوتر السطحي وقناة conduit لإدخال محلول المادة الخافضة للتوتر السطحي Jala التكوين الصخري بالقرب من حفرة البثر لخزان ناتج تكثيف الغاز. في جاتب AT يوفر الطلب الحالي تكوينات صخرية معالجة كيميائياً chemically treated rock 5 محضرة باستخدام الطرق الموصوفة في الطلب الحالي. في بعض النماذج؛ يكون 5 التكوين الصخري المعالج كيميائياً غير الآلف للكل .omniphobic في بعض النماذج؛ يتضمن التكوين الصخري المعالج Tala حركية قطرة صغيرة أكبر للماء والزيت نسبة إلى التكوين الصخري غير المعالج non-treated rock formation في بعض النماذج؛ يتضمن التكوين الصخري المعالج كيميائياً نفاذية نسبية للغاز (Kr) gas relative permeability أكبر نسبة إلى التكوين الصخري غير المعالج. في بعض النماذج؛ يتضمن التكوين الصخري المعالج كيميائياً 0 تحسن للنفاذية النسبية للغاز بواسطة عامل يصل إلى حوالي 5.0 نسبة إلى التكوين الصخري غير المعالج. في بعض النماذج؛ يتضمن التكوين الصخري المعالج كيميائياً نفاذية نسبية لناتج تكثيف السائل (Koo) liquid condensate relative permeability أكبر نسبة إلى التكوين الصخري غير المعالج. في بعض النماذج؛ يتضمن التكوين الصخري المعالج كيميائياً تحسن في النفاذية النسبية لناتج التكثيف السائل بعامل يصل إلى حوالي 5.0 نسبة إلى التكوين الصخري غير المعالج. في 5 بعض النماذج؛ تكون زاوية تلامس contact angle الماء منزوع الأيونات على سطح التكوين (gia al المعالج كيميائياً في مدى حوالي 60 إلى حوالي 160 درجة. في بعض النماذج؛ تكون
زاوية تلامس 2 وزن 7 من كلوريد البوتاسيوم (KCl) potassium chloride المائي على سطح التكوين الصخري المعالج كيميائياً في مدى حوالي 60 إلى حوالي 160 درجة. في بعض النماذج؛ تكون زاوية تلامس ديكان على سطح التكوين الصخري المعالج كيميائياً في مدى حوالي 40 إلى حوالي 160 درجة. التعريفات حتى يتم فهم الطلب الحالي بشكل أكثر سهولة؛ يتم تحديد المصطلحات المعينة المستخدمة في الطلب الحالي كما يلي. يمكن ذكر تعريفات إضافية للمصطلحات التالية وغيره من المصطلحات على مدار الوصف. كما تم استخدامه في هذا الطلب؛ لا يهدف مصطلح comprise’ وتغيرات المصطلح؛ مثل "comprising 0 و "comprises’ إلى استبعاد مواد إضافة؛ (liga أعداد صحيحة أو خطوات أخرى. في هذا الطلب؛ حيث يتم توفير مديات؛ يتم تضمين نقاط نهائية. في هذا الطلب؛ (Sa فهم مصطلح "د" ليعني 'واحد على الأقل" ما لم يتضح غير ذلك من السياق. مرتبط: في بعض النماذج؛ يتم ربط اثنين أو أكثر من الكيانات فيزيائياً ببعخهما البعض إذا اندمجاء مباشرة أو بشكل غير ale حتى تكون و/أو تبقى في جوار فيزيائي مع بعضها البعض. 5 في بعض ep Sail) يتم ربط اثنين أو أكثر من الكيانات التي يتم ربطها فيزيائياً ببعضها البعض تساهمياً ببعضها البعض» في بعض النماذج؛ لا يتم ربط تساهمياً اثنين أو أكثر من الكيانات التي يتم ربطها فيزيائياً ببعضها البعض ببعضها البعض ولكن يتم ربطها بشكل غير تساهمي؛ على سبيل المثال بواسطة روابط الهيدروجين bonds 0570:0860 اندماج evan der Waals الاندماجات غير الآلفة تلماء chydrophobic interactions الاندماجات الكهروستاتية electrostatic cinteractions 0 وتوليفات من ذلك. بالقرب من حفرة البثر: كما تم استخدامه في هذا الطلبء يشير مصطلح Cl من حفرة البئر" إلى منطقة تكوين صخري في أو حول Bis بئر. في بعض er dal يشير "بالقرب من حفرة البئر" إلى منطقة حيث يمكن أن يظهر تراكم ناتج التكثيف أو يتضمن الاحتمالية للظهور. في بعض النماذج» يشير 'بالقرب من حفرة البئثر” إلى مسافة والتي تكون أقل من 35 متر من حفرة البثر 5 (على سبيل المثال أقل من 30؛ أقل من 25 أقل من 20 أقل من 15 أقل من 10 أو أقل من 5 متر من حفرة (A
جسيمات نانو: كما تم استخدامه في هذا الطلب؛ يشير مصطلح " جسيمات نانو' إلى جسيمات والتي تتضمن قطاع عرضي متوسط على سبيل المثال قطر متوسط» يصل إلى 1000 نانومتر. في بعض النماذج؛ يتم قياس القطاع العرضي المتوسط بواسطة تشتت الضوء الدينامي dynamic (DLS) light scattering على سبيل المثال على أساس توزيع شدة الاستطارة المقاس بواسطة التحليل الطيفي لربط الفوتون correlation spectroscopy 010100. في بعض النماذج» تتضمن جسيمات النانو متوسط قطر أقل من 300 نانومترء على سبيل المثال» قطر متوسط أقل من 100 نانومتر. غير الآلف للكل: كما تم استخدامه في هذا الطلب؛ يشير مصطلح " غير الآلف للكل" إلى السطح الذي يكون مرطب إلى مائي بالإضافة إلى أطوار أولييك oleic أو هيدروكربون “hydrocarbon 0 بعض ez Sal يطرد سطح غير الآلف للكل واحد أو أكثر من أطوار السائل» مما يحسن النفاذية dull للغاز أو النفاذية النسبية للسائل أو كل من النفاذية النسبية للغاز والسائل. إلى حد كبير: كما تم استخدامه هناء يشير مصطلح "إلى حد كبير" إلى الحالة الكمي لعرض إجمالي أو الحد غير الإجمالي أو درجة الخاصية أو الخاصية موضع الاهتمام. شرح مختصر. للرسومات 5 يصور شكل 1 قياسات زاوية التلامس للماء وديكان على سطح زجاج glass surface وسطح حجر رملي sandstone surface والذي تمت معالجتها بطريقة الطلب الحالي. تمت معالجة ا لأسطح ب بولي إيثيلين إيمين وظيفي (fPEI) functionalized polyethylenimine و 5 نائومتر تانوجسيمات. يصور شكل 2 قياسات زاوية التلامس لديكان على أسطح الحجر الرملي sandstone surfaces 0 المعالجة بطريقة الطلب الحالي. تمت معالجة الأسطح ب 135 نانومتر من الجسيمات أو 180 نانومتر من جسيمات النانو. شكل 3 عبارة عن رسم بياني يوضح توزيعات حجم الجسيم للجسيمات النانو التمثيلية غير المعالجة يالفلور (ASI) والمعالجة بالفلور. شكل 4 عبارة عن رسم بياني يصور هبوط ضغط تمثيلي خلال حقن الغاز قبل وبعد المعالجة 5 الكيميائية chemical treatment التمثيلية المزودة بواسطة الطلب الحالي. الوصف التفصيلي:
على مدار الوصف؛ Gus يتم وصف الطرق على أنها تتضمن؛ تشتمل على أو تشمل خطوات
محددة؛ أو حيث يتم وصف الأنظمة على أنها تتضمن؛ تشمل أو تشتمل على مكونات محددة؛ يتم
تصور أنه بالإضافة إلى ذلك؛ هناك طرق وفقاً للطلب الحالي الذي يتكون بشكل ضروري من أو
يتكون من خطوات المعالجة المسرودة؛ وأن هناك أنظمة الطلب الحالي الذي يتكون بشكل ضروري
منء أو يتكون من المكونات المسرودة.
ينبغي فهم أن ترتيب الخطوات أو الترتيب لتنفيذ الأعمال المعينة يكون غير مادي طالما أن الطريقة
أو النظام يبقى قابل التشغيل. علاوة على ذلك؛ يمكن تنفيذ اثنين أو أكثر من الخطوات أو الأعمال
لا يكون الذكر هنا لأي منشور على سبيل المثال في قسم الخلفية إقرار بأن المنشور يخدم كمجال 0 سابق فيما يتعلق sh من عناصر الحماية المقدمة هنا. يتم تقديم قسم الخلفية فقط لأغراض
التوضيح ولا يعني وصف المجال السابق فيما يتعلق بأي عنصر حماية.
يشتمل الطلب الحالي على نظرة بأن المعالجات الكيميائية chemical treatments المعينة للتكوين
الصخري بالقرب من حفرة ll يمكن استخدامها لتعزيز معدلات إنتاجية ناتج التكثيف والغاز من
خزان بواسطة خفض هبوط الضغط خلال إنتاج الغاز. أيضاً؛ في بعض النماذج؛ يوفر الطلب 5 الحالي نظرات والتي تسمح بالمعالجات الكيميائية المحسنة للتكوينات الصخرية المعينة (على سبيل
JU تكوينات حجر (oy والتي تتضمن خواص فيزيائية كيميائية فريدة. في بعض النماذج؛ تغير
المعالجات الكيميائية المقدمة هنا قابلية ترطيب التكوين الصخري. على سبيل المثال؛ في نماذج
معينة؛ تقلل المعالجات الكيميائية للطلب الحالي قابلية ترطيب التكوين الصخي للماء أو الزيت.
في بعض النماذج؛ يتم خفض قابلية ترطيب التكوين الصخري إلى الماء أو الزيت بواسطة تزويد 0 خشونة السطح للتكوين الصخري. Yay من ذلك أو بالإضافة cad) يمكن خفض قابلية ترطيب
التكوين الصخري للماء أو الزبت بواسطة تقليل الطاقة الخالية من السطح للتكوين الصخري.
في بعض النماذج؛ يمتلك التكوين الصخري المعرض للمعالجة الكيميائية وفقاً لطرق الطلب الحالي
شحنة صافية eo) سبيل المثال شحنة سالبة (negative charge في بعض النماذج؛ يكون
التكوين الصخري تكوين حجر رملي. في بعض النماذج؛ يشتمل التكوين الصخري على كوارتز cquartz 5 فلدسبار feldspar أو clay Jib
طرق لتعديل تكوين صخري
في نماذج معينة؛ تستخدم الطرق المزودة بالطلب الحالي محلول بوليمري لتعديل تكوين صخري بالقرب من حفرة بثر لخزان ناتج التكثيف. في بعض النماذج؛ يشتمل محلول البوليمر على بوليمر مشحون على سبيل المثال بوليمر مشحون بصورة موجبة (بوليمر كاتيوني). في بعض النماذج؛ يشتمل البوليمر المتحون على العديد من مجموعات الأمين. في بعض النماذج؛ يشتمل البوليمر المشحون على العديد من مجموعات الأمونيوم رباعي العناصر. في بعض النماذج؛ يكون البوليمر المشضحون بوليمر قابل للتحويل إلى رياعي العناصر المحضر بواسطة بلمرة فينيل إيميدازول مع مونومر فينيل أو أكربليك أو كل من المونومرات. في بعض النماذج؛ يكون البوليمر Goa dal بولي كواتيرنيوم. في بعض النماذج؛ يكون البوليمر المشضحون بولي إيثيلين إيمين (يشتمل على مشتقات وظيفية لبولي إيثيلين إيمين). في بعض النماذج؛ يشتمل 0 البوليمر المشحون (على سبيل المثال مشتق وظيفي لبولي إيثيلين (One) على مجموعة وظيفية functional group والتي يمكن أن تشكل رابطة تساهمية covalent bond مع تكوين صخري. في بعض النماذج؛ يشتمل محلول البوليمر على مذيب مختار من المجموعة التي تتكون من إيثانول؛ أيزوبروبانول؛ إيثيلين جليكول؛ بيوتانول» 2-بيوتوكسي «Jil بيوتيل» كربيتول» بنتانول؛ هكسانول» كحولات تيربين (مثل تيربينيول» جيرانيول» سترونيلول» نيرول؛ منثول؛ نيروليدول؛ 5 تيرينتين» 0-ليمونين» وفرنيزول)» مذيب PROPYL CELLOSOLVE™ (إثير مونو Js n= جليكول إيثيلين)؛ مذيب METHYL CARBITOL™ (إثير مونو إيثيل جليكول داي إيثيلين)؛ إثير جليكول DOWANOL™ DPM (إثير ميثيل جليكول داي بروييلين)؛ إثير جليكول DOWANOL™ PnP (إثير Jug pn جليكول بروبيلين)؛ وتوليفات من ذلك. في بعض النماذج؛ يوجد البوليمر Oa dal في محلول البوليمر بكمية Alls تتراوح من حوالي 0 0.01 إلى حوالي 10 حجم 7. في بعض النماذج؛ يوجد البوليمر Gn Gall في محلول البوليمر بكمية Ally تتراوح من حوالي 0.01 إلى حوالي 10 حجم 7#. في بعض النماذج؛ يوجد البوليمر المضحون في محلول البوليمر بكمية lly تتراوح من حوالي 0.01 إلى حوالي 10 حجم 7#. في بعض النماذج يوجد البوليمر المشضحون في محلول البوليمر بكمية والتي تتراوح من حوالي 1 إلى حوالي 10 حجم 7#. في بعض النماذج؛ يوجد البوليمر المشضحون في محلول البوليمر بكمية والتي 5 تتراوح من حوالي 0.01 إلى حوالي 5 حجم 7. في بعض النماذج؛ يوجد البوليمر المشضحون في محلول البوليمر بكمية تتراوح من حوالي 0.01 إلى حوالي 5 حجم 7#. في بعض النماذج؛ يوجد
البوليمر المشضحون في محلول البوليمر بكمية تتراوح من 0.1 إلى 5 حجم 7 ٠ في بعض النماذج؛ يوجد البوليمر المضحون في محلول البوليمر بكمية والتي تتراوح من حوالي 1 إلى حوالي 5 حجم #. دون الرغبة في التقيد بأي نظرية معينة؛ يمكن أن يعتمد التركيز المحدد على نفاذية التكوين الصخري.
في بعض النماذج؛ يتضمن محلول البوليمر رقم هيدروجيني داخل مدى حوالي 5 إلى حوالي 10. في بعض النماذج؛ يتضمن محلول البوليمر رقم هيدروجيني داخل مدى حوالي 7 إلى حوالي 10 على dw المثال» داخل مدى حوالي 8 إلى حوالي 0 أو حوالي 8 إلى حوالي 9.5. في بعض النماذج» تتم إضافة عامل ضبط adjusting agent رقم هيدروجيني (على سبيل المثال حمض الهيدروكلوريك (HCI) hydrochloric acid إلى محلول البوليمر لضبط الرقم الهيدروجيني لمحلول
0 البوليمر. في بعض النماذج؛ يتضمن البوليمر المشحون متوسط عددي للوزن الجزيئي داخل مدى حوالي 0 إلى حوالي 800000 جرام لكل مول على سبيل المثال؛ داخل مدى حوالي 300 إلى حوالي 0 جرام لكل مول. طرق لنسج تكوين صخري معدل
5 في نماذج (dime تستخدم الطرق المقدمة بواسطة الطلب الحالي الجسيمات»؛ على سبيل المثال جسيمات النانو لتوفير الخشونة أو طاقة السطح المنخفضة للتكوين الصخري المعدل. في بعض النماذج؛ يمكن أن ترتبط جسيمات النانو بالتكوين الصخري المعدل. في بعض النماذج؛ يتم شحن جسيمات النانو في مستعلق جسيم والذي تتم ملامسته مع التكوين الصخري المعدل. على سبيل المثال؛ يتم شحن جسيمات النانو بصورة موجبة في مستعلق الجسيم.
0 في بعض النماذج؛ تشتمل جسيمات النانو على gad صافية في مذيب (مذيبات) أو محلول (محاليل) معينة. في بعض النماذج؛ تكون الشحنة الصافية لجسيمات النانو سالبة. في بعض النماذج؛ تكون الشحنة الصافية لجسيمات النانو مقابلة للشحنة الصافية للبوليمر. في بعض النماذج؛ تكون جسيمات النانو أو تشتمل على Bale مختارة من المجموعة التي تتكون من فلزء. شبه فلز semi-metal (مادة ذات تداخل صغير للغاية بين قاع نطاق التوصيل
conduction band 25 وقمة نطاق التكافؤ (alence band غير فلزء أكاسيد oxides مركبات بوريد 065 )؛ مركبات كربيد carbides مركبات سلفيد sulfides ومركبات تتريد nitrides of ll
cmetal شبه الفلز أو غير الفلز وتوليفات من ذلك. في بعض النماذج؛ تكون جسيمات النانو أو تشتمل على أكسيد فلزي. في بعض er Sal تكون جسيمات النانو أو تشتمل على سيليكا؛ تيتانيا «titania زركونيا» جرمانيا cgermania ألومينا calumina بنتوكسيد تيتانيوم ctantalum pentoxide أكسيد زنك zine oxide أو توليفات من ذلك. في بعض النماذج؛ تكون جسيمات النانو أو تشتمل على سيليكا. في بعض النماذج؛ تكون جسيمات النانو أو تشتمل على بوليمر. على سبيل المثال؛ في بعض النماذج؛ تكون جسيمات النانو أو تشتمل على بولي ستيرين polystyrene أو بوليمرات أساسها ميثاكريلات -methacrylate-based polymers في بعض النماذج؛ يتم إدخال فلور على أسطح جسيمات النانو. في بعض النماذج؛ تكون جسيمات النانو جسيمات نانو سيليكا معالجة بالفلور fluorinated silica nanoparticles في بعض النماذج؛ 0 تكون جسيمات النانو أو تشضتمل على مواد بوليمرية معالجة بالفلور fluorinated polymeric 5 على سبيل المثال بولي ستيرين معالج بالفلور fluorinated polystyrene أو بوليمرات أساسها ميثاكريلات. في بعض النماذج؛ تتضمن جسيمات النانو قطر متوسط في مدى حوالي 30 نانومتر إلى حوالي 0 نانومتر. في بعض or dail تتضمن جسيمات النانو قطر متوسط في مدى حوالي 100 5 نانومتر إلى حوالي 500 نانومتر. في بعض النماذج؛ تتضمن جسيمات النانو متوسط قطر في مدى حوالي 100 نانومتر إلى حوالي 400 نانومتر. في بعض النماذج؛ تتم ملامسة مستعلق جسيم النانو nanoparticle suspension مع التكوين الصخري المعدل. في بعض النماذج؛ توجد جسيمات النانو في مستعلق بكمية تتراوح من حوالي 1 إلى حوالي 10 وزن #. في بعض النماذج؛ توجد جسيمات النانو في مستعلق بكمية تتراوح 0 .من حوالي 0.01 إلى حوالي 5 وزن 7. في بعض النماذج؛ توجد جسيمات النانو في مستعلق بكمية والتي تتراوح من حوالي 0.01 إلى حوالي 1 وزن 7. في بعض النماذج؛ توجد جسيمات النانو في مستعلق بكمية تتراوح من حوالي 0.01 إلى حوالي 0.5 وزن 7. في بعض النماذج؛ توجد جسيمات النانو في مستعلق بكمية تتراوح من حوالي 0.05 إلى حوالي 0.5 وزن 7. في بعض النماذج؛ يشتمل مستعلق جسيم النانو على مذيب مختار من المجموعة التي تتكون من إثانول» أيزوبروبانول» إيثيلين جليكول؛ بيوتانول؛ 2-بيوتوكسي إيثانول» بيوتيل؛ كربيتول؛ بنتانول» هكسائول» كحولات تيريين (مثل تيربينيول» جيرانيول» سترونيلول»؛ نيرول؛ منثول؛ نيروليدول»
تيرينتين» 0-ليمونين» وفرنيزول)» مذيب PROPYL CELLOSOLVE™ (إثير مونو Jig n= جليكول إيثيلين)؛ مذيب METHYL CARBITOL™ (إثير مونو إيثيل جليكول داي إيثيلين)؛ إثير جليكول DOWANOL™ DPM (إثير ميثيل جليكول داي بروبيلين)؛ إثير جليكول DOWANOL™ PoP (إثير «-بروبيل جليكول بروبيلين) وتوليفات من ذلك.
في بعض النماذج؛ تشتمل الطرق المقدمة بواسطة الطلب الحالي على ملامسة محلول مادة خافضة للتوتر السطحي الذي يشتمل على مادة خافضة للتوتر السطحي مع تكوين صخري. في بعض النماذج؛ يمكن استخدام المحلول الذي يشتمل على المادة الخافضة للتوتر السطحي قبل ربط جسيمات النانو مع التكوين الصخري المعدل. في بعض النماذج؛ يمكن استخدام المحلول الذي يشتمل على المادة الخافضة للتوتر السطحي بعد ربط جسيمات النانو مع التكوين الصخري
0 المعدل. في بعض النماذج؛ يمكن استخدام مستعلق جسيم النانو ومحلول المادة الخافضة للتوتر السطحي للتكوين الصخري بصورة متزامنة. في بعض النماذج؛ يتم تضمين المواد الخافضة للتوتر السطحي في مستعلق جسيم النانو عند استخدامه للتكوين الصخري. في بعض النماذج؛ تغير المادة الخافضة للتوتر السطحي سطح التكوين الصخري. في بعض النماذج؛ تعزز المادة الخافضة للتوتر السطحي التصاق البوليمر؛ جسيم gil أو كلاهما بسطح
5 التكوين الصخري. في بعض النماذج؛ تثبت المادة الخافضة للتوتر السطحي «adsl أو كلاهما على سطح التكوين الصخري. في بعض النماذج؛ ترتبط المادة الخافضة للتوتر السطحي بالتكوين الصخري. على سبيل (Jad يمكن أن تندمج المادة الخافضة للتوتر السطحي مع مجموعة هيدروكسيل hydroxyl على سطح التكوين الصخري. في بعض النماذج؛ يمكن أن ترتبط المادة الخافضة للتوتر السطحي بمجموعة
0 الهيدروكسيل. بالإضافة إلى ذلك أو بدلاً cate يمكن أن تزود المادة الخافضة للتوتر السطحي عدم ألفة كلية إضافية بجانب جسيمات النانو. في بعض النماذج؛ ترتبط المادة الخافضة للتوتر السطحي بالبوليمرات المتحونة المستخدمة لتعديل السطح الصخري. في بعض النماذج؛ تزود المادة الخافضة للتوتر السطحي شحنات موجبة إضافية لربط جسيمات النانو. في بعض النماذج؛ تساعد المادة الخافضة للتوتر السطحي ربط البوليمر مع التكوين الصخري.
5 في بعض النماذج؛ يمكن أن تكون sald) الخافضة للتوتر ada Wl) كاتيونية؛ غير أيونية؛ أو أمفوترية amphoteric في بعض النماذج؛ تشتمل المادة الخافضة للتوتر السطحي على مادة
خافضة للتوتر السطحي مفلورة fluorinated surfactant مادة خافضة للتوتر السطحي بوليمرية ¢polymeric surfactant مواد خافضة للتوتر السطحي بوليمرية مفلورة fluorinated polymeric surfactants أو توليفات من ذلك. في بعض النماذج؛ يتم اختيار المادة الخافضة للتوتر السطحي
من المجموعة التي تتكون من أوكتينيدين (gla هيد روكلوريد <octenidine dihydrochloride cetylpyridinium سيتيل بيريدثيوم كلوريد «(CTAB) cetrimonium bromide مستريموتيوم بروميد 5 بنزيثونيوم كلوريد (BAC) benzalkonium chloride (600)؛ بنزالكيوم كلوريد chloride ديوكتاديسسيل أمونيوم كلوريد Jai va داي ¢(BZT) benzethonium chloride أمونيوم كلوريد Jie gh ديوكتاديسيل dimethyldioctadecylammonium chloride alkylphenol ألكيل فينول إيثتوكسيلات ٠ (DODAB) dioctadecyldimethylammonium bromide
cethoxylates 0 إيثوكسيلات كحول أليفاتي caliphatic alcohol ethoxylates إيثوكسيلات ألكيل أمين أليفاتي caliphatic alkylamine ethoxylates استرات صوربيتان sorbitan esters وإيتوكسيلاتهاء إيثتوكسيلات زبت الخروع ccastor oil ethoxylates بوليمرات مشتركة أكسيد ethylene (pli) [oxide أكسيد بروييلين «propylene oxide حمض بيرفلوروأوكتانويك perfluorooctanoic acid «(PFOA) بيرفلوروأوكتان سلفونات ((PFOS) perfluorooctane sulfonate بيرفلوروهكسان حمض سلفونيك ¢(PFHXS) perfluorohexane sulfonic acid حمض بيرفلورونوأتنويك «(PENA) perfluorononanoic acid حمض بيرفلوروديكاتويك perfluorodecanoic acid (PFDA) كوكاميدويروييل بيتاثين ccocamidopropyl betaine كوكاميدويروييل سلتائين ccocoamidopropyl sultaine أميدو سلفوبيتائين camidosulfobetaine أورواًمفوجليسينات cauroamphoglycinate ديهيدروكسي إيثيل شحم جليسينات «dihydroxyethyl tallow glycinate أيزوستياروأًمفوبروبيونات «isostearoamphopropionate أوريل -11,11- (داي ميثيل أمونيو)بيوتيرات -(dimethylammonio)butyrate 111,17ننسة» _لاوريل -11,11- (داي ميثيل)-جليسين lauryl- (pilin «N,N-(dimethyl)-glycinebetaine 3(1-3- كولاميدو بروبيل) داي ميثيل أمونيو)-1-بروبان سلفونات «3-[(3-cholamidopropyl)dimethylammonio]-1-propanesulfonate 3-([3-
كولاميدوبروبيل]داي ميثيل أمونيوم)-2-هيدروكسيل-1-بروبان سلفونات -3-13
ccholamidopropyl]dimethylammonio)-2-hydroxy-1-propanesulfonate 5 أوريل-11 ,1-(داي lg (iis سلفونات cauryl-N,N-(dimethyl)-propanesulfonate 3-(4-تيرت- بيوتيل-1-
بيريدينو)-1-برويان سلفونات «3-(4-tert-butyl-1-pyridinio)-1-propanesulfonate 3-(1- بيريدينو)-1-برويان سلفونات ¢3-(1-pyridinio)-1-propanesulfonate 3- (بنزيل- داي ميثيل أمونيوم) برويان سلفونات 3-(benzyl-dimethylammonio) propanesulfonate وتوليفات من ذلك. في بعض النماذج؛ توجد المواد الخافضة للتوتر السطحي في كمية والتي تتراوح من حوالي 0.1 إلى حوالي 10 وزن 7. في بعض النماذج؛ توجد المواد الخافضة للتوتر السطحي في محلول بكمية تتراوح من حوالي 0.5 إلى حوالي 10 وزن 7. في بعض النماذج؛ توجد المواد الخافضة للتوتر السطحي في محلول بكمية تتراوح من حوالي 1 إلى حوالي 10 وزن 7. في بعض النماذج؛ توجد المواد الخافضة للتوتر السطحي في محلول بكمية تتراوح من حوالي 5 إلى حوالي 10 وزن 7. في بعض riba) توجد المواد الخافضة للتوتر السطحي في محلول بكمية تتراوح من حوالي 0.1 إلى 0 حوالي 5 وزن 7. في بعض النماذج؛ توجد المواد الخافضة للتوتر السطحي في محلول بكمية تتراوح من حوالي 0.1 إلى حوالي 3 وزن 7. في بعض النماذج؛ توجد المواد الخافضة للتوتر السطحي في محلول بكمية تتراوح من حوالي 0.1 إلى حوالي 1 وزن 7. في بعض النماذج؛ يشتمل مستعلق المادة الخافضة للتوتر السطحي على مذيب مختار من المجموعة التي تتكون من (gill أيزوبروبانول» إيثيلين جليكول» بيوتانول» 2-بيوتوكسي إيثانول» 5 بيوتيل؛ كربيتول؛ بنتانول» هكسانول» كحولات تيريين (مثل تيربينيول؛ جيرانيول؛ سترونيلول؛ نيرول؛ منثول؛ نيروليدول»؛ تيرينتين» 7-ليمونين» وفرنيزول)؛ مذيب PROPYL CELLOSOLVE™ (إثير مونو-«-بروييل جليكول إيثيلين)» مذيب METHYL CARBITOL™ (إثير مونو إيثيل جليكول داي إيثيلين)؛ إثير جليكول DOWANOL™ DPM (إثير ميثيل جليكول داي بروبيلين)؛ إثير جليكول DOWANOL™ PnP (إثير «-بروييل جليكول بروبيلين) وتوليفات من ذلك. 0 خواص التكوين الصخري المعالج كيميائياً في بعض النماذج؛ يتميز التكوين الصخري الذي تم تعديله بمحلول البوليمر والمنسوج بمستعلق الجسيم (تكوين صخري معالج (Lila بخواص معينة. في بعض cz Slat) يكون التكوين الصخري المعالج كيميائياً غير الآلف للكل. في بعض النماذج؛ يتضمن التكوين الصخري المعالج كيميائياً حركية قطرة صغيرة أعلى (سواء قطرة الماء الصغيرة 5 وقطر الزيت الصغية؛ على سبيل المثال» قطرة الماء الصغيرة وقطرة ديكان الصغيرة) نسبة إلى التكوين الصخري غير المعالج. في بعض النماذج؛ يمكن أن يفضل سطح التكوين الصخري
المعالج كيميائياً الغاز على الماء أو الزيت بصورة نشطة؛ مما يقلل هبوط الضغط الاحتجاز أو تراكم طور السائل داخل حيز المسام. في or Sail) (any تكون النفاذية النسبية لناتج تكثيف السائل؛ النفاذية النسبية للغازء أو كلاهما مفيدين لتحديد فعالية المعالجة. تكون النفاذية النسبية relative permeability (ك) نسبة النفاذية الفعالة (Ke) effective permeability للمائع المحدد في تدفق متعدد الأطوار multiphase flow إلى النفاذية المطلقة absolute permeability (مك/). تكون النفاذية المطلقة خاصية وسط مسامي medium 0:05 وتمثل سعة الوسط لإرسال الموائع بواسطة قياس نفاذية الوسط المشبع بمائع طور أحادي .single phase fluid في بعض النماذج؛ يمكن أن يكون المائع ذو طور أحادي أي مائع يتضمن طور واحد (على سبيل 0 المثال؛ غاز أو سائل). في بعض النماذج؛ يمكن أن يكون المائع ذو طور أحادي نيتروجين «cle nitrogen هيدروكربون hydrocarbon أو 2 وزن 7 محلول كلوريد البوتاسييوم المائي. في بعض النماذج؛ يمكن حساب النفاذية المطلقة من معادلة دارسي؛ كما يلي: 0 حيث تكون ,0 معدل تدفق المائع ذو طور أحادي (إسم مكعب لكل دقيقة) يكون »م لزوجة المائع ذو طور أحادي (سنتي بواز)؛ يكون .1 طول العينة الرئيسية (سم)؛ يكون 8 القطاع العرضي للعينة المحورية (سم مريع)؛ ويكون AP هبوط الضغط عبر العينة المحورية core sample (جو). في بعض النماذج, وفقاً لظروف مستقرة؛ يمكن حساب النفاذية الفعالية لناتج تكثيف السائل (Keo) والنفاذية الفعالة للغاز (Keg) effective permeability of gas في عينة محورية من معادلة دارسي؛ كما يلي: Tea اص )@ ا oo حيث تكون م0 معدل تدفق ناتج تكثيف السائل (سم مكعب لكل دقيقة) يكون ,0 معدل تدفق الغاز (سم مكعب/ دقيقة)؛ تكون بر ناتج تكثيف السائل (سنتي بواز)؛ وتكون م لزوجة الغاز (إسنتي بواز). في بعض النماذج؛ يتم استخدام نسبة النفاذية النسبية لناتج تكثيف السائل (أو الغاز) بعد
وقبل المعالجة الكيميائية لحساب عامل تحسن التنفاذية النسبية relative permeability improvement factor ولتحديد نجاح المعالجة. في بعض النماذج؛ يمكن قياس النفاذية النسبية لناتج التكثيف السائل والغاز بواسطة الإجراء كما تم وصفه في مثال 3.
في بعض النماذج؛ يمكن استخدام خليط الهيدروكربونات لقياس النفاذية النسبية لناتج تكثيف السائل والغاز. في بعض النماذج؛ يشتمل الخليط على واحد أو أكثر من الهيدروكريونات المشضبعة hydrocarbons 580010160. في بعض النماذج؛ يتراوح عدد الكريون للهيدروكريونات المشبعة من 1 إلى 40. في بعض النماذج؛ يشضتمل الخليط على ميثان 006ع» إيثان ethane بروبان propane بيوتان (مركبات بيوتان) cbutane(s) هكسان (مركبات هكسان) chexane(s) هبتان
0 (ركبا هبتان) cheptane(s) أوكتان (مركبات أوكتان) coctane(s) نونان (مركبات نونان) nonane(s) ديكان (مركبات ديكان) cdecane(s) أنديكان (مركبات أنديكان) undecane(s) ودوديكان (مركبا دوديكان) (00060008)5. على سبيل المثال» يوضح الجدول 4 في مثال 3 التركيبات التمثيلية لخلائط الهيدروكريون لخلائط الهيدروكربون لقياس النفاذية النسبية لناتج التكثيف السائل والغاز. في بعض النماذج؛ يتضمن التكوين الصخري المعالج كيميائياً نفاذية نسبية أعلى
5 ا لغاز نسبة إلى التكوين الصخري غير المعالج. في بعض النماذج؛ يتضمن التكوين الصخري المعالج كيميائياً تحسن في النفاذية النسبية للغاز بعامل يصل إلى حوالي 5.0 حتى حوالي 4.5؛ حتى حوالي 4.0؛ حتى حوالي 3.5؛ Moa 3.0؛ حتى Moa 2.5؛ حتى حوالي 2.0؛ حتى حوالي ¢1.9 حتى حوالي 1.8 حتى حوالي 1.7؛ حتى حوالي 1.6؛ حتى حوالي 1.5؛ حتى حوالي 1.4؛ حتى حوالي 1.3 حتى حوالي 1.2؛ أو حتى حوالي 1.1 نسبة إلى التكوين الصخري غير المعالج.
0 في بعض النماذج» يتضمن التكوين الصخري المعالج كيميائياً نفاذية نسبية أعلى لناتج تكثيف السائل نسبة إلى التكوين الصخري غير المعالج. في بعض النماذج؛ يتضمن التكوين الصخري المعالج كيميائياً تحسن في النفاذية النسبية للسائل بعامل يصل إلى حوالي 8.5.0 حتى حوالي 4.5؛ Ja حوالي 4.0؛ حتى حوالي 3.5 حوالي3.0؛ حتى حوالي 25 حتى حوالي 2.0 حتى حوالي ¢1.9 حتى حوالي 1.8 حتى حوالي 1.7؛ حتى حوالي 1.6؛ حتى حوالي 1.5؛ حتى حوالي 1.4؛
5 حتى حوالي 1.3؛ حتى حوالي 1.2؛ أو حتى حوالي 1.1 نسبة إلى التكوين الصخري غير المعالج.
في بعض النماذج؛ تكون زاوية التلامس للماء على سطح التكوين الصخري المعالج كيميائياً في
مدى حوالي60 إلى حوالي 160 درجة؛ حوالي 90 إلى حوالي 160 درجة؛ أو حوالي 120 إلى
حوالي 160 درجة.
في بعض النماذج» تكون زاوية التلامس ل 2 وزن # من محلول كلوريد البوتاسيوم المائي على سطح التكوين الصخري المعالج كيميائياً في مدى حوالي 60 إلى حوالي 160 درجة؛ حوالي 90
إلى حوالي 160 درجة أو حوالي 120 إلى حوالي 160 درجة.
في بعض النماذج؛ تكون زاوية التلامس لديكان على سطح التكوين الصخري المعالج كيميائياً في
مدى حوالي 40 إلى حوالي 160 dann حوالي 45 إلى حوالي 160 درجة؛ أو حوالي 50 إلى
حوالي 160 درجة.
0 في بعض النماذج؛ يظهر التكوين الصخري المعالج كيميائياً الخشونة التدريجية. في بعض النماذج؛ يتضمن التكوين الصخري المعالج كيميائياً طول مميز أول (على سبيل المثال خشونة سطح ثابتة أو حجم مسام للتكوين الصخري؛ على سبيل المثال على نطاق ميكرون) وطول مميز ثاني (على سبيل المثال قطر متوسط لجسيمات النانو على سبيل المثال على نطاق مقياس (lll حيث يكون الطول المميز الأول والطول المميز الثاني مختلفين إلى حد gS مما ينتج خشونة تدريجية.
5 أنظمة للمعالجة الكيميائية للتكوين الصخري في بعض التماذج» يشضتمل نظام للحد من تراكم ناتج التكثيف بالقرب من حفرة البثر لخزان ناتج تكثيف الغاز على حاوية أولى أو مصدر محلول البوليمر (على سبيل المثال يشتمل على بوليمر مشحون مع شحنة صافية أولى)؛ حاوية ثانية أو مصدر مستعلق جسيم (على سبيل المثال يشتمل على جسيمات مشحونة مع شحنة صافية ثانية (وقنوات لإدخال محلول البوليمر ومستعلق الجسيم
0 في نفس التكوين الصخري بالقرب من حفرة A لخزان ناتج تكثيف الغاز. في بعض النماذج؛ يدخل نظام للحد من تراكم ناتج التكثيف بالقرب من حفرة البثر محلول البوليمر داخل التكوين الصخري. في بعض النماذج,؛ يتم ضبط معدل التدفق لتقديم زمن كافي للبوليمرات في محلول البوليمر للريط مع التكوين الصخري لتكوين تكوين صخري معدل. في بعض النماذج؛ يدخل نظام للحد من تراكم ناتج التكثيف بالقرب من حفرة البثر مستعلق جسيم
5 داخل التكوين الصخري. في بعض cr dail) يتم ضبط معدل التدفق لتوفير زمن كافي للجسيمات
في مستعلق الجسيم (على سبيل المثال جسيمات نانو) للريط بالتكوين الصخري المعدل لإنشاء التكوين الصخري المعالج كيميائياً. في بعض النماذج؛ يدخل النظام محلول بوليمر ومستعلق جسيم داخل التكوين الصخري بالقرب من حفرة ll بواسطة إدخالها داخل حفرة البثرء أو بواسطة حقنها Jala مناطق حول حفرة البثر. في بعض النماذج؛ يمكن أن يتدفق محلول البوليمر ومستعلق الجسيم من خلال حفرة A إلى التكوين الصخري؛ على سبيل المثال؛ من خلال حيزات المسام في التكوين الصخري نفسه نظراً لفرق الضغط بين حفرة ll والتكوين الصخري. في بعض النماذج؛ يمكن حقن محلول البوليمر ومستعلق الجسيم من Pla حفرة البثر وبعد ذلك يمكن نقل محلول البوليمر ومستعلق الجسيم إلى منطقة حول حفرة البئثر. 0 في بعض النماذج؛ يمكن حقن محلول البوليمر ومستعلق الجسيم عبر أنابيب ملتفة coiled tubing أو التوجه الرئيسي في سلسلة أنابيب production tubing string dle بعض النماذج؛ يمكن حقن محلول بوليمر ومستعلق جسيم في مراحل منفصلة وباستخدام نفس أو قنوات مختلفة. الأمثلة حتى يمكن فهم الطلب بشكل كلي أكثرء يتم ذكر الأمثلة التالية. ينبغي فهم أن هذه الأمثلة تكون 5 لأغراض توضيحية فقط ولا يتم تفسيرها على أنها مقيدة بأي طريقة. مثال 1: تعديل سطحي للحجر الرملي يصف المثال الحالي تعديل سطح الحجر الرملي وفقاً لنماذج معينة من الطلب الحالي. يتم وصف العملية التمثيلية أدناه. تخليق جسيمات النانو للسليكا المعالجة بالفلور (جسيمات نانو (F-silica nanoparticles F [Shu 0 تتم إقرار عملية :©5006 لتحضير جسيمات النانو للسيلكيا. تم تخليق جسيمات نانو للسيليكا في مذيبات الكحولية alcoholic solvents مع هيدروكسيد أمونيوم ammonium hydroxide كمحفز catalyst تم تخليق أريع دفعات من جسيمات النانو للسيليكا؛ Ally ضمنت 85 نانومتر» 135 نانومتر» 180 نانومتر و 375 نانومتر متوسط أقطار. تمت إضافة 100 ميكرولتر من 1 - بيرفلور أوكتيل تراي إيثوكسي سيلان -111,111,211,2117 <Perfluorooctyltriethoxysilane ~~ 25 97 7 إلى 20 مل من مستعلقات جسيم النانو للخام crude nanoparticle suspensions للتعديل السطحي. كانت الجسيمات النانو للسيليكا الخام في مديات
تركيز 5 مجم/ مل إلى 13 مجم/ مل بناءاً على حجم جسيمات النانو. تم تنفيذ تفاعلات إدخال الفلور للسطح Surface fluorination reactions عند درجة حرارة الغرفة لمدة 8 ساعة. تم غسل جسيمات النانو للسيليكا فلورينات مرتين بالطرد المركزي عند 9000 لفة كل دقيقة (RPM) revolutions per minute لمدة 20 دقيقة وإعادة تعليقها في إيثانول؛ مما يشكل مستعلق جسيم نانو للسيليكا .F-silica nanoparticle suspension F التعديل السطحي للحجر الرملي تم إنتاج شظايا الحجر الرملي Sandstone fragments بواسطة تكسير من قطعة كبيرة. تم شطف الحجارة مرة واحدة في ماء منزوع الأيونات AY أي أنقاض قبل وضعها في 100 مل HS تحتوي على 50 مل من إيثانول. تمت إضافة 500 ميكرولتر من (بولي إيثيلين إيمين) معدل تراي 0 مينوكسي سيليل بروييل) ¢Trimethoxysilylpropyl modified polyethylenimine 50 / في أيزوبروبانول إلى المحلول. تقدم هذا الإجراء للتعديل السطحي عبر الليل عند درجة حرارة الغرفة دون تقليب. تم تصفيق المحلول من اليوم التالي وتم غسل شظايا الحجارة في إيثانول والماء بصورة متعاقب والسماح بالتجفيف. حيث يتضمن سطح الحجر الرملي بصورة نمطية شحنات سالبة negative charges ويتضمن بولي إيثبلين إيمين وظيفي شحنات موجبة positive charges على 5 سطحه من المرجح أن يرجع امتزاز بولي إيثيلين إيمين وظيفي على سطح الحجر الرملي إلى قوة التكافؤ. تعديل سطح ذو قوام Nano-texturing Surface il للحصول على سطح حجر رملي ذو خشونة تدريجياً؛ تمت ملامسة شظايا الحجارة التي تم تعديلها ببولي إيثيلين إيمين وظيفى مع مستعلق جسيم النانو للسيليكا- 7 (حوالي 1.3 وزن 7( في يومين. 0 تضمتت الطريقة الأولى استخدام مباشرة القطرات الصغيرة من مستعلق جسيم نانو للسيليكا 7 على السطح المجفف والسماح للمستعلق بالتشرب داخل شظايا الحجارة. تضمنت الطريقة الثانية نقع شظايا الحجارة في مستعلق الجسيم النانو للسيليكا F لمدة 10 دقيقة؛ مما يزيل شظايا الحجارة من المستعلق» يليه الغسل (بإيثائول» يليه ماء» مرة كل) والتجفيف. حيث تتضمن جسيمات الثانو للسليلكا 1 شحنات سالبة؛ تندمج مع سطح الحجر الرملي المعدل بولي إيثيلين إيمين وظيفي. مثال 2: تحديد الخصائص
JE Caan الحالي تجارب والتي تم تنفيذها لتحديد خصائص الحجر الرملي معدل hull والجسيمات النانو للسيليكا وفقاً لنماذج معينة من الطلب الحالي. قياس زاوية التلامس تم قياس زوايا التلامس عند درجة حرارة الغرفة والضغط بواسطة استخدام مقياس زوايا التلامس contact angle goniometer 5 بدقة .Ramé-hart تم وضع قطرة صغيرة من السائل (ماء أو ديكان) على أسطح الزجاج والحجر الرملي؛ تمت معالجة كل منها ببولي إيثيلين إيمين وظيفي وجسيمات النانو للسيليكا 1. تم قياس زاوية التلامس من طور السائل الذي يتبع محيطه. كما هو موضح في شكل ١1 لم يتم تعريض سطح الحجر الرملي كما تم تكسيره لأي ترتيب أو صقل قبل المعالجة ببولي إيثيلين إيمين وظيفى وجسيمات النانو للسيليكا 7. 0 للحد من الخطأ في قياس زاوية التلامس؛ تم وضع الحجر الرملي المعالج على طبقة الرمل بحيث قد يتم تحسين الاستواء . للبيانات المذكورة في شكل 2؛ تم ترتيب أسطح الحجر الرملي المكسرة لإنتاج سطح مستوي planar surface قبل وضع قطرات ديكان الصغيرة على السطح المعالج .treated surface توزيع حجم جسيم السيليكا "تم تحضير عينة من 375 من جسيمات النانو للسيليكا باستخدام تخليق سيليكا Stober في أيزوبروبيل كحول isopropyl alcohol (17/5). تم تبادل العينة بعد ذلك داخل «-بيوتانول n- butanol عبر مبخر دوار rotary evaporator وتم تمييز حجم جسيمات النانو بواسطة استطارة الضوء الدينامية. تم اتخاذ قياسات استطارة الضوءٍ الدينامية بواسطة تخفيف جسيمات النانو الخام داخل ماء منزوع أ لأيونات عند عامل تخفيف dilution factor 1: 100 وتخفيف بشكل متشابه جسيات النانو المعالجة بالفلور داخل «-بيوتانول عند عامل تخفيف 1: 100. في أحد الأمثلة؛ تضمنت جسيمات النانو الخام متوسط قطر (المشتقة من توزيع شدة الاستطارة المقاسة بواسطة التحليل الطيفي لترابط الفوتون) ل 382.5 نانومتر» وخطأ معياري standard deviation 1.99 نانومتر؛ وانحراف معياري ل 3.45 نانومتر (انظر جدول ol وشكل 3). تضمنت الجسيمات النانو الخام متوسط قطر ل.402.06 نانومتر؛ خطأً معياري ل 2.8 نانومتر؛ والاتحراف المعياري 4.85 5 نانومتر. (انظر جدول 2 وشكل 3). جدول 1
is حجم الجسيم لجسيمات نانو غير مفلورة )44( جدول 2 توزيع حجم الجسيم للجسيمات النانو المفلورة مثال 3: تجربة Coreflood 5 يوفر المثال الحالي النتائج التي تظهر انخفاض هبوط الضغط عبر عينة الحجر الرملي المحورية بعد المعالجة وفقاً للطلب الحالي. تم إنتاج due الحجر الرملي المحورية الأسطوانية cylindrical core sandstone sample المستخدمة في هذا المثال من Bia البثر لخزان ناتج تكثيف الغاز في تكساس بواسطة حفر التكوين الصخري. كان قطر عينة الحجر الرملي المحورية 1.5 بوصة؛ وكان طول عينة الحجر الرملي المحورية 6 0 بوصة. قبل القياس؛ تم تجفيف العينة في فرن عند درجة حرارة 150 م )302 ف) ليومين حتى تم تجفيف العينة. تم وزن العينة باستخدام اتزان رقمي للحصول على الوزن الجاف للعينة. تم تشبع العينة المجففة ب 2 وزن 7# من محلول كلوريد البوتاسيوم المائي تحت تفريغ لمدة 24 ساعة. كانت العملية التمثيلية التي تم استخدامها لقياس انخفاض هبوط الضغط قبل وبعد المعالجة كما 1. تم حقن 2 وزن # من محلول كلوريد البوتاسيوم المائي داخل عينة محورية للحجر الرملي في معدلات تدفق flow rates مختلفة (0). لكل معدل تدفق؛ تم تسجيل هبوط الضغط (AP) بعد التثبيت كما هو موضح في جدول 3. تم استخدام معدلات هبوط الضغط عبر العينة المحورية ومتغيرات أخرى مثل معدل التدفق» اللزوجة؛ ومنطقة القطاع العرضي وطول عينة الحجر الرملي المحورية لمعادلة دارسي لحساب النفاذية المطلقة للعينة. تم حساب 0/4 و AP/L وتم تخطيط
4 مقابل .7/1 كان منحدر الرسم البياني (Kut) 0.145. حيث كان مم 0.893 سنتي بوازء
كان ,5 13.0.
جدول 3
قياس AP المتنوع 0 و 0/4 وحساب Ko JAP/L
معدل الحقن هبوط الضغط AP) <Q) سم م28 AP/L اا مام
2. تم وضع العينة القلبية تحت ظروف حقن النيتروجين عبر الليل لإزاحة الماء وإنتاج تشبع ماء
بيني ومحاكاة ظروف خزان ناتج تكثيف الغاز. يمكن أن تكون الظروف مشابهة للظروف التجريبية
التي تكون بصورة نمطية ظروف قاع البئثر للخزان للضغط ودرجة الحرارة (على سبيل المثال تكون
درجة الحرارة حوالي 148.9 درجة مثوية (300_ف)؛ يكون الضغط حوالي 20684.27 كيلو
بإسكال )3000 رطل على بوصة مريعة) إلى 41368.54 كيلو بإسكال (6000 رطل على
0 البوصة المريعة)).
3. تم بعد ذلك حقن تيار خليط غاز هيدروكريون (عند 5 مل لكل دقيقة) داخل عينة محورية؛
للحصول على منحنى هبوط ضغط قبل المعالجة. يتم تلخيص تركيبة خليط غاز الهيدروكريون
المستخدم في هذا المثال في جدول 4. تسمح تركيبة خليط الغاز بتكثيف سائل الهيدروكربون
hydrocarbon liquid داخل العينة المحورية ومحاكاة تدفق ثنائي طور للغاز وناتج التكثيف في
5 الوسط المسامي. جدول 4 تركيبات خليط غاز الهيدروكربون الا |0000| ا
الكت في on eo eee [eee] 0 48 مسي ا oe الت هو سي wo ال لكا عات سي | ١ ا ا ل
Undecanes
Dodecanes تم بعد ذلك حقن 100 مل (أو 3 أحجام مسام حيث يكون "حجم المسام" إجمالي حجم حيزات .4 محورية واحدة) لمحلول معدل تراي ميثوكسي سيليل بروبيل (بولي إيثيلين إيمين) die المسام داخل حجم 7 في بيوتانول عند 2 مل لكل دقيقة) داخل العينة المحورية. تم ترك العينة المحورية عبر 2( بعد أن يكتمل حقن 100 مل. تم السماح للحجم الزائد بالتدفق خارج "قاع" العينة المحورية. J 5. تم حقن 100 مل (أو 3 حجم مسام) لمستعلق جسيم نانو للسيليكا 7 المحضر ly للطرق في مثال 1 (0.065 وزن 7 في بيوتانول عند 1 مل لكل دقيقة) داخل العينة المحورية المعدلة ببولي إيثيلين إيمين الوظيفي. تضمنت جسيمات النانو للسيليكا BF المستعلق متوسط قطر 375 نانومتر. تقدم إجراء تعديل السطح عبر الليل. 5.6 حقن نفس تيار خليط غاز الهيدروكربون كما تم استخدامه في خطوة 3 (عند 5 مل لكل 0 دقيقة) داخل العينة المحورية للحصول على منحنى هبوط الضغط والنفاذية النسبية لناتج تكثيف الغاز والسائل بعد المعالجة. 7. تم مقارنة منحنيات هبوط الضغط قبل ويعد المعالجة.
يتم توضيح منحنيات هبوط الضغط في شكل 4. بلغ هبوط الضغط أثناء حقن الغاز قبل المعالجة متوسط حوالي 330.94 كيلو باسكال )48 رطل على بوصة مربعة). بلغ هبوط الضغط أثناء حقن الغاز بعد المعالجة متوسط حوالي 330.95 كيلو dh) 34.4( Jul على البوصة المربعة) (انخفاض 28.3 7 مقارنة بهبوط الضغط قبل المعالجة).
كانت المعالجة أيضاً قادرة على تحقيق تحسن في النفاذية النسبية للغاز بعامل 1.4 والنفاذية النسبية للسائل بعامل 1.4. كما تم وصفه في القسم خواص التكوين الصخري المعدل كيميائياً؛ تكون النفاذية النسبية نسبة النفاذية الفعالة لناتج تكثيف الغاز أو السائل في خليط الهيدروكربون إلى النفاذية المطلقة. تم حساب النفاذية الفعالة من معادلة دارسي بصورة مشابهة للنفاذية المطلقة كما تمت مناقشته في خطوة 1.
0 -مثال 4: تأثير الرقم الهيدروجيني يوضح المثال الحالي تأثير ضبط الرقم الهيدروجيني لمحلول بولي إيثيلين إيمين وظيفي في نماذج معينة من الطلب الحالي. تم ضبط الرقم الهيدروجيني لمحاليل بولي إيثيلين إيمين وظيفي مع 1.0 مولار من حمض الهيدروكلوريك. تمت إضافة صفر إلى 100 ميكرولتر من 1.0 مولار من محلول حمض 5 الهيدروكلوريك إلى 10 مل من محلول بولي إيثيلين إيمين وظيفي في بيوتانول؛ وتم بعد ذلك تسجيل قيم الرقم الهيدروجيني في مدى حوالي 7 إلى 9. تم بعد ذلك رصد عكارة متزايدة عند رقم هيدروجيني أقل والذي يمكن أن يرجع إلى تفاعلات متزايدة بين بولي إيثيلين إيمين وظيفي وجسيمات النانو للسيليكا JF المحاليل الناتجة مباشرة بعد ست ساعات من إضافة جسيمات السيليكا ©. دون الحصر؛ يمكن أن تلتصق جسيمات النانو للسيليكا "1 بقوة أكثر لبولي إيثيلين إيمين وظيفي 0 عندما يتم خفض الرقم الهيدروجيني بسبب شحنة السطح المتزايدة. بالفعل؛ في رقم هيدروجيني غير قاعدي؛ يتم شحن بولي إيثيلين إيمين وظيفي بصورة موجبة بدرجة lle ويتم (ad جسيمات السيليكا بصورة سالبية بدرجة عالية. نماذج Gal تم وصف نماذج معينة للطلب الحالي أعلاه. مع هذاء تتم الإشارة صراحة إلى أن الطلب الحالي لا 5 يقتصر على تلك النماذج ولكن أيضاً يهدف إلى أن الإضافات والتعديلات لما يتم وصفه صراحة في الطلب الحالي يتم تضمينها أيضاً في نطاق الطلب. علاوة على ذلك؛ يجب فهم أن سمات النماذج
المتنوعة الموصوفة في الطلب الحالي لم تكن استثنائية بشكل متبادل ويمكن أن توجد في تبديلات وتوفيقات متنوعة؛ حتى إذا لم تكن هذه التوليفات أو التبديلات صريحة؛ دون التحول عن جوهر ونطاق الطلب. بعد وصف تنفيذات معينة لطرق الحد من تراكم ناتج التكثيف» سوف يتضح OY) لأحد الأشخاص المتمرسين في هذا المجال أن تنفيذات أخرى تضم مفاهيم الطلب يمكن استخدامها. من ثم؛ لا يقتصر الطلب على تنفيذات معينة؛ بل ينبغي تقييده فقط بجوهر ونطاق عناصر الحماية التالية. قائمة التتابع: ماء 0 ب" ديكان 'ج' زاوية التلامس سطح الزجاج المعالج (درجة (sie ل" ديكان على الحجر الرملي المعالج مع 135 نانو NPs jie "a" ديكان على الحجر الرملي المعالج مع 180 نانو NPs jie 'و". توزيع الشدة ty 5 القطر؛ نانو متر (HO) '¢ 5810:1055 خام اط" NPs 58:02 معالج بالفلور («-بيوتانول) 'ي" هبوط الضغط رطل على بوصة مربعة 'ك" PV is "J 0 .ما بعد المعالجة م" ما قبل المعالجة
Claims (1)
- عناصر الحماية1. طريقة للحد من تراكم ناتج التكثيف condensate بالقرب من حفرة البثر wellbore لخزان ناتج تكثيف الغاز «gas condensate reservoir تشتمل الطريقة على: ملامسة تكوين حجر رملي sandstone formation بالقرب من حفرة البثر wellbore لخزان ناتج تكثيف الغاز gas condensate reservoir مع محلول بوليمري polymer solution حيث يشتمل المحلول البوليمري polymer solution على بوليمر مشحون charged polymer مع شحنة صافية net charge أولى مما يشكل تكوين حجر رملي «Jax sandstone formation و ملامسة تكوين الحجر الرملي sandstone formation المعدل مع مستعلق الجسيم particle suspension حيث يشتمل مستعلق الجسيم particle suspension على جسيمات مشحونة charged particles 0 مع شحنة صافية (Al net charge حيث تكون الشحنات الصافية net charges الأولى والثانية متقابلة.2. الطريقة وفقاً لعنصر الحماية 1؛ حيث يتم شحن البوليمر المشحون charged polymer بصورة موجبة في محلول البوليمر polymer solution ويتم شحن الجسيمات المشحونة charged particles 5 بصورة سالبة في مستعلق الجسيم particle suspension 3 الطريقة وفقاً لعنصر الحماية 2 حيث يشتمل البوليمر المشحون charged polymer على العديد من مجموعات الأمين .amine groups0 4. الطريقة وفقاً لعنصر الحماية 2 Gua يشتمل البوليمر المشحون charged polymer على العديد من مجموعات ١ لأمونيوم cl, العناصر -quaternary ammonium groups5. الطريقة وفقاً لعنصر الحماية 2 Gun يكون البوليمر المشحون charged polymer بوليمر قابلة لأن يكون رباعي العناصر quaternizable polymer تم تحضيره بواسطة بلمرة فينيل إيميدازول vinylimidazole 5 مع موتومر فينيل vinyl أو acrylic lb <I أو كلا من الموتومر .monomer— 8 2 —6. الطريقة وفقاً لعنصر الحماية 2 حيث يكون البوليمر المشحون charged polymer بولي كواتيرنيوم.polyquaternium7. الطريقة وفقاً لعنصر الحماية 2 حيث يكون البوليمر المشحون charged polymer بولي إيثيلين.polyethylenimine (pal 58. الطريقة وفقاً لعنصر الحماية 7( حيث يكون البوليمر المشحون charged polymer مشتق وظيفي functionalized derivative لبولي إيثيلين إيمين -polyethylenimine 0 9. الطريقة وفقاً لعنصر الحماية 1 حيث يتضمن محلول البوليمر polymer solution رقم هيدروجيني في مدى 5 إلى 10.0. الطريقة وفقاً لعنصر الحماية 1 Gus يتضمن البوليمر المشحون charged polymer متوسط عددي لوزن جزيئي داخل مدى من 120 إلى 800000 ala لكل مول.1. الطريقة وفقاً لعنصر الحماية 1؛ حيث يوجد البوليمر المشحون charged polymer في محلول البوليمر polymer solution بكمية من 0.01 حجم 7 إلى 10 حجم 7.2. الطريقة وفقاً لعنصر الحماية 1؛ Gus تشتمل الجسيمات المشحونة charged particles على 0 الجسيمات المشحونة charged particles على سيليكا silica زركونيا ezirconia أو جسيمات نانو تيتانيوم titanium nanoparticles3. الطريقة وفقاً لعنصر الحماية 1؛ حيث تشتمل الجسيمات المشحونة charged particles على بوليمرات بولي ستيرين polystyrene أو أساسها ميثاكريلات .methacrylate 254. الطريقة وفقاً لعنصر الحماية | حيث تكون الجسيمات المشحونة charged particles مفلورة fluorinated5. الطريقة وفقاً لعنصر الحماية 1؛ حيث تتضمن الجسيمات المشحونة charged particles متوسط قطر في من 30 نانومتر إلى 500 نانومتر.6. الطريقة وفقاً لعنصر الحماية 1؛ حيث توجد الجسيمات المشحونة charged particles مستعلق الجسيم particle suspension بكمية تتراوح من 0.01 وزن / إلى 10 وزن 7. 0 17. الطريقة وفقاً لعنصر الحماية 1؛ حيث يشتمل محلول البوليمر polymer solution على مذيب مختار من المجموعة التي تتكون من إيثانول ethanol أيزوبروبانول isopropanol إيثيلين جليكول ethylene glycol بيوتانول butanol 2-بيوتوكسي إيثانول «2-butoxyethanol بيوتيل cbutyl كربيتول ccarbitol بنتانول pentanol هكسانول chexanol كحولات تيربين cterpene alcohols إيثر إيثيلين جليكول مونو cethylene glycol mono-n—-propyl ether Jug wn إيثر دي يثيلين جليكول 135 مونى إيقيل diethylene glycol monoethyl ether إيثر دي برويلين جليكول ميثيل dipropylene cglycol methyl ether إيثر برويلين جليكول مونو -0- propylene glycol mono-n--propyl Jug ether وتوليفات من ذلك.8. الطريقة وفقاً لعنصر الحماية 1؛ حيث يشتمل مستعلق الجسيم particle suspension على مذيب 0 مختار من المجموعة التي تتكون من إيثانول cethanol أيزويروبانول isopropanol إيثيلين جليكول ethylene glycol بيوتانول butanol 2-بيوتوكسي إيثانول «2-butoxyethanol بيوتيل cbutyl كربيتول ccarbitol بنتانول pentanol هكسانول chexanol كحولات تيربين cterpene alcohols إيثر إيثيلين جليكول مونو cethylene glycol mono-n—-propyl ether Jug wn إيثر دي يثيلين جليكول مونى diethylene glycol monoethyl ether Ji) إيثر دي برويلين جليكول ميثيل dipropylene 5 ععطاء cglycol methyl إيثر برويلين جليكول مونو -0-بروييل propylene glycol mono-n--propyl cether وتوليفات من ذلك.— 0 3 —9. الطريقة وفقاً لعنصر الحماية 1( Cus يشتمل محلول البوليمر polymer solution ومستعلق الجسيم particle suspension على نفس المذيب أو توليفة من المذيبات.20. الطريقة وفقاً لعنصر الحماية 1؛ حيث يكون البوليمر المشحون charged polymer بولي إيثيلين polyethylenimine (pe وتكون الجسيمات المشحونة charged particles جسيمات سيليكا مغلورة.fluorinated silica particles1. الطريقة وفقاً لعنصر الحماية 1؛ حيث يتم شحن تكوين الحجر الرملي sandstone formation 0 بصورة سالبة قبل أن تتم ملامستها مع محلول البوليمر -polymer solution2. الطريقة وفقاً لعنصر الحماية 1؛ تشتمل Load على ملامسة تكوين الحجر الرملي sandstone formation المعدل مع محلول مادة خافضة للتوتر السطحي surfactant solution يشتمل على مادة خافضة للتوتر السطحي surfactant 153. الطريقة وفقاً لعنصر الحماية 22 حيث توجد المادة الخافضة للتوتر السطحي surfactant في محلول المادة الخافضة للتوتر السطحي surfactant solution في كمية تتراوح من 0.1 وزن 7 إلى 0 وزن J 0 24. الطريقة Gy لعنصر الحماية 22 حيث يشتمل محلول المادة الخافضة للتوتر السطحى surfactant solution على مذيب مختار من المجموعة التي تتكون من إيثانول cethanol أيزويرويانول isopropanol إيثيلين جليكول ethylene glycol بيوتانول butanol 2-بيوتوكسي إيثانول -2 cbutoxyethanol بيوتيل butyl كربيتول ccarbitol بنتانول 6018001م» هكسانول chexanol كحولات تيريين cterpene alcohols إيثر إيثيلين جليكول مونو -0-بروييل ethylene glycol mono-n—- Ji) propyl ether 5 دي يثيلين جليكول مونو Jil «diethylene glycol monoethyl ether Jil دي— 1 3 — برويلين جليكول ميقيل cdipropylene glycol methyl ether إيثر بروبلين جليكول مونو-«-بروبيل propylene glycol mono-n—-propyl ether وتوليفات من ذلك.5. نظام للحد من تراكم ناتج التكثيف بالقرب من حفرة البثر wellbore لخزان ناتج تكثيف الغاز gas condensate reservoir 5 يشتمل النظام على: حاوية أولى أو مصدر محلول البوليمر polymer solution الذي يشتمل على بوليمر مشحون charged polymer وشحنة صافية net charge أولى ¢ حاوية ثانية أو مصدر مستعلق الجسيم particle suspension الذي يشتمل على جسيمات مشحونة charged particles مع شحنة صافية net charge ثانية؛ حيث تكون الشحنات الصافية net charges 0 الأولى والثانية متقابلة. و أنابيب conduits لإدخال محلول البوليمر polymer solution ومستعلق الجسيم particle suspension Jala نفس تكوين الحجر الرملي sandstone formation بالقرب من حفرة البثر wellbore لخزان ناتج تكثيف الغاز .gas condensate reservoir26. النظام وفقاً لعنصر الحماية 25 حيث يتم شحن البوليمر المشحون charged polymer بصورة موجبة في محلول البوليمر polymer solution ويتم حشن الجسيمات المشحونة charged particles بصورة سالبة في مستعلق الجسيم suspension 00711616.7. النظام وفقاً لعنصر الحماية 25( حيث يشتمل البوليمر المشحون charged polymer على العديد 0 من مجموعات الأمين .amine groups8. النظام وفقاً لعنصر الحماية25؛ حيث يشتمل البوليمر المشحون charged polymer على العديد من مجموعات ١ لأمونيوم cl, العناصر -quaternary ammonium groups— 2 3 —9. النظام وفقاً لعنصر الحماية 25 حيث يكون البوليمر المشحون charged polymer بوليمر قابلة لأن يكون رباعي العناصر quaternizable polymer تم تحضيره بواسطة بلمرة فينيل إيميدازول vinylimidazole مع vinyl Jud أو أكريليك acrylic أو كل من المونومر .monomer 5 30. النظام وفقاً لعنصر الحماية 25 حيث يكون البوليمر المشحون charged polymer بولي كواتيرنيوم -polyquaternium1. النظام وفقاً لعنصر الحماية 25 Cun يكون البوليمر المشحون charged polymer بولي إيثيلين إيمين .polyethylenimine 102. النظام وفقاً لعنصر الحماية 25 Gua يكون البوليمر المشحون Gide charged polymer وظيفي functionalized derivative لبولي (alin) إيمين -polyethylenimine3. النظام وفقاً لعنصر الحماية 25 Cus يتضمن محلول البوليمر polymer solution رقم هيدروجيني في من 5 إلى 10.4. النظام وفقاً لعنصر الحماية 25 حيث يتضمن البوليمر المشحون charged polymer متوسط عددي لوزن جزيئي داخل مدى من 120 إلى 800000 ala لكل مول. 0 35. النظام وفقاً لعنصر الحماية 25 حيث يوجد البوليمر المشحون charged polymer في محلول البوليمر polymer solution بكمية والتي تتراوح من 0.01 حجم 7 إلى 10 حجم 7.6. النظام وفقاً لعنصر الحماية 25 حيث تشتمل الجسيمات المشحونة charged particles على الجسيمات المشحونة charged particles على سيليكا silica زركونيا zirconia أو جسيمات نانو 5 تيتانيوم titanium nanoparticles— 3 3 —7. النظام وفقاً لعنصر الحماية 25 حيث تشتمل الجسيمات المشحونة charged particles على بوليمرات بولي ستيرين polystyrene أو أساسها ميثاكريلات -methacrylate8. النظام وفقاً لعنصر الحماية 25 حيث تكون الجسيمات المشحونة charged particles مفلورة fluorinated 59. النظام وفقاً لعنصر الحماية 25 حيث تتضمن الجسيمات المشحونة charged particles متوسط قطر في مدى من 30 نانومتر إلى 500 نانومتر. 0 40. النظام Wy لعنصر الحماية 25 حيث توجد الجسيمات المشحونة charged particles في مستعلق الجسيم particle suspension بكمية تتراوح من 0.01 وزن / إلى 10 وزن 7.1. النظام وفقاً لعنصر الحماية 25 حيث يشتمل محلول البوليمر polymer solution على مذيب مختار من المجموعة التي تتكون من إيثانول cethanol أيزويروبانول 800100001 إيثيلين جليكول glycol 5 عصعايطاه» بيوتانول butanol 2-بيوتوكسي إيثانول «2-butoxyethanol بيوتيل cbutyl كربيتول ccarbitol بنتانول pentanol هكسانول chexanol كحولات تيربين cterpene alcohols إيثر إيثيلين جليكول مونو cethylene glycol mono-n—-propyl ether Jug wn إيثر دي يثيلين جليكول مونى diethylene glycol monoethyl ether Ji) إيثر دي برويلين جليكول ميثيل dipropylene cglycol methyl ether إيثر برويلين جليكول مونو -0- propylene glycol mono-n--propyl Jug clad gig ether 20 من ذلك.2. النظام وفقاً لعنصر الحماية 25 حيث يشتمل مستعلق الجسيم particle suspension على مذيب مختار من المجموعة التي تتكون من إيثانول cethanol أيزويرويانول 5000001 ايثيلين جليكول cethylene glycol بيوتانول 001ها:» 2-بيوتوكسي إيثانول «2-butoxyethanol بيوتيل butyl 5 كربيتول ccarbitol بنتانول 1مصمادم؛» هكسانول chexanol كحولات تيريين terpene calcohols إيثر إيثيلين جليكول مونو cethylene glycol mono-n—-propyl ether Jug n= إيثر— 4 3 — دي يثيلين جليكول مونو إيثيل «diethylene glycol monoethyl ether إيثر دي برويلين جليكول cdipropylene glycol methyl ether (iw إيثر بروبلين جليكول مونو -0«-بروبيل propylene glycol mono-n—-propyl ether وتوليفات من ذلك.43. النظام وفقاً لعنصر الحماية 25 حيث يشتمل محلول البوليمر polymer solution ومستعلق الجسيم particle suspension على نفس المذيب أو توليفة من المذيبات.4. النظام وفقاً لعنصر الحماية 25 حيث يكون البوليمر المشحون charged polymer بولي إيثيلين إيمين polyethylenimine وتكون الجسيمات المشحونة charged particles جسيمات سيليكا مفلورة fluorinated silica particles 05. النظام وفقاً لعنصر الحماية 25( حيث يتم شحن التكوين الصخري بصورة سالبة قبل أن تتم ملامستها مع محلول البوليمر -polymer solution 5 46. النظام وفقاً لعنصر الحماية 25 يشتمل أيضاً على حاوية ثالثة أو مصدر محلول مادة خافضة للتوتر السطحي surfactant solution يشتمل على sale خافضة للتوتر السطحي surfactant وقناة conduit لإدخال محلول المادة الخافضة للتوتر السطحي surfactant solution داخل تكوين الحجر الرملي sandstone formation بالقرب من حفرة wellbore al لخزان ناتج تكثيف الغاز gas.condensate reservoir 20 47 النظام وفقاً لعنصر الحماية 46( حيث توجد المادة الخافضة للتوتر السطحي surfactant في محلول المادة الخافضة للتوتر السطحي surfactant solution في كمية تتراوح من 0.1 وزن 7 إلى 0 وزن Jo 5 48 النظام وفقاً لعنصر الحماية 46 حيث يشتمل محلول المادة الخافضة للتوتر السطحى surfactant solution على مذيب مختار من المجموعة التي تتكون من إيثانول cethanol أيزويرويانول—_ 3 5 —_2- 2-بيوتوكسي إيثانول butanol بيوتانول ethylene glycol إيثيلين جليكول isopropanol كحولات chexanol هكسانول cpentanol بنتانول ccarbitol كربيتول butyl بيوتيل cbutoxyethanol ethylene glycol mono-n—- Jug n= إيثر إيثيلين جليكول مونو cterpene alcohols تيريين دي Jil «diethylene glycol monoethyl ether إيثر دي يثيلين جليكول مونو إيثيل propyl ether Jug n= sige إيثر برويلين جليكول dipropylene glycol methyl ether بروبلين جليكول ميقيل 5propylene glycol mono-n—-propyl ether وتوليفات من ذلك.— 3 6 — دن 0 ا 5 ا a a or a Emm - ١ شكلT i i Heit 1 i i i 5 i 1 i «i7 i i RR i i EE TITS ras i { BE a A aL RSI i i ا SS ESRI i i ES { SRE Re i 1 i RRR 1 i 8 gt i BR i ot i 0 i i 1# 1 i سس سي 1 i eR SRR i i RRR i | Np 1 i x LN i i EEE i i ry i i + i Fromme i 1 i 1 i 1 1 i ا i i ل i * A 8 i ل 1 i SE 1 i Gs i 1 i OT __ i 1 0 i i I 1 i BD i i 1 i i * i i Cw ل i i Yor eA i ! po & 0Jeo iالا ا و قا 8 + 3 fod Ee 1 Bi 1 fy an i i ماي ve 2 oy 8 pi Va ao : { : Ee La i | امن ded FA تتا ؟ ng FUE ا 1 {Ls با x 1 ا" : i | | | تاك 0 8 1 i 3 tt i لله الى #8 إٍْ 1 ا 00 3 Lo DG A باع عق AE ; Fad i 8 voy i i; 0 5 } 3 Fd 0 8 ًُ & | i i 8 Nw } 1 a, vob | 3“ v4 oO EEE) Teen Hagen a | لمسمسسسسسساللمستسسمتستللللٍفلللللمسسسمسكلسسملالسكساف نا ٠ Tas Vor Tou Sas Loy avy eu noel + v Is %6 2 Te ya 5 Xe Te نكن إل ا ااا ا و نار Cea لياس : ‘ om ا ا م يِ : SR ob PRES لسلست ]ص <r » 1 0 SE cs x a Vas Va Xie Yds Xn ntالحاضهة الهيلة السعودية الملضية الفكرية Swed Authority for intallentual Property pW RE .¥ + \ ا 0 § ام 5 + < Ne ge ”بن اج > عي كي الج دا لي ايام TEE ببح ةا Nase eg + Ed - 2 - 3 .++ .* وذلك بشرط تسديد المقابل المالي السنوي للبراءة وعدم بطلانها of سقوطها لمخالفتها ع لأي من أحكام نظام براءات الاختراع والتصميمات التخطيطية للدارات المتكاملة والأصناف ع النباتية والنماذج الصناعية أو لائحته التنفيذية. »> صادرة عن + ب ب ٠. ب الهيئة السعودية للملكية الفكرية > > > ”+ ص ب 101١ .| لريا 1*١ uo ؛ المملكة | لعربية | لسعودية SAIP@SAIP.GOV.SA
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US201762534927P | 2017-07-20 | 2017-07-20 | |
| PCT/US2018/042657 WO2019018507A1 (en) | 2017-07-20 | 2018-07-18 | MITIGATION OF CONDENSATE ACCUMULATION USING SURFACE MODIFICATION |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| SA520411066B1 true SA520411066B1 (ar) | 2022-10-30 |
Family
ID=63104106
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| SA520411066A SA520411066B1 (ar) | 2017-07-20 | 2020-01-16 | الحد من تراكم ناتج تكثيف باستخدام تعديل سطحي |
Country Status (7)
| Country | Link |
|---|---|
| US (2) | US10442983B2 (ar) |
| EP (1) | EP3655494B1 (ar) |
| JP (1) | JP2020527626A (ar) |
| CN (2) | CN110945102B (ar) |
| CA (1) | CA3066236A1 (ar) |
| SA (1) | SA520411066B1 (ar) |
| WO (1) | WO2019018507A1 (ar) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US10442983B2 (en) | 2017-07-20 | 2019-10-15 | Saudi Arabian Oil Company | Mitigation of condensate banking using surface modification |
| CN107418546A (zh) * | 2017-07-28 | 2017-12-01 | 中国石油天然气股份有限公司 | 一种改变致密砂岩表面润湿性表面活性剂及其制备方法和应用 |
| WO2020154063A1 (en) | 2019-01-23 | 2020-07-30 | Saudi Arabian Oil Company | Mitigation of condensate and water banking using functionalized nanoparticles |
| US11739259B1 (en) | 2022-04-07 | 2023-08-29 | Saudi Arabian Oil Company | Interfacial assembly of integrated silica nanoparticles and fluorosurfactant heterostructures in foamed fracturing fluids |
Family Cites Families (48)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4366071A (en) * | 1976-08-13 | 1982-12-28 | Halliburton Company | Oil well treating method and composition |
| JP2796867B2 (ja) * | 1990-01-12 | 1998-09-10 | 三井サイテック株式会社 | カチオン性およびアニオン性重合体による石油回収方法 |
| WO1998050945A2 (en) | 1997-05-07 | 1998-11-12 | Skamser Daniel J | Low density film for low dielectric constant applications |
| DE19847647A1 (de) | 1998-10-15 | 2000-04-20 | Elenac Gmbh | Wirbelschichtverfahren und Reaktor zur Behandlung von Katalysatoren und Katalysatorträgern |
| DE19914751A1 (de) | 1999-03-31 | 2000-10-05 | Elenac Gmbh | Verfahren und Vorrichtung zur kontinuierlichen Behandlung von Katalysatoren und Katalysatorträger |
| DE19914752A1 (de) | 1999-03-31 | 2000-10-05 | Elenac Gmbh | Verfahren zur diskontinuierlichen, thermischen Behandlung von Katalysatormaterial |
| US7029507B2 (en) | 2001-11-29 | 2006-04-18 | Nanoproducts Corporation | Polishing using multi-metal oxide nanopowders |
| US6865939B2 (en) | 2002-09-16 | 2005-03-15 | Sandia Naitonal Laboratories | Fluorinated silica microchannel surfaces |
| US6945327B2 (en) | 2003-02-11 | 2005-09-20 | Ely & Associates, Inc. | Method for reducing permeability restriction near wellbore |
| US7179758B2 (en) | 2003-09-03 | 2007-02-20 | International Business Machines Corporation | Recovery of hydrophobicity of low-k and ultra low-k organosilicate films used as inter metal dielectrics |
| CA2583610A1 (en) | 2004-09-22 | 2006-03-30 | Benjamin David Hatton | Method of transformation of bridging organic groups in organosilica materials |
| TW200700510A (en) | 2005-02-25 | 2007-01-01 | Optimax Tech Corp | Inorganic-organic hybrid nanocomposite antiglare and antireflection coatings |
| TW200635430A (en) | 2005-02-25 | 2006-10-01 | Optimax Tech Corp | Optical thin films with nano-corrugated surface topologies by a simple coating method |
| US8025922B2 (en) | 2005-03-15 | 2011-09-27 | Asm International N.V. | Enhanced deposition of noble metals |
| US20070029085A1 (en) | 2005-08-05 | 2007-02-08 | Panga Mohan K | Prevention of Water and Condensate Blocks in Wells |
| WO2007112100A2 (en) | 2006-03-24 | 2007-10-04 | The University Of Utah Research Foundation | Highly fluorinated oils and surfactants and methods of making and using same |
| US20070249164A1 (en) | 2006-04-20 | 2007-10-25 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. | Method of fabricating an interconnect structure |
| DE102006033280A1 (de) | 2006-07-18 | 2008-01-24 | Leibniz-Institut Für Neue Materialien Gemeinnützige Gmbh | Kompositzusammensetzung für mikrostrukturierte Schichten |
| US8183184B2 (en) * | 2006-09-05 | 2012-05-22 | University Of Kansas | Polyelectrolyte complexes for oil and gas applications |
| US20090317621A1 (en) | 2006-11-30 | 2009-12-24 | Youngblood Jeffrey P | Stimuli-Responsive Polymeric Surface Materials |
| BRPI0721503A8 (pt) | 2007-03-23 | 2019-01-15 | 3M Innovative Properties Co | composições e métodos para tratamento de um poço bloqueado por água |
| WO2008118241A1 (en) * | 2007-03-23 | 2008-10-02 | Board Of Regents, The University Of Texas System | Compositions and methods for treating a water blocked well |
| KR20100102087A (ko) | 2007-07-13 | 2010-09-20 | 인터몰레큘러 인코퍼레이티드 | 로우-ｋ 유전체 재료의 표면 개질 |
| US20100270020A1 (en) * | 2007-12-21 | 2010-10-28 | Baran Jr Jimmie R | Methods for treating hydrocarbon-bearing formations with fluorinated anionic surfactant compositions |
| KR20110014606A (ko) | 2008-04-25 | 2011-02-11 | 노오쓰웨스턴 유니버시티 | 폴리머 펜 리소그라피 |
| EP2307469A2 (en) * | 2008-07-18 | 2011-04-13 | 3M Innovative Properties Company | Cationic fluorinated polymer compositions and methods for treating hydrocarbon-bearing formations using the same |
| US20100096139A1 (en) | 2008-10-17 | 2010-04-22 | Frac Tech Services, Ltd. | Method for Intervention Operations in Subsurface Hydrocarbon Formations |
| CA2752907A1 (en) | 2009-02-18 | 2010-08-26 | Northwestern University | Gel polymer pen lithography |
| US8101556B2 (en) * | 2009-05-08 | 2012-01-24 | Halliburton Energy Services, Inc. | Treatment fluids for reduction of water blocks, oil blocks, and/or gas condensates and associated methods |
| FI122230B (fi) | 2009-07-02 | 2011-10-31 | Aalto Korkeakoulusaeaetioe | Nestettä hylkivä materiaali |
| US8669212B2 (en) | 2009-09-03 | 2014-03-11 | Halliburton Energy Services, Inc. | Fluorosurfactants and treatment fluids for reduction of water blocks, oil blocks, and/or gas condensates and associated methods |
| US8573302B2 (en) | 2010-01-15 | 2013-11-05 | Halliburton Energy Services, Inc. | Surfactants and friction reducing polymers for the reduction of water blocks and gas condensates and associated methods |
| CA2690768A1 (en) | 2010-01-21 | 2011-07-21 | Trican Well Services Ltd. | Compositions and methods for enhancing fluid recovery for hydraulic fracturing treatments |
| US8148303B2 (en) | 2010-06-30 | 2012-04-03 | Halliburton Energy Services Inc. | Surfactant additives used to retain producibility while drilling |
| US9675994B2 (en) | 2011-06-01 | 2017-06-13 | The University Of North Carolina At Chapel Hill | Superhydrophobic coatings and methods for their preparation |
| EP2855618B1 (en) | 2011-09-30 | 2021-01-13 | Hexion Research Belgium SA | Proppant materials and methods of tailoring proppant material surface wettability |
| CN104321279B (zh) | 2011-11-11 | 2016-09-28 | 维络斯弗洛有限责任公司 | 用于化学附着和变色的多官能超疏水性硅藻土 |
| US20150322272A1 (en) | 2012-12-13 | 2015-11-12 | Technion Research & Development Foundation Limited | Hydrophobic and oleophobic surfaces and uses thereof |
| WO2015042489A1 (en) * | 2013-09-20 | 2015-03-26 | Baker Hughes Incorporated | Method of using surface modifying metallic treatment agents to treat subterranean formations |
| CN105960170A (zh) | 2013-12-23 | 2016-09-21 | X微生物有限责任公司 | 杀微生物聚合物及其使用方法 |
| US10253243B2 (en) * | 2014-05-05 | 2019-04-09 | Saudi Arabian Oil Company | Flash point adjustment of wettability alteration chemicals in hydrocarbon solvents |
| EP3209605B1 (en) | 2014-10-24 | 2019-05-01 | The Board of Trustees of the Leland Stanford Junior University | Assay method with a fluorinated pickering emulsion |
| WO2016073658A1 (en) | 2014-11-05 | 2016-05-12 | Corning Incorporated | Bottom-up electrolytic via plating method |
| WO2016090368A1 (en) | 2014-12-05 | 2016-06-09 | Velox Flow, Llc | Multifunctional superhydrophobic particles for chemical adhesion and blooming |
| US9862878B2 (en) | 2014-12-11 | 2018-01-09 | Saudi Arabian Oil Company | High temperature fracturing fluids with nano-crosslinkers |
| US10351763B2 (en) | 2017-02-27 | 2019-07-16 | Saudi Arabian Oil Company | Interfacial tension reduction and wettability alteration using metal oxide nanoparticles to reduce condensate banking |
| US10442983B2 (en) | 2017-07-20 | 2019-10-15 | Saudi Arabian Oil Company | Mitigation of condensate banking using surface modification |
| WO2020154063A1 (en) | 2019-01-23 | 2020-07-30 | Saudi Arabian Oil Company | Mitigation of condensate and water banking using functionalized nanoparticles |
-
2018
- 2018-07-18 US US16/038,692 patent/US10442983B2/en active Active
- 2018-07-18 WO PCT/US2018/042657 patent/WO2019018507A1/en unknown
- 2018-07-18 CA CA3066236A patent/CA3066236A1/en not_active Abandoned
- 2018-07-18 CN CN201880047982.6A patent/CN110945102B/zh not_active Expired - Fee Related
- 2018-07-18 CN CN202111068855.4A patent/CN113982549A/zh active Pending
- 2018-07-18 JP JP2020500837A patent/JP2020527626A/ja active Pending
- 2018-07-18 EP EP18750013.7A patent/EP3655494B1/en active Active
-
2019
- 2019-08-22 US US16/547,688 patent/US11015111B2/en active Active
-
2020
- 2020-01-16 SA SA520411066A patent/SA520411066B1/ar unknown
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2020527626A (ja) | 2020-09-10 |
| US11015111B2 (en) | 2021-05-25 |
| CN110945102B (zh) | 2021-10-01 |
| CA3066236A1 (en) | 2019-01-24 |
| US10442983B2 (en) | 2019-10-15 |
| CN113982549A (zh) | 2022-01-28 |
| CN110945102A (zh) | 2020-03-31 |
| US20200024505A1 (en) | 2020-01-23 |
| EP3655494A1 (en) | 2020-05-27 |
| WO2019018507A1 (en) | 2019-01-24 |
| US20190023973A1 (en) | 2019-01-24 |
| EP3655494B1 (en) | 2021-04-14 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| SA520411066B1 (ar) | الحد من تراكم ناتج تكثيف باستخدام تعديل سطحي | |
| US8043998B2 (en) | Method for treating a fractured formation with a non-ionic fluorinated polymeric surfactant | |
| CN102159602B (zh) | 阳离子氟化聚合物组合物以及用其处理含烃地层的方法 | |
| US10648304B2 (en) | Method of using surface modifying treatment agents to treat subterranean formations | |
| EP2054485B1 (en) | Compositions and methods for improving the productivity of hydrocarbon producing wells | |
| SA517380774B1 (ar) | مادة مركبة تتضمن عامل معالجة بئر و/أو متتبع ملصق على ركيزة متكلسة من لب مطلي بأوكسيد معدني وطريقة استخدامها | |
| US9701892B2 (en) | Method of pumping aqueous fluid containing surface modifying treatment agent into a well | |
| US20100167964A1 (en) | Compositions and Methods for Treating a Water Blocked Well | |
| US20100270021A1 (en) | Methods for treating hydrocarbon-bearing formations with fluorinated polymer compositions | |
| SA517381624B1 (ar) | موائع تكسير ذات درجة حرارة مرتفعة تتضمن روابط تشابكية بحجم النانو | |
| SA515361249B1 (ar) | بوليمرات للاستخلاص المعزز للهيدروكربونات | |
| CA3004016A1 (en) | Suspensions of nonpolar nanoparticles for enhanced recovery of heavy oils | |
| López et al. | Cardanol/SiO2 nanocomposites for inhibition of formation damage by asphaltene precipitation/deposition in light crude oil reservoirs. part ii: nanocomposite evaluation and coreflooding test | |
| US10160903B2 (en) | Multi-functional additive for oil or gas operations | |
| Qin et al. | Further insights into the performance of silylated polyacrylamide-based relative permeability modifiers in carbonate reservoirs and influencing factors | |
| Ngata et al. | Minireview of formation damage control through nanotechnology utilization at fieldwork conditions | |
| Li et al. | Organosilane film for sand migration control based on in-situ hydrolysis and polycondensation effects | |
| RU2759431C1 (ru) | Применение газов и жидкостей для извлечения углеводородов, содержащих наночастицы, для повышения извлечения углеводородов | |
| Damgaard | Experimental investigation of nanoparticle adsorption and pore blockage in intermediate wet berea sandstone | |
| Chen et al. | Development of a New Squeeze Scale Inhibitor for Mitigating Formation Damage for High TDS High Temperature Tight Carbonate Reservoir | |
| Elkarsani | Development of a new cost-effective polymer gel for water control in oil and gas wells |