SA519410302B1 - التحكم في القشور في محطات إنتاج ومعالجة حمض فسفوريك - Google Patents
التحكم في القشور في محطات إنتاج ومعالجة حمض فسفوريك Download PDFInfo
- Publication number
- SA519410302B1 SA519410302B1 SA519410302A SA519410302A SA519410302B1 SA 519410302 B1 SA519410302 B1 SA 519410302B1 SA 519410302 A SA519410302 A SA 519410302A SA 519410302 A SA519410302 A SA 519410302A SA 519410302 B1 SA519410302 B1 SA 519410302B1
- Authority
- SA
- Saudi Arabia
- Prior art keywords
- scale
- phosphate
- acid
- certain embodiments
- rrr
- Prior art date
Links
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 192
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 96
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title abstract description 48
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims abstract description 280
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 87
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims abstract description 11
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 claims description 236
- 235000021317 phosphate Nutrition 0.000 claims description 232
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K phosphate Chemical compound [O-]P([O-])([O-])=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K 0.000 claims description 223
- 239000010452 phosphate Substances 0.000 claims description 217
- 238000009472 formulation Methods 0.000 claims description 114
- OSGAYBCDTDRGGQ-UHFFFAOYSA-L calcium sulfate Chemical compound [Ca+2].[O-]S([O-])(=O)=O OSGAYBCDTDRGGQ-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 62
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 59
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 46
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 2-Propenoic acid Natural products OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 45
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 42
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 claims description 41
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims description 37
- -1 phosphates phosphate Chemical class 0.000 claims description 34
- 125000002467 phosphate group Chemical group [H]OP(=O)(O[H])O[*] 0.000 claims description 27
- XHZPRMZZQOIPDS-UHFFFAOYSA-N 2-Methyl-2-[(1-oxo-2-propenyl)amino]-1-propanesulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)CC(C)(C)NC(=O)C=C XHZPRMZZQOIPDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 26
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 25
- 229920000536 2-Acrylamido-2-methylpropane sulfonic acid Polymers 0.000 claims description 22
- 241000196324 Embryophyta Species 0.000 claims description 17
- JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 2-(3-fluorophenyl)-1h-imidazole Chemical compound FC1=CC=CC(C=2NC=CN=2)=C1 JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 16
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 claims description 15
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 13
- 239000007787 solid Substances 0.000 claims description 12
- VSIIXMUUUJUKCM-UHFFFAOYSA-D pentacalcium;fluoride;triphosphate Chemical compound [F-].[Ca+2].[Ca+2].[Ca+2].[Ca+2].[Ca+2].[O-]P([O-])([O-])=O.[O-]P([O-])([O-])=O.[O-]P([O-])([O-])=O VSIIXMUUUJUKCM-UHFFFAOYSA-D 0.000 claims description 11
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims description 11
- 230000009467 reduction Effects 0.000 claims description 11
- HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N Acrylamide Chemical compound NC(=O)C=C HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N methylenebutanedioic acid Natural products OC(=O)CC(=C)C(O)=O LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- 229910052586 apatite Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 229910052587 fluorapatite Inorganic materials 0.000 claims description 6
- ATVJXMYDOSMEPO-UHFFFAOYSA-N 3-prop-2-enoxyprop-1-ene Chemical compound C=CCOCC=C ATVJXMYDOSMEPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 239000004721 Polyphenylene oxide Substances 0.000 claims description 5
- 238000001914 filtration Methods 0.000 claims description 5
- 229920000570 polyether Polymers 0.000 claims description 5
- 239000011575 calcium Substances 0.000 claims description 4
- 125000000325 methylidene group Chemical group [H]C([H])=* 0.000 claims description 4
- 229920002845 Poly(methacrylic acid) Polymers 0.000 claims description 3
- 229910052588 hydroxylapatite Inorganic materials 0.000 claims description 3
- XYJRXVWERLGGKC-UHFFFAOYSA-D pentacalcium;hydroxide;triphosphate Chemical compound [OH-].[Ca+2].[Ca+2].[Ca+2].[Ca+2].[Ca+2].[O-]P([O-])([O-])=O.[O-]P([O-])([O-])=O.[O-]P([O-])([O-])=O XYJRXVWERLGGKC-UHFFFAOYSA-D 0.000 claims description 3
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M Bisulfite Chemical compound OS([O-])=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 2
- HNBPGMZUKDCQEE-UWTATZPHSA-N D-alanyl phosphate Chemical compound C[C@@H](N)C(=O)OP(O)(O)=O HNBPGMZUKDCQEE-UWTATZPHSA-N 0.000 claims description 2
- 238000003825 pressing Methods 0.000 claims description 2
- 241000511343 Chondrostoma nasus Species 0.000 claims 2
- 239000004783 Serene Substances 0.000 claims 2
- MTCFGRXMJLQNBG-UHFFFAOYSA-N serine Chemical compound OCC(N)C(O)=O MTCFGRXMJLQNBG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- 235000005338 Allium tuberosum Nutrition 0.000 claims 1
- 244000003377 Allium tuberosum Species 0.000 claims 1
- 241001233887 Ania Species 0.000 claims 1
- 102100030907 Aryl hydrocarbon receptor nuclear translocator Human genes 0.000 claims 1
- 101000690445 Caenorhabditis elegans Aryl hydrocarbon receptor nuclear translocator homolog Proteins 0.000 claims 1
- 101100478320 Caenorhabditis elegans sre-2 gene Proteins 0.000 claims 1
- 241001649081 Dina Species 0.000 claims 1
- 229930183217 Genin Natural products 0.000 claims 1
- 101000793115 Homo sapiens Aryl hydrocarbon receptor nuclear translocator Proteins 0.000 claims 1
- 102100034184 Macrophage scavenger receptor types I and II Human genes 0.000 claims 1
- 101710134306 Macrophage scavenger receptor types I and II Proteins 0.000 claims 1
- BAWFJGJZGIEFAR-NNYOXOHSSA-N NAD zwitterion Chemical compound NC(=O)C1=CC=C[N+]([C@H]2[C@@H]([C@H](O)[C@@H](COP([O-])(=O)OP(O)(=O)OC[C@@H]3[C@H]([C@@H](O)[C@@H](O3)N3C4=NC=NC(N)=C4N=C3)O)O2)O)=C1 BAWFJGJZGIEFAR-NNYOXOHSSA-N 0.000 claims 1
- 101001098066 Naja melanoleuca Basic phospholipase A2 1 Proteins 0.000 claims 1
- 235000014676 Phragmites communis Nutrition 0.000 claims 1
- 101100271190 Plasmodium falciparum (isolate 3D7) ATAT gene Proteins 0.000 claims 1
- 241000405965 Scomberomorus brasiliensis Species 0.000 claims 1
- XZKQVQKUZMAADP-IMJSIDKUSA-N Ser-Ser Chemical compound OC[C@H](N)C(=O)N[C@@H](CO)C(O)=O XZKQVQKUZMAADP-IMJSIDKUSA-N 0.000 claims 1
- 101710140501 Sulfate adenylyltransferase subunit 2 1 Proteins 0.000 claims 1
- 235000013405 beer Nutrition 0.000 claims 1
- 235000013847 iso-butane Nutrition 0.000 claims 1
- NNPPMTNAJDCUHE-UHFFFAOYSA-N isobutane Chemical compound CC(C)C NNPPMTNAJDCUHE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- VYQNWZOUAUKGHI-UHFFFAOYSA-N monobenzone Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1OCC1=CC=CC=C1 VYQNWZOUAUKGHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- IJDNQMDRQITEOD-UHFFFAOYSA-N sec-butylidene Natural products CCCC IJDNQMDRQITEOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 238000004416 surface enhanced Raman spectroscopy Methods 0.000 claims 1
- 210000002700 urine Anatomy 0.000 claims 1
- 239000011800 void material Substances 0.000 claims 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 abstract description 31
- 239000004254 Ammonium phosphate Substances 0.000 abstract description 2
- 229910000148 ammonium phosphate Inorganic materials 0.000 abstract description 2
- 235000019289 ammonium phosphates Nutrition 0.000 abstract description 2
- MNNHAPBLZZVQHP-UHFFFAOYSA-N diammonium hydrogen phosphate Chemical compound [NH4+].[NH4+].OP([O-])([O-])=O MNNHAPBLZZVQHP-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 2
- 230000000116 mitigating effect Effects 0.000 abstract 2
- 235000011007 phosphoric acid Nutrition 0.000 description 87
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 37
- 206010039509 Scab Diseases 0.000 description 27
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 26
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 23
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 19
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 16
- 230000008569 process Effects 0.000 description 16
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 15
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 15
- 238000011010 flushing procedure Methods 0.000 description 14
- 150000003013 phosphoric acid derivatives Chemical class 0.000 description 14
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 12
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 12
- 229910052500 inorganic mineral Inorganic materials 0.000 description 12
- 239000011707 mineral Substances 0.000 description 12
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 11
- 229910002804 graphite Inorganic materials 0.000 description 11
- 239000010439 graphite Substances 0.000 description 11
- 235000010755 mineral Nutrition 0.000 description 11
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 10
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 10
- 239000000463 material Substances 0.000 description 10
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 9
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 9
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 9
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 9
- BHPQYMZQTOCNFJ-UHFFFAOYSA-N Calcium cation Chemical compound [Ca+2] BHPQYMZQTOCNFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 229910001424 calcium ion Inorganic materials 0.000 description 8
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 8
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 7
- 150000004761 hexafluorosilicates Chemical class 0.000 description 7
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 7
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 7
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 7
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M Fluoride anion Chemical compound [F-] KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- YYRMJZQKEFZXMX-UHFFFAOYSA-L calcium bis(dihydrogenphosphate) Chemical compound [Ca+2].OP(O)([O-])=O.OP(O)([O-])=O YYRMJZQKEFZXMX-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 6
- QJQCGQMKETZHDJ-UHFFFAOYSA-J P(=O)(O)([O-])[O-].[Al+3].[K+].P(=O)(O)([O-])[O-] Chemical compound P(=O)(O)([O-])[O-].[Al+3].[K+].P(=O)(O)([O-])[O-] QJQCGQMKETZHDJ-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 5
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 5
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 5
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 5
- 239000000047 product Substances 0.000 description 5
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 5
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052925 anhydrite Inorganic materials 0.000 description 4
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 description 4
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 4
- 239000010440 gypsum Substances 0.000 description 4
- 229910052602 gypsum Inorganic materials 0.000 description 4
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 4
- 239000003039 volatile agent Substances 0.000 description 4
- 238000004876 x-ray fluorescence Methods 0.000 description 4
- WVCHIGAIXREVNS-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-1,4-naphthoquinone Chemical compound C1=CC=C2C(O)=CC(=O)C(=O)C2=C1 WVCHIGAIXREVNS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 3
- 229920002126 Acrylic acid copolymer Polymers 0.000 description 3
- 229910021532 Calcite Inorganic materials 0.000 description 3
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000002441 X-ray diffraction Methods 0.000 description 3
- 238000009825 accumulation Methods 0.000 description 3
- 238000010306 acid treatment Methods 0.000 description 3
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 3
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 3
- 239000012141 concentrate Substances 0.000 description 3
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 3
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 3
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 3
- 230000037361 pathway Effects 0.000 description 3
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 3
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 3
- 238000007790 scraping Methods 0.000 description 3
- 150000004760 silicates Chemical class 0.000 description 3
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 3
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 3
- 229910021489 α-quartz Inorganic materials 0.000 description 3
- QGHDLJAZIIFENW-UHFFFAOYSA-N 4-[1,1,1,3,3,3-hexafluoro-2-(4-hydroxy-3-prop-2-enylphenyl)propan-2-yl]-2-prop-2-enylphenol Chemical group C1=C(CC=C)C(O)=CC=C1C(C(F)(F)F)(C(F)(F)F)C1=CC=C(O)C(CC=C)=C1 QGHDLJAZIIFENW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N Calcium Chemical compound [Ca] OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 241001415288 Coccidae Species 0.000 description 2
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910004883 Na2SiF6 Inorganic materials 0.000 description 2
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N Orthosilicate Chemical compound [O-][Si]([O-])([O-])[O-] BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 101150107869 Sarg gene Proteins 0.000 description 2
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000000429 assembly Methods 0.000 description 2
- 230000000712 assembly Effects 0.000 description 2
- 229960005069 calcium Drugs 0.000 description 2
- 229910000389 calcium phosphate Inorganic materials 0.000 description 2
- RPUZVWKKWXPKIP-UHFFFAOYSA-H dialuminum;hydrogen phosphate Chemical compound [Al+3].[Al+3].OP([O-])([O-])=O.OP([O-])([O-])=O.OP([O-])([O-])=O RPUZVWKKWXPKIP-UHFFFAOYSA-H 0.000 description 2
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-M dihydrogenphosphate Chemical compound OP(O)([O-])=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 2
- 239000003337 fertilizer Substances 0.000 description 2
- 229940077441 fluorapatite Drugs 0.000 description 2
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 2
- 229910000040 hydrogen fluoride Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 2
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 2
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 2
- 239000002455 scale inhibitor Substances 0.000 description 2
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 2
- OWZPCEFYPSAJFR-UHFFFAOYSA-N 2-(butan-2-yl)-4,6-dinitrophenol Chemical compound CCC(C)C1=CC([N+]([O-])=O)=CC([N+]([O-])=O)=C1O OWZPCEFYPSAJFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethanol Chemical compound CCOCCO ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GASMGDMKGYYAHY-UHFFFAOYSA-N 2-methylidenehexanamide Chemical compound CCCCC(=C)C(N)=O GASMGDMKGYYAHY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 108700028369 Alleles Proteins 0.000 description 1
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O Ammonium Chemical compound [NH4+] QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- 101000623895 Bos taurus Mucin-15 Proteins 0.000 description 1
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L Carbonate Chemical compound [O-]C([O-])=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910000881 Cu alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N Fluorine Chemical compound FF PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- 240000007839 Kleinhovia hospita Species 0.000 description 1
- PWHULOQIROXLJO-UHFFFAOYSA-N Manganese Chemical compound [Mn] PWHULOQIROXLJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001182 Mo alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TTZMPOZCBFTTPR-UHFFFAOYSA-N O=P1OCO1 Chemical compound O=P1OCO1 TTZMPOZCBFTTPR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-L Phosphate ion(2-) Chemical compound OP([O-])([O-])=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZXRRHFSTAFVGOC-UHFFFAOYSA-N [AlH3].[K] Chemical compound [AlH3].[K] ZXRRHFSTAFVGOC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000009471 action Effects 0.000 description 1
- 239000004480 active ingredient Substances 0.000 description 1
- 239000000443 aerosol Substances 0.000 description 1
- 230000032683 aging Effects 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- PARMADWNFXEEFC-UHFFFAOYSA-N bamethan sulfate Chemical compound [O-]S([O-])(=O)=O.CCCC[NH2+]CC(O)C1=CC=C(O)C=C1.CCCC[NH2+]CC(O)C1=CC=C(O)C=C1 PARMADWNFXEEFC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- 229940062672 calcium dihydrogen phosphate Drugs 0.000 description 1
- 239000001506 calcium phosphate Substances 0.000 description 1
- 229960001714 calcium phosphate Drugs 0.000 description 1
- 235000011010 calcium phosphates Nutrition 0.000 description 1
- ZOMBKNNSYQHRCA-UHFFFAOYSA-J calcium sulfate hemihydrate Chemical compound O.[Ca+2].[Ca+2].[O-]S([O-])(=O)=O.[O-]S([O-])(=O)=O ZOMBKNNSYQHRCA-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- 150000004649 carbonic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- OGSYQYXYGXIQFH-UHFFFAOYSA-N chromium molybdenum nickel Chemical compound [Cr].[Ni].[Mo] OGSYQYXYGXIQFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- 230000003111 delayed effect Effects 0.000 description 1
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 description 1
- 238000005265 energy consumption Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 125000001301 ethoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 1
- 230000003203 everyday effect Effects 0.000 description 1
- 238000005562 fading Methods 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002222 fluorine compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229920002313 fluoropolymer Polymers 0.000 description 1
- 239000004811 fluoropolymer Substances 0.000 description 1
- ZZUFCTLCJUWOSV-UHFFFAOYSA-N furosemide Chemical compound C1=C(Cl)C(S(=O)(=O)N)=CC(C(O)=O)=C1NCC1=CC=CO1 ZZUFCTLCJUWOSV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000227 grinding Methods 0.000 description 1
- 239000010903 husk Substances 0.000 description 1
- 238000005470 impregnation Methods 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 238000010348 incorporation Methods 0.000 description 1
- 239000002198 insoluble material Substances 0.000 description 1
- 150000008040 ionic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000003754 machining Methods 0.000 description 1
- 239000001095 magnesium carbonate Substances 0.000 description 1
- ZLNQQNXFFQJAID-UHFFFAOYSA-L magnesium carbonate Chemical compound [Mg+2].[O-]C([O-])=O ZLNQQNXFFQJAID-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910000021 magnesium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000014380 magnesium carbonate Nutrition 0.000 description 1
- HCWCAKKEBCNQJP-UHFFFAOYSA-N magnesium orthosilicate Chemical compound [Mg+2].[Mg+2].[O-][Si]([O-])([O-])[O-] HCWCAKKEBCNQJP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000391 magnesium silicate Substances 0.000 description 1
- 229910052919 magnesium silicate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000019792 magnesium silicate Nutrition 0.000 description 1
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011572 manganese Substances 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 description 1
- 235000019691 monocalcium phosphate Nutrition 0.000 description 1
- 229910000150 monocalcium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002686 phosphate fertilizer Substances 0.000 description 1
- 150000004713 phosphodiesters Chemical class 0.000 description 1
- 150000003904 phospholipids Chemical class 0.000 description 1
- YXJYBPXSEKMEEJ-UHFFFAOYSA-N phosphoric acid;sulfuric acid Chemical compound OP(O)(O)=O.OS(O)(=O)=O YXJYBPXSEKMEEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003016 phosphoric acids Chemical class 0.000 description 1
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 1
- BITYAPCSNKJESK-UHFFFAOYSA-N potassiosodium Chemical compound [Na].[K] BITYAPCSNKJESK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ASHGTUMKRVIOLH-UHFFFAOYSA-L potassium;sodium;hydrogen phosphate Chemical compound [Na+].[K+].OP([O-])([O-])=O ASHGTUMKRVIOLH-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 230000001376 precipitating effect Effects 0.000 description 1
- 238000005086 pumping Methods 0.000 description 1
- JTDPJYXDDYUJBS-UHFFFAOYSA-N quinoline-2-carbohydrazide Chemical compound C1=CC=CC2=NC(C(=O)NN)=CC=C21 JTDPJYXDDYUJBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000700 radioactive tracer Substances 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 238000004064 recycling Methods 0.000 description 1
- 239000005060 rubber Substances 0.000 description 1
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 1
- 238000009991 scouring Methods 0.000 description 1
- 238000004062 sedimentation Methods 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 1
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 1
- 238000010025 steaming Methods 0.000 description 1
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 1
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 1
- 229920003051 synthetic elastomer Polymers 0.000 description 1
- 239000005061 synthetic rubber Substances 0.000 description 1
- 239000008399 tap water Substances 0.000 description 1
- 235000020679 tap water Nutrition 0.000 description 1
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 1
- 229920006029 tetra-polymer Polymers 0.000 description 1
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 1
- QORWJWZARLRLPR-UHFFFAOYSA-H tricalcium bis(phosphate) Chemical compound [Ca+2].[Ca+2].[Ca+2].[O-]P([O-])([O-])=O.[O-]P([O-])([O-])=O QORWJWZARLRLPR-UHFFFAOYSA-H 0.000 description 1
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F5/00—Softening water; Preventing scale; Adding scale preventatives or scale removers to water, e.g. adding sequestering agents
- C02F5/08—Treatment of water with complexing chemicals or other solubilising agents for softening, scale prevention or scale removal, e.g. adding sequestering agents
- C02F5/10—Treatment of water with complexing chemicals or other solubilising agents for softening, scale prevention or scale removal, e.g. adding sequestering agents using organic substances
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B25/00—Phosphorus; Compounds thereof
- C01B25/16—Oxyacids of phosphorus; Salts thereof
- C01B25/18—Phosphoric acid
- C01B25/22—Preparation by reacting phosphate-containing material with an acid, e.g. wet process
- C01B25/222—Preparation by reacting phosphate-containing material with an acid, e.g. wet process with sulfuric acid, a mixture of acids mainly consisting of sulfuric acid or a mixture of compounds forming it in situ, e.g. a mixture of sulfur dioxide, water and oxygen
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D1/00—Evaporating
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D1/00—Evaporating
- B01D1/30—Accessories for evaporators ; Constructional details thereof
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B25/00—Phosphorus; Compounds thereof
- C01B25/16—Oxyacids of phosphorus; Salts thereof
- C01B25/18—Phosphoric acid
- C01B25/234—Purification; Stabilisation; Concentration
- C01B25/2343—Concentration concomitant with purification, e.g. elimination of fluorine
- C01B25/2346—Concentration
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B25/00—Phosphorus; Compounds thereof
- C01B25/16—Oxyacids of phosphorus; Salts thereof
- C01B25/26—Phosphates
- C01B25/32—Phosphates of magnesium, calcium, strontium, or barium
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
- C02F1/02—Treatment of water, waste water, or sewage by heating
- C02F1/04—Treatment of water, waste water, or sewage by heating by distillation or evaporation
- C02F1/042—Prevention of deposits
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
- C02F1/02—Treatment of water, waste water, or sewage by heating
- C02F1/04—Treatment of water, waste water, or sewage by heating by distillation or evaporation
- C02F1/06—Flash evaporation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F5/00—Softening water; Preventing scale; Adding scale preventatives or scale removers to water, e.g. adding sequestering agents
- C02F5/08—Treatment of water with complexing chemicals or other solubilising agents for softening, scale prevention or scale removal, e.g. adding sequestering agents
- C02F5/10—Treatment of water with complexing chemicals or other solubilising agents for softening, scale prevention or scale removal, e.g. adding sequestering agents using organic substances
- C02F5/14—Treatment of water with complexing chemicals or other solubilising agents for softening, scale prevention or scale removal, e.g. adding sequestering agents using organic substances containing phosphorus
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23F—NON-MECHANICAL REMOVAL OF METALLIC MATERIAL FROM SURFACE; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL; MULTI-STEP PROCESSES FOR SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL INVOLVING AT LEAST ONE PROCESS PROVIDED FOR IN CLASS C23 AND AT LEAST ONE PROCESS COVERED BY SUBCLASS C21D OR C22F OR CLASS C25
- C23F14/00—Inhibiting incrustation in apparatus for heating liquids for physical or chemical purposes
- C23F14/02—Inhibiting incrustation in apparatus for heating liquids for physical or chemical purposes by chemical means
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F2101/00—Nature of the contaminant
- C02F2101/10—Inorganic compounds
- C02F2101/101—Sulfur compounds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F2303/00—Specific treatment goals
- C02F2303/22—Eliminating or preventing deposits, scale removal, scale prevention
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Hydrology & Water Resources (AREA)
- Environmental & Geological Engineering (AREA)
- Water Supply & Treatment (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Agricultural Chemicals And Associated Chemicals (AREA)
- Preventing Corrosion Or Incrustation Of Metals (AREA)
- Detergent Compositions (AREA)
- Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
- Fertilizers (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Vaporization, Distillation, Condensation, Sublimation, And Cold Traps (AREA)
Abstract
يكشف الاختراع الحالي عن تركيبات وطرق لتقليل القشور في محطات معالجة حمض فسفوريك وفوسفات الأمونيوم. يمكن إضافة تركيبات تقليل القشور وفقًا للاختراع إلى حمض فسفوريك قبل أو أثناء التركيز في دورة المبخِّر بمحطة معالجة حمض فسفوريك. تؤخر التركيبات تكوين القشور على الأسطح المتصلة بحمض فسفوريك، وبالتالي يتم تمديد الوقت بين عمليات التنظيف وزيادة إنتاجية المحطة. علاوة على ذلك، تكون القشور التي تتكون أكثر نعومة وأسهل في التنظيف من على الأسطح، مما يقلل وقت توقف المحطة و/أو المُبخِّر عن العمل. يتم الكشف عن طرق تقليل تكوين القشور في محطات إنتاج حمض فسفوريك ومحطات معالجة حمض فسفوريك. في الطرق، تتراكم القشور ببطء أكبر وتكون أنعم، وأسرع في التعقب، وأسرع في التنظيف من على الأسطح التي تلتصق بها. الشكل 1
Description
التحكم في القشور في محطات إنتاج ومعالجة حمض فسفوريك SCALE CONTROL IN PHOSPHORIC ACID PRODUCTION AND HANDLING PLANTS الوصف الكامل خلفية الاختراع يتعلق الكشف الحالي بتركيبات وطرق لتقليل القشور scale في محطات معالجة plants حمض فسفوريك 8010 phosphoric وفوسفات الأمونيوم .ammonium phosphate إن تكوين القشور في محطات حمض فضفوريك والمحطات التي تعالج حمض ضفوريك مشكلة كبيرة في صناعة حمض ضفوربك لعقود طويلة. تفاعل ores ala الفوسفات Jie فلورو أباتيت Cal0(PO4)6(F,OH)2 fluorapatite و/أو فرانكولايت francolite -0810)004(6 X(CO3)X(F, OH) 24x بحيث ينتج حمض سلفريك حمض ضفوربك المرغوب فيه جنبًا إلى جنب مع المواد الصلبة المعلقة و/أو المذابة. عادة ما يتم ذكر تركيز حمض فسفوريك كنسبة مئوية بالوزن من P205 0 يمكن كتابة المعادلة الأساسية لتفاعل إنتاج حمض فسفوريك من حمض ستفريك sulfuric acid وأيونات الكالسيوم وأيونات الفوسفات من خوام المعدن كالآتي: +6H+ + 35042- — 213004 + 4 -20043+ +3082 عادة ما يتم chal التفاعل بين حمض سلفربك وخام الفوسفات في خزان دفع عند درجات Hla مرتفعة. بعد التفاعل» عادة ما يحتوي حمض فسفوريك على المواد الصلبة المذابة والمعلقة-- حيث 5 تتم تصفية أغلبية الأخيرة بالترشيح. يتم عندئذٍ تمرير الحمض الذي تم ترشيحه إلى An Cus evaporator يتم تركيزه. يتم تسخين الحمض بواسطة تمريره عبر مبادل حراري وتسخينه بواسطة البخار المضغوط؛ يتم بعد ذلك تركيز حمض فسفوريك في ضغط منخفض في غرفة تبخير أو توميض flash في المُبخّر؛ حيث يتبخر الماء من حمض سفوربك كي يتم تركيز الحمض. تترسب المواد الصلبة المعلقة و/أو المواد الصلبة المذابة GAY) في حمض فسفوربك أثناء عملية 0 اتركيز وتقبع كقشور على سطح المبادل الحراري و/أو أسطح الغرفة. lass تشتمل هذه القشور على بولي أشكال بلورية من سلفات الكالسيوم Calcium sulfate والعديد من المواد المعدنية الأخرى. بمرور الوقت؛ تقلل القشور التي تتراكم على سطح المبادل الحراري كفاءة تشغيله. al وقف الإنتاج وإغلاق المُبجّر للتنظيف» مقاطعة تؤدي إلى فقد في وقت الإنتاج وزيادة في تكاليف الإنتاج. علاوة
على ذلك؛ تكون القشور التي تتكون قاسية للغاية وتلتصق بقوة بالأسطح التي تترسب عليهاء وبالتالي لا يمكن تعقبها ويصعب تنظيفها من على الأسطح. علاوة على ذلك؛ تكون القشور التي تترسب وتتراكم قليلة الذويان في الماء نسبيًا. يضم التنظيف بالتالي جهود ميكانيكية كبيرة (الدفق بالماء ¢(hydroblasting ومصادر مثل الطاقة؛ الماء والمواد؛ والقوى العاملة. يضم أحد أنواع التنظيف الغلي مع حمض سلفريك مخفف. علاوة على ذلك؛ تظهر آثار القشور القاسية على أسطح المبادل الحراري في كسر أنابيب الجرافيت المشرّب الضعيفة؛ التي يمكن أن توجد في المبادل الحراري. يمكن إضافة المواد الكيميائية متل مثبطات تكوّن القشور إلى حمض ضفوريك لتقليل تراكم القشور» لكن لا تمنع تكوين القشور التي تترسب على الأسطح المتعددة بالكامل. بالتالي هناك حاجة إلى 0 عمليات ومواد جديدة تمنع؛ (JB و/أو تبطئ تكوين و/أو تراكم القشور على الأسطح المتصلة بحمض فسفوريك في محطات حمض فسفوربك أو حمض فسفوربك المستخرج منها. على سبيل المثال يكشف طلب البراءة الأوروبي رقم 0516382 عن نظام مائي يحتوي على أملاح تشكيل القشور وله درجة حموضة عالية وتركيزات عالية من الكالسيت حيث يكون الأس الهيدروجيني pH 5 8.5 على الأقل ومستوى تشبع الكالسيت calcite 150 مرة على الأقل من حد قابلية الذويان للكالسيوم مثل الكالسيت ؛ والذي يحتوي أيضًا على كمية تكفي لتأسيس تركيز من 1 مجم / لتر إلى 100 مجم / لتر ؛ وهو بولي إيثر بولي أمينو ميثيلين فوسفونات polyether polyamino methylene phosphonate بالصيغة التالية: M,0,P - H,C R R CH,PO,M, ٠ | | 1( ]0 ب N —CH —CH, — )- OCH, M,0,P - H,C CH,PO,M, 0 حيث an عدد صحيح أو عدد صحيح كسري يكون ؛ أو في المتوسط ؛ من 2 إلى 12 ؛ شامل ؛ ا هو هيدروجين أو كاتيون cation مناسب ؛ وقد يكون كل R متماثلًا أو hse ويتم اختياره بشكل مستقل من الهيدروجين hydrogen والميثيل .methyl ومع ذلك؛ فمازال هناك حاجة إلى تخفيف تأثيرات تراكم القشور على والتصاقها بالمبادل الحراري والأسطح الأخرى للمبجّرات» الأتابيب وما شابه والتي تتصل أو كانت متصلة بحمض ضفوريك 5 المتكون من تفاعل خوام الفوسفات وحمض سلفريك. الوصف العام للاختراع
يتم الكشف هنا عن طريقة تشتمل على إضافة تركيبة مائية لتقليل القشور إلى تركيبة فوسفاتية أولى لتكوين تركيبة فوسفاتية ثانية؛ وملامسة سطح تتراكم عليه القشور مع التركيبة الفوسفاتية الثانية. تشتمل التركيبة المائية لتقليل القشور على الماء؛ إيثر بولي أمينو بولي ميثيلين تترا فوسفات polyether methylene tetraphosphonate 78+07100ا00؛ بوليمر مشترك copolymer من حمض أكربليك acrylic acid وحمض 2-أكربلاميدو-2-ميثيل برويان سلفونيك -2 cacrylamido—2-methylpropane sulfonic acid ومكون Al مختار من المجموعة التي تتكون من )1( Jo (حمض ميثاكريليك) «poly(methacrylic acid) )2( بوليمر رباعي tetrapolymer من حمض أكربليك» حمض 2- أكربلاميدو-2-ميثيل برويان سلفونيك؛ —t=N) بيوتيل)أكريلاميد 8017/180106(ا/2-017-ل!)؛ وحمض إيتاكونيك acid 1800016 (3) بوليمر 0 مشترك من حمض أكربليك July هيدروكسي بولي إيثوكسي أليل hydroxypolyethoxy allyl cether و(4) أي توليفة مما سبق. في تجسيدات معينة؛ تشتمل الطريقة كذلك على دمج خام فوسفات وحمض سلفريك لتكوين خليط Joli من فوسفات؛ إبقاء خليط التفاعل من فوسفات عند 65 درجة مئوية إلى 120 درجة مئوية sad 30 دقيقة إلى خمس ساعات لتكوين حمض فسفوريك خام؛ وترشيح حمض فسفوريك الخام 5 تتوفير التركيبة الفوسفاتية الأولى. Lal يتم الكشف هنا عن dah حيث تشتمل فوهة 8ا7022 على السطح الذي تتراكم عليه القشور» يحدد السطح الذي تتراكم عليه القشور فتحة 001706 به؛ وتتكون الطريقة من رش التركيبة الفوسغاتية الثانية من الفتحة في غرفة. في تجسيدات معينة؛ تحتوي الغرفة على أمونيا سائلة. أيضًا يتم الكشف هنا عن طريقة تشتمل على وضع التركيبة الفوسفاتية الثانية في مُبجّر بمحطة 0 الإنتاج حمض فسفوريك؛ حيث يشتمل المُبخُر على حاوية 001018101076101 مائع؛ حيث تشتمل حاوية المائع على واحد أو أكثر من غرفة توميض؛ مبادل (ha أنبوب دفق صادر» وأنبوب دفق ely حيث تشتمل حاوية المائع على السطح الذي تتراكم عليه القشور ؛ وتسخين التركيبة الفوسفاتية الثانية؛ حيث تتراكم قشور ثانية على السطح الذي تتراكم عليه القشور. يتم الكشف هنا عن تركيبة لتقليل القشور تشتمل على إيثر بولي أمينو بولي ميثيلين ترا فوسفات؛ 5 بوليمر مشترك من حمض أكريليك وحمض 2-أكريلاميدو -2-ميثيل برويان سلفونيك» ومكون آخر مختار من المجموعة التي تتكون من (1) بولي (حمض ميثاكريليك)؛ )2( بوليمر رباعي من حمض (mes cls 2-أكريلاميدو-2-ميثيل بروبان سلفونيك» ((1--بيوتيل)أكريلاميد» وحمض إيتاكونيك؛ (3) بوليمر مشترك من حمض أكربليك وإيثر هيدروكسي بولي إيثوكسي dl و(4) أي توليفة من (1)» (2)؛ و(3). أيضًا يتم CRASH هنا عن تركيبة مائية لتقليل القشور تشتمل على تركيبة 0 تقليل القشور وتشتمل كذلك على الماء.
La يتم الكشف هنا عن تجميعة JA تشتمل على مُبجّر وأي من التركيبات الفوسفاتية الثانية الموصوفة هناء حيث يشتمل المُبخّر على غرفة توميض وواحد أو أكثر من مبادل cha أنبوب دفق صادرء وأنبوب دفق cals حيث تكون غرفة التوميض وواحد أو أكثر من المبادل الحراري؛ أنبوب الدفق الصادرء وأنبوب الدفق الوارد في اتصال مائعي مع بعضهم البعض ويحددوا Be سبيل تدوير يتضمن سطح تتراكم عليه القشور؛ حيث يتم وضع التركيبة الفوسفاتية الثانية في سبيل التدوير وتلامس السطح الذي تتراكم عليه القشور. في تجسيدات معينة؛ تلتصق قشور ثانية بالسطح الذي تتراكم عليه القشور» حيث تشتمل القشور الثانية على سلفات الكالسيوم. في تجسيدات معينة؛ تشتمل القشور الثانية على فوسفات هيدروجين ألومنيوم البوتاسيوم. في تجسيدات معينة؛ تكون القشور الثانية
خالية إلى حدٍ كبير من بنتا فلورو ألومينات المجنسيوم.
0 شرح مختصر للرسومات يوضح الشكل 1 صورة للقشور المغسولة والمجففة من المبادل الحراري By للإجراءات التمهيدية ب في المثال 1. يوضح الشكل 2 صورة للقشور المجففة بالهواء من المبادل الحراري Gy للمثال 2. يوضح الشكل 3 صورة للقشور من المبادل الحراري؛ دون غسل أو تجفيف؛ Gy للمثال 3.
5 يوضح الشكل 4 صورة للقشور المفككة المغسولة والمجففة من المبادل الحراري Gay للمثال 3. يوضح الشكل 5 صورة للقشور المنظفة بقضيب معدني من أنابيب المبادل الحراري Gg للمثال A يوضح الشكل 6 القشور المنظفة بقضيب معدني من أنابيب المبادل الحراري Gg للمثال 6. الوصف التفصيلي: التعريفات
0 .يتم توفير التعريفات التالية لتحديد كيفية استخدام المصطلحات في هذا الطلب؛ وعلى dag التحديد كيفية هيكلة محتويات عناصر الحماية. يكون ترتيب التعريفات للمواءمة فقط وليس لحصر أي من التعريفات في أي فئة محددة. ما لم يحدد خلاف ذلك؛ يكون لجميع المصطلحات الفنية والعلمية المستخدمة هنا نفس المعنى المفهوم sale بواسطة صاحب المهارة العادية في المجال. في حالة حدوث خلاف؛ سوف تكون اليد العليا
5 للوثيقة الحالية؛ بما في ذلك التعريفات. يتم وصف الطرق والمواد المفضلة أدناه؛ على الرغم من أنه يمكن استخدام الطرق والمواد المشابهة أو المكافئة لتلك الموصوفة هنا في التطبيقات العملية أو اختبار الاختراع الحالي. يتم تضمين جميع النشرات؛ طلبات براءات الاختراع» براءات الاختراع
والمراجع الأخرى المذكورة هنا كمرجع في مجملها. تكون المواد؛ الطرق؛ والأمثلة التي تم الكشف عنها هنا توضيحية فقط وليست حصرية. المقصود من المصطلحات 'يشتمل (تشتمل) على 'يتضمن (pent) "له Cl 'يمكن أن" "يحتوي (تحتوي)" وبدائل لما سبق؛ كما هو مستخدم هناء أن تكون عبارات» مصطلحات؛ أو كلمات متعدية لها معنى عام Allg لا تستبعد احتمالية وجود إجراءات أو بنيات إضافية. تتضمن صيغ المفرد الإشارة إلى الجمع ما لم يقتضي السياق خلاف ذلك بوضوح. يتضمن الكشف الحالي أيضًا تجسيدات (GAT "حيث تشتمل على" 'تتكون من" و'تتكون بشكل أساسي من" التجسيدات أو العناصر المقدمة هناء سواء مبينة بوضوح أو لا. كما هو مستخدم هناء يعني المصطلح "اختياري"” أو "اختياريًا” أن المكون؛ الحدث أو الظرف 0 الموصوف لاحقًا يمكن أن لكن لا يلزم أن يكون موجودًا أو أن يحدث. يكشف الوصف بالتالي عن ويتضمن الحالات حيث يتم الحدث أو الظرف والحالات حيث لا يحدث؛ أو الحالات حيث يوجد المكون الموصوف والحالات حيث لا يوجد. كما هو مستخدم هناء يشير المصطلح "حوالي" الذي يعدل؛ على سبيل المثال؛ كمية مكون في تركيبة؛ تركيز» pan درجة حرارة؛ وقت؛ ناتج؛ معدل تدفق؛ ضغط والقيم المشابهة؛ ونطاقاتهاء 5 المستخدمة في Chay تجسيدات الكشف؛ إلى تباين في الكم العددي الذي يمكن أن يحدث؛ على سبيل المثال؛ عبر إجراءات قياس ومعالجة نمطية مستخدمة لتصنيع المركبات؛ التركيبات؛ التركيزات أو الصيغ المستخدمة؛ عبر lad غير متعمد في هذه الإجراءات؛ عبر الفروق في التصنيع؛ المصدر؛ أو نقاء مواد البدء أو المكونات المستخدمة لإجراء الطرق؛ عبر خطأً معياري في آلات التشغيل؛ والاعتبارات التقريبية المشابهة. المصطلح "حوالي” أيضًا يتضمن كميات تختلف نتيجة لتعتيق صيغة 0 بتركيز أو خليط أولي محدد؛ وكميات تختلف نتيجة لخلط أو معالجة صيغة بتركيز أو خليط أولي محدد. حيث تعدل بالمصطلح "حوالي” تتضمن عناصر الحماية المرفقة هنا المكافئات وفقًا لهذا التعريف. كما هو مستخدم هناء يعني المصطلح "إلى حدٍ كبير" "تتكون بشكل أساسي من"؛ كما يوجد هذا المصطلح في قانون براءات الاختراع الأمريكي؛ ويتضمن "تتكون من" كما يوجد هذا المصطلح في 5 قانون براءات الاختراع الأمريكي. على سبيل JB يمكن أن يكون محلول يكون "خالي إلى حدٍ كبير" من مركب أو مادة محددة خاليًا من هذا المركب أو المادة؛ أو يمكن أن يحتوي على كمية ضئيلة من هذا المركب أو المادة الموجودة؛ مثل عبر التلوث غير المقصود أو عدم اكتمال التنقية. يمكن أن يكون 'كمية ضئيلة" كمية صغيرة لا يمكن قياسها؛ كمية لا تؤثر على قيمة أو خاصية؛ أو كمية أخرى كما هو متوفر في السياق. يمكن أن تتكون تركيبة يذكر معها "إلى حدٍ كبير فقط"” من 0 أجل قائمة متوفرة من المكونات من تلك المكونات فقط أو بها كمية ضئيلة من مكون آخر موجود؛
أو بها مكون واحد أو أكثر إضافي لا يؤثر Gale على خواص التركيبة. باستثناء حيث يحدد خلاف ذلك هناء يشير "إلى حدٍ كبير" الذي يعدل؛ على سبيل المثال؛ نوع أو كمية مكون في تركيبة؛ خاصية؛ كمية ALE للقياس؛ طريقة؛ قيمة؛ أو نطاق يستخدم في وصف تجسيدات الكشف؛ إلى تباين لا يؤثر على مجمل التركيبة؛ الخاصية؛ الكمية؛ الطريقة؛ القيمة المذكورة» أو نطاق ما سبق بطريقة تخالف التركيبة؛ الخاصية؛ الكمية؛ الطريقة؛ القيمة؛ أو النطاق المقصود. حيث تعدل بالمصطلح "إلى حدٍ كبير" تتضمن عناصر الحماية المرفقة هنا المكافئات Gg لهذا التعريف. كما هو مستخدم هناء يعني ppm’ أجزاء في المليون بالوزن. ما لم يذكر خلاف ذلك؛ تستند جميع التركيزات المذكورة هنا على الوزن. يعني "يتكون بشكل أساسي من" أن الطرق والتركيبات يمكن أن تتضمن خطوات؛ مكونات؛ عناصر 0 مكونة إضافية أو ما شابه؛ لكن فقط إذا لم تكن الخطوات؛ المكونات و/أو العناصر المكونة الإضافية تغير Gale السمات الأساسية والجديدة وفقًا للطرق والتركيبات المذكورة في عناصر الحماية. كما هو مستخدم هنا يعني "حمض "stud حمض أورثو corthophosphoric acid <b send -H3PO4 كما هو مستخدم هناء يعني "الفوسفات" أورثو فوسفات؛ PO43- 15 كما هو مستخدم هناء يعني GI هيدروجين فوسفات "dihydrogenphosphate أيون -112004. كما هو مستخدم هناء ما لم يحدد خلاف ذلك؛ يعني "هكسا فلورو سيليكات "hexafluorosilicate مركب يشتمل على واحد أو أكثر من الكاتيونات وهكسا فلورو سيليكات ¢(SiF62-) أو حمض هكسا فلورو سيليسيك hexafluorosilicic acid (1125:76). تتضمن الأمثلة غير الحصرية على مركبات هكسا فلورو سيليكات هكسا فلورو سيليكات الصوديوم ¢sodium hexafluorosilicate 11225176؟ 0 هكسا فلورو سيليكات صوديوم البوتاسيوم ¢KNaSiF6 «potassium sodium hexafluorosilicate هكسا فلورو سيليكات المجنسيوم «magnesium hexafluorosilicate 1185176 وحمض هكسا فلورو سبليسيك <hexafluorosilicic acid 1125176. كما هو مستخدم هناء يعني 'فوسفات هيدروجين ألومنيوم البوتاسيوم potassium aluminum (KAI3H14(PO4)8.xH20 "hydrogen phosphate حيث يكون x رقم صحيح من صفر إلى 10 5 كليًا. يتضمن المصطلح 'فوسفات هيدروجين ألومنيوم البوتاسيوم" بالتالي مركب له صيغة تجريبية تقريبية -AI3KH14(P0O4)8.4H20 ما لم يحدد خلاف ذلك؛ تتضمن الأسماء الكيميائية للمركبات الأيونية أو أملاح المعدن المركبات التي بها أي كمية من الماء به محتوى بلورة: على سبيل المثال يمكن أن يشير "هكسا فلورو سيليكات المجنسيوم "magnesium pentafluoroaluminate هنا إلى المركب الذي a الصيغة ¢MgSiF6.6H20 0 يمكن أن يشير "بنتا فلورو ألومينات المجنسيوم” هنا إلى ‘MgAIF5.1.5H20
يمكن أن يشير سلفات الكالسيوم calcium sulfate هنا إلى أنهيدريت ¢(CaSO4.0H20) anhydrite هيمي هيدرات ¢(CaS04.0.5H20) hemihydrate الجبس (CaSO4.2H20) gypsum أو أي توليفة مما سبق. كما هو مستخدم هناء يعني المصطلح "خليط التفاعل من فوسفات" خليط يتم إنتاجه بواسطة توليفة من خام فوسفات وحمض سلفربك. كما هو مستخدم هناء يعني "حمض فسفوريك الخام' Jada تفاعل من فوسفات يشتمل على حمض فسفوريك. في تجسيدات معينة؛ يكون التفاعل بين أيونات الفوسفات وحمض سلفريك كاملًا إلى حدٍ كما هو مستخدم هناء يعني المصطلح 'ضغط منخفض" ضغط أقل من واحد جوي. هناء يعني 'تسليط 0 ضغط منخفض" خفض ضغط حيز رأس إلى أقل من واحد جوي؛ حيث يكون حيز الرأس فوق خليط سائل؛ و/أو خفض ضغط الجزءٍ الداخلي من حاوية تضم الخليط السائل. كما هو مستخدم هناء يعني "الخليط "LA خليط من سائل مع واحد أو أكثر من السوائل الأخرى؛ أو خليط من سائل واحد على الأقل مع واحدة أو أكثر من المواد الصلبة. كما هو مستخدم هناء يعني "خام الفوسفات” خام معدن يشتمل على HPO42- PO43- و/أو 5 -112004. في تجسيدات معينة؛ يشتمل خام المعدن على +002. تتضمن الأمثلة غير الحصرية على خوام الفوسفات مركبات أباتيت capatites فلورو أباتيت «fluorapatite فرانكولايت francolite وأي خوام معدن أخرى تشتمل على أيونات الفوسفات. في تجسيدات معينة؛ يكون بأباتيت أو يشتمل على مادة لها الصيغة العامة (Ca, Na, Mg)10(PO4)6-x(CO3)x Fy (F,OH)2+y) حيث يكون x رقم صحيح من 1 إلى 5 و”؟<«0.33 إلى «0.5. 0 كما هو مستخدم هناء تعني "التركيبة الفوسفاتية"' خليط يشتمل على (H2PO4- <HPO42- (PO43- و/أو 113504. في تجسيدات معينة؛ تكون التركيبة الفوسفاتية عبارة عن تركيبة فوسفاتية أولى أو تركيبة فوسفاتية ثانية. كما هو مستخدم هناء تعني "التركيبة الفوسفاتية الأولى" تركيبة تشتمل على حمض فسفوريك وسلفات الكالسيوم. في تجسيدات معينة؛ تكون التركيبة الفوسفاتية الأولى عبارة عن حمض فسفوريك خام تم 5 تشيحه لإزالة المادة غير القابلة للذويان. كما هو مستخدم هناء تعني "التركيبة الفوسفاتية الثانية" تركيبة تشتمل على تركيبة فوسفاتية أولى وتشتمل كذلك على واحدة من تركيبات تقليل القشور التي تم الكشف عنها هنا. كما هو مستخدم هنا تعني "تركيبة تقليل القشور" تركيبة تقلل القشور التي يتم إنتاجها بواسطة تبخير واحدة أو أكثر من المواد المتطايرة من تركيبة فوسفاتية بينما تتلامس التركيبة الفوسفاتية مع واحد أو 0 أكثر من الأسطح. عندما يتم تركيز التركيبة الفوسفاتية بسبب تبخير واحدة أو أكثر من المواد
المتطايرة منها وأثناء التبخير» تترسب المواد من التركيبة الفوسفاتية؛ تلتصق بواحد أو أكثر من الأسطح, وتتراكم عليه. عندما يتم تمرير التركيبة الفوسفاتية عبر واحد أو أكثر من الأنابيب» يمكن أن تترسب قشور و/أو تقبع على السطح الداخلي لواحد أو أكثر من الأنابيب. في تجسيدات معينة؛ تشتمل واحدة أو أكثر من المواد المتطايرة على؛ تتكون ee أو تتكون بشكل أساسي من الماء. في هذا السياق؛ يعني 'تقليل" تغيير التركيبة الفوسفاتية بحيث تتراكم القشور التي تتكوّن أثناء تبخير واحدة أو أكثر من المواد المتطايرة من التركيبة الفوسفاتية ببطء أكبر على واحد أو أكثر من الأسطح؛ و/أو تكون القشور aul وأسرع في التعقب» و/أو أسهل في الإزالة من واحد أو SST من الأسطح. كما هو مستخدم هناء يعني "سطح تتراكم عليه القشور" سطح عليه تتراكم القشور عندما يتلامس السطح مع تركيبة فوسفاتية. تتضمن الأمثلة غير الحصرية على الأسطح التي تتراكم عليها القشور
0 أسطح المبادلات الحرارية التي تكون جزءًا من مُبجّر بمحطة معالجة حمض فسفوربك؛ الأسطح الداخلية للأنابيب»؛ الأسطح الداخلية لخزانات (ane gill الألواح ذات الفوهات وما شابه التي تلامس التركيبات الفوسفاتية. كما هو مستخدم هناء يعني "إيثر هيدروكسي بولي إيثوكسي )10( أليل (10) hydroxypolyethoxy "allyl ether بوليمر أو مزيج من البوليمرات التي لها الصيغة CH2=CH-CH2-(OCH2CH2)n-
OH 5 حيث يكون ل « قيمة أو متوسط قيمة بين 9 و11؛ في تجسيدات معينة حوالي 10. كما هو مستخدم هناء 'تنظيف بقضيب معدني 2000108" عبارة عن عملية لضرب القشور بشيء صلب Jie قضيب أو فرشاة لإزالة القشور من سطح و/أو لدفع القشور بامتداد وخارج أنبوب أو ثقبء مثل خط تغذية أو أنابيب مبادل حراري. كما هو مستخدم هناء 'دفق بالماء' عبارة عن عملية لضرب القشور بماء Me الضغط لإزالة القشور
0 .من سطح و/أو دفع القشور بامتداد وخارج أنبوب أو ثقب؛ مثل خط تغذية أو أنابيب مبادل حراري. كما هو مستخدم هناء تعني 'محطة معالجة حمض فضفوريك" أي منشأة صناعية تنتج؛ تستخدم؛ و/أو تعالج حمض فسفوريك. في التجسيدات غير الحصرية؛ تتضمن محطات dallas حمض فسفوريك المذكورة محطات تصنيع حمض فسفوريك؛ محطات تصنيع الأسمدة من الفوسفات التي تعالج حمض فسفوريك؛ وما شابه.
5 في حالة أن التعريفات أعلاه أو وصف مذكور في موضع آخر في هذا الطلب لا يتوافق مع معنى (واضح أو ضمني) يستخدم عادة؛ في قاموس» أو يذكر في مصدر متضمن كمرجع في هذا الطلب؛ يتم فهم مصطلحات الطلب وعناصر الحماية على وجه التحديد وفقًا للتعريف أو الوصف في هذا الطلب؛ وليس وفقًا للتعريف الشائع» تعريف القاموسء أو التعريف المتضمن كمرجع. في ضوء ما ذكر أعلاه؛ في حالة أن مصطلح يمكن أن يفهم فقط إذا ذكر في قاموس؛ إذا تم تعريف المصطلح
Kirk-Othmer Encyclopedia of Chemical Technology, 5th Edition, (2005), بواسطة 0
(Published by Wiley, John & Sons, Inc.) يكون لهذا التعريف اليد العليا في كيفية تعريف المصطلح في عناصر الحماية. تتضمن جميع البنيات الكيميائية الموضحة Load جميع البدائل الأيزومرية الفراغية المتاحة. مناقشة في عملية تصنيع حمض فسفوربيك؛ يتم دمج حمض سلفربك مع واحد أو أكثر من خوام الفوسفات. يتم صنع خليط تفاعل من فوسفات بواسطة دمج حمض سلفربك مع واحد أو أكثر من خوام الفوسفات؛ حيث يشتمل واحد أو أكثر من خوام الفوسفات على أيونات وكاتيونات PO43- مثل أيونات الكالسيوم +2ه0. تنتج التفاعلات بين مكونات واحد أو JST من خوام الفوسفات وحمض سلفريك حمض فسفوريك بالإضافة إلى مواد ALE للذويان أو مواد غير ALE للذويان SLE مثل سلفات الكالسيوم. 0 حيث أن خوام الفوسفات المستخدمة في تصنيع أحماض فسفوريك تشتمل نمطيًا على PO43- 5 Ca2+ ؛ يمكن كتابة تفاعل أيونات الفوسفات وأيونات الكالسيوم في خام فوسفات المذكور مع حمض سلفربك في المعادلة البسيطة الآتية: 3Ca2+ + 2(PO4)3- + 3112804 — 2113004 + 3CaSO4 (Ka أن تحدث التفاعلات الأخرى بين المكونات GAY) لخام المعدن وحمض cella بناءً على 5 المكونات الموجودة في خام المعدن. يمكن أن تنتج هذه التفاعلات الأخرى منتجات قابلة للذويان و/أو غير قابلة للذويان قليلًا. في بيئة إحدى المحطات؛ (Sa إعادة تدوير بعض من حمض فسفوريك الذي يتم إنتاجه بواسطة do lis الفوسفات وحمض سلفربك إلى خليط تفاعل من فوسفات لتجنب تهميد خام الفوسفات بطبقة من سلفات الكالسيوم غير القابل للتتبع بواسطة المساعدة في إذابة فوسفات الكالسيوم كداي هيدروجين فوسفات الكالسيوم (1)؛ قبل تفاعل داي هيدروجين فوسفات مع حمض dis 0 (2): Ca3(P0O4)2 + 4113004 — 3Ca(H2PO4)2 (1) Ca(H2PO4)2 + 3H2S04 — 6H3PO4 + 30504 (2) يكون منتج Jo lil حمض فسفوريك خام (ging على سلفات الكالسيوم؛ بالإضافة إلى مركبات أخرى يمكن أن تسهم في تكوين القشور. في خطوة أخرى بعد التفاعل؛ يتم ترشيح حمض فسفوربك الخام 5 لإزالة سلفات الكالسيوم الصلب ولتوفير تركيبة فوسفاتية أولى. نمطيًاء يتم تركيز هذه التركيبات الفوسفاتية الأولى بواسطة التسخين في AN في ضغط منخفض؛ حيث يشتمل المُبجّر على مبادل حراري وغرفة توميض. مع ذلك؛ حسب تركيز لاحق للتركيبة الفوسفاتية الأولى (أو حمض فسفوريك خام) في Ade يترسب سلفات الكالسيوم؛ جنبًا إلى جنب مع أي مواد ALE للذويان SL أخرى في حمض ضفوريك الخام و/أو المواد الصلبة غير قابلة للذويان 0 المعلقة الدقيقة؛ و/أو يتراكم كقشور على واحد أو أكثر من أسطح المُبخّر Jie أسطح المبادل الحراري
و/أو الأسطح الداخلية لغرفة التوميض. يمكن أن تنتج العمليات الأخرى التي تضم تبخير المواد المتطايرة من التركيبة الفوسفاتية الأولى أيضًا قشور. على سبيل المثال» عندما يتم رش التركيبة الفوسفاتية الأولى من فوهة؛ يمكن أن يسبب تبخير واحدة أو أكثر من المواد المتطايرة مثل الماء من إيروسول تراكم القشور على واحد أو أكثر من أسطح الفوهة.
يشتمل العديد من خوام الفوسفات مثل فلورو أباتيت وفرانكولايت على فلوريد بالإضافة إلى ذلك إلى أيونات الفوسفات وأيونات الكالسيوم. يتفاعل فلوريد مع (mes سلفريك لإنتاج فلوريد هيدروجين chydrogen fluoride وفي وجود السليكا Ss silica مركبات سيليكات لإنتاج هكسا فلورو سيليكات. تتباين التركيبة متكافئة النسب الفعلية stoichiometric من خوام المعدن؛ لكن يمكن LES معادلة أساسية للتفاعل بين فلوريد وحمض سلفربك في وجود السليكا و/أو مركبات سيليكات كالآتي:
6F- + 5102 +3H2S04 — SiF62- +35042- +2H20 +2H+ 0 بالتالي عندما تشتمل خوام المعدن على فلوريد بالإضافة إلى الفوسفات؛ ينتج التركيز التبخري لمنتج حمض فسفوربك منها قشور شديدة القسوة تشتمل على خلائط غير قابلة للتتبع من سلفات الكالسيوم مع مركبات هكسا فلورو سيليكات؛ مركبات فلورو ألومينات» مركبات فلوريد؛ وما شابه. في التطبيقات العملية؛ تكون العديد من هذه القشور متعددة المواد المعدنية-أي أنها تشتمل على مجموعة متنوعة 5 من المواد المعدنية المترسبة غير القابلة للذويان أو القابلة للذويان قليلًا التي تشتمل على أنيونات Ji سلفات؛ كربونات؛ فلوريد؛ مركبات سيليكات؛ هكسا فلورو سيليكات؛ بنتا فلورو ألومينات؛ الفوسفات» أكسيد؛ وكربونات؛ كاتيونات Jie الكالسيوم» البوتاسيوم» الألومنيوم»؛ المجنسيوم؛
الصوديوم؛ والحديد؛ ومواد بوليمرية ممددة Jia دايوكسيد سيليكون silicon dioxide اكتشف مقدمو الطلب تركيبات لتقليل القشور والتي عند إضافتها إلى الخلائط الفوسفاتية؛ على نحو 0 مثير للدهشة تخفف قساوة القشور التي تتكون وتتراكم على الأسطح التي تتلامس مع الخلائط الفوسفاتية؛ على وجه التحديد القشور التي تقبع على الأسطح أثناء تركيز الخلائط الفوسفاتية التي تشتمل على حمض فسفوربك. علاوة على ذلك؛ تبطئ تركيبات تقليل القشور تراكم القشور. يمدد ذلك دورة إنتاج الحمض في إنتاج حمض فسفوربك؛ نتيجة للحاجة إلى التنظيف بدرجة أقل نتيجة لبطء تراكم القشور؛ وأيضًا نتيجة لأن التنظيف أكثر سهولة وأسرع في التنفيذ بسبب رقة القشور. غالبًا ما 5 تستهدف مثبطات القشور سلفات الكالسيوم وهو الطور السائد في المُبجّر. مع ذلك؛ تكون هذه القشور متعددة المواد المعدنية يكون طور وسلفات الكالسيوم مجرد واحد من عدة أطوار. يلزم استهداف الأنواع المكونة للقشور الرئيسية الأخرى؛ وبلزم تشتيت تلك التي تتكوّن لمنعها من التكتل في كتل قاسية كبيرة. تتم إضافة تركيبات تقليل القشور و/أو تركيبات تقليل القشور المائية إلى تركيبة فوسفاتية أولى لتكوين 0 تركيبة فوسفاتية ثانية. أثناء تركيز التركيبات الفوسفاتية الأولى؛ على سبيل المثال بواسطة تسخين
التركيبة في ضغط منخفض أو رش التركيبة الفوسفاتية الأولى عبر فوهة؛ تقبع قشور شديدة القسوة على الأسطح المتلامسة مع التركيبة الفوسفاتية الأولى. مع ذلك؛ أثناء تركيز التركيبات الفوسفاتية الثانية؛ تقبع قشور ناعمة وتتراكم على الأسطح المتلامسة مع التركيبة الفوسفاتية الثانية. وبشكل مفيد بدرجة كبيرة؛ يسهل كشط هذه القشور الناعمة بدرجة أكبر؛ مغسلها من على الأسطح التي تلتصق بهاء وتفكيكيها ميكانيكيًا. Jie بواسطة غسلهم بنفث مضغوط من الماء أو سائل آخر. نتيجة OY القشور أسهل في الإزالة؛ يتم تقليل وقت توقف المحطة عن العمل؛ يتم تقليل استخدام المواد واستهلاك الطاقة أثناء cally) كما خطر cali المبادل الحراري أثناء تنظيفه. علاوة على ذلك؛ يتم تأخير تكوين القشور؛ أي تتكون القشور ببطء أكبر مما في غياب تركيبات تقليل القشور. على سبيل المثال؛ يتم إبطاء تكوين القشور في HAAN بمحطة معالجة حمض فسفوربك؛ وبتم تمديد الوقت بين عمليات 0 التنظيف المطلوية للمُبجّر. يتم إنتاج المزيد من حمض فسفوربك بكل دورة إنتاج وتتم زيادة إنتاجية المحطة بموجب ذلك. تركيبات تقليل القشور في تجسيدات معينة؛ يتم توفير تركيبة مائية لتقليل القشور تشتمل على؛ تتكون ee أو تتكون بشكل أساسي من: الماء؛ إيثر بولي أمينو بولي ميثيلين تترا فوسفات؛ بوليمر مشترك من حمض أكربليك 5 وحمض 2-أكريلاميدو-2-ميثيل برويان سلفونيك؛ ومكون آخر مختار من المجموعة التي تتكون من (1) بولي (حمض ميثاكربليك)؛ (2) بوليمر رباعي من حمض SE حمض 2- أكربلاميدو- 2-ميثيل برويان سلفونيك؛ (١“-»-بيوتيل)أكريلاميد. وحمض إيتاكونيك؛ (3) بوليمر مشترك من حمض أكريليك وإيثر هيدروكسي بولي إيثوكسي أليل» و(4) أي توليفة من (1)-(3). في تجسيدات معينة؛ يتم توفير تركيبة لتقليل القشور تشتمل على؛ تتكون من؛ أو تتكون بشكل أساسي 0 -_من: إيثر بولي gud بولي ميثيلين تترا فوسفات؛ وأي واحد أو أكثر من المكونات المختارة من degen التي تتكون من () توليفة من بولي (حمض ميثاكريليك) وبوليمر مشترك من حمض أكربليك وحمض 2- أكربلاميدو-2-ميثيل برويان سلفونيك؛ (ب) بوليمر رباعي من حمض أكربليك؛ حمض 2- أكريلاميدو-2-ميثيل برويان سلفونيك» (7١-»-بيوتيل)أكريلاميد» وحمض إيتاكونيك» (ج) بوليمر مشترك من حمض أكريليك وحمض 2- أكريلاميدو -2-ميثيل بروبان سلفونيك؛ و(د) بوليمر 5 مشترك من حمض أكربليك وإيثر هيدروكسي بولي إيثوكسي أليل. في تجسيدات معينة؛ يتم توفير تركيبة لتقليل القشور تشتمل على؛ تتكون من؛ أو تتكون بشكل أساسي من أي ثلاثة أو أكثر من المكونات البوليمرية المختارة من المجموعة التي تتكون من إيثر بولي أمينو بولي ميثيلين تترا فوسفات؛ بولي (حمض ميثاكريليك)؛ بوليمر oly من حمض أكريليك؛. حمض 2-أكريلاميدو-2-ميثيل بروبان سلفونيك؛ (١<-+-بيوتيل)أكريلاميد» وحمض إيتاكونيك؛ بوليمر 0 مشترك من حمض أكريليك وحمض 2- أكريلاميدو -2-ميثيل برويان سلفونيك؛ وبوليمر مشترك من
حمض أكربليك وإيثر هيدروكسي بولي إيثوكسي أليل. في بعض هذه التجسيدات؛ يشتمل أي ثلاثة أو أكثر من المكونات البوليمرية على إيثر بولي أمينو بولي ميثيلين تترا فوسفات. في تجسيدات معينة؛ يتم توفير تركيبة لتقليل القشور تشتمل على؛ تتكون من؛ أو تتكون بشكل أساسي من dal أجزاء بالوزن من إيثر بولي أمينو بولي ميثيلين تترا فوسفات إلى جزءٍ واحد بالوزن من بوليمر مشترك من حمض أكريليك وحمض 2-أكريلاميدو-2-ميثيل برويان سلفونيك؛ ومكون بوليمري SB مختار من المجموعة التي تتكون من (أ) جزأين بالوزن من بولي (حمض ميثاكريليك) إلى ثلاثة shal بالوزن من بوليمر مشترك من حمض LST وحمض 2- أكربلاميدو-2-ميثيل بروبان سلفونيك؛ (ب) بوليمر oly من حمض أكريليك» حمض 2- أكريلاميدو -2-ميثيل بروبان سلفونيك» (8-»-بيوتيل)أكريلاميد. وحمض إيتاكونيك» (ج) بوليمر مشترك من حمض أكريليك 0 وحمض 2-أكريلاميدو-2-ميثيل بروبان سلفونيك؛ (د) بوليمر مشترك من حمض أكريليك وإيثر هيدروكسي بولي إيثوكسي أليل» و(ه) أي توليفة من (أ) إلى (د). في تجسيدات معينة؛ يشتمل البوليمر الرباعي على حوالي 780 إلى حوالي 785 بالوزن من المواد المتبقية من حمض أكريليك؛ حوالي 75 بالوزن من المواد المتبقية من حمض 2-أكريلاميدو-2- ميثيل برويان سلفونيك» حوالي 73 إلى حوالي 75 بالوزن من المواد المتبقية من SN) 5 بيوتيل)أكريلاميد؛ وحوالي 73 إلى حوالي 75 بالوزن من المواد المتبقية من حمض إيتاكونيك. في تجسيدات معينة؛ يشتمل البوليمر المشترك من حمض أكريليك وحمض 2- أكربلاميدو -2-ميثيل برويان سلفونيك على؛ يتكون من؛ أو يتكون بشكل أساسي من 760 بالوزن من المواد المتبقية من حمض أكريليك و740 بالوزن المواد المتبقية من حمض 2- أكريلاميدو-2-ميثيل برويان سلفونيك. في تجسيدات معينة؛ يشتمل البوليمر المشترك من حمض أكريليك وإيثر هيدروكسي بولي إيثوكسي 0 أليل على حوالي 750 بالوزن من المواد المتبقية من حمض أكريليك وحوالي 750 بالوزن من إيثر هيدروكسي بولي إيثوكسي أليل. في بعض هذه التجسيدات؛ يكون إيثر هيدروكسي بولي إيثوكسي أليل عبارة عن إيثر هيدروكسي بولي إيثوكسي (10) أليل. في تجسيدات معينة؛ يتم توفير تركيبة مائية لتقليل القشور تشتمل على؛ تتكون منء أو تتكون بشكل أساسي من أي واحدة من تركيبات تقليل القشور المذكورة هنا وتشتمل كذلك على الماء. في تجسيدات 5 معينة؛ يمكن صنع تركيبة تقليل القشور المائية بواسطة دمج أي اثنين أو أكثر من المحاليل المائية المختارة من المجموعة التي تتكون من (1) محلول مائي من (أ)؛ إيثر بولي أمينو بولي ميثيلين تترا فوسفات؛ (2) محلول مائي من (ب)؛ بوليمر مشترك من حمض أكريليك وحمض 2-أكريلاميدو- 2 -ميثيل برويان سلفونيك؛ (3) محلول مائي من (ج)؛ بولي (حمض ميثاكريليك)؛ )4( محلول مائي من (د)؛ بوليمر oly من حمض أكريليك» حمض 2-أكريلاميدو-2-ميثيل برويان سلفونيك؛ (1- 0 > بيوتيل)أكريلاميد؛ وحمض إيتاكونيك؛ (5) محلول مائي من (ه) بوليمر مشترك من حمض أكريليك
وإيثر هيدروكسي بولي إيثوكسي أليل؛ و(6) محلول مائي من أي توليفة من (أ)-(ه).
في تجسيدات معينة؛ يكون تركيز المواد الصلبة بالوزن بأي من تركيبات تقليل القشور المائية حوالي
إلى حوالي 770 75 إلى حوالي 760؛ في تجسيدات معينة حوالي 710 إلى حوالي 750؛ في
تجسيدات معينة حوالي 715 إلى حوالي 745؛ أو حوالي 720 إلى حوالي 740 أو حوالي 720
5 إلى حوالي 235؛ أو حوالي 725 إلى حوالي 730. في بعض هذه التجسيدات؛ يشتمل المذيب على؛
يتكون من؛ أو يتكون بشكل أساسي من الماء.
في تجسيدات لتركيبة تقليل القشور المائية التي تشتمل على إيثر بولي أمينو بولي ميثيلين نترا
فوسفات» وفي تجسيدات معينة تشتمل التركيبة المائية لتقليل القشور على حوالي 71 إلى حوالي
0 في تجسيدات معينة حوالي 72 إلى ga 730؛ في تجسيدات معينة حوالي 73 إلى حوالي 0 220؛ أو حوالي 14 إلى حوالي 715؛ أو حوالي 75 إلى حوالي 715 بالوزن من أيثر بولي أمينو
بولي ميثيلين تترا فوسفات.
في تجسيدات لتركيبة تقليل القشور المائية التي تشتمل على بوليمر مشترك من حمض أكريليك
وحمض 2-أكريلاميدو -2-ميثيل برويان سلفونيك» وفي تجسيدات معينة تشتمل التركيبة المائية لتقليل
القشور على حوالي 71 إلى حوالي 750؛ في تجسيدات معينة حوالي 72 إلى حوالي 730؛ في 5 تجسيدات معينة حوالي 73 إلى حوالي 20 أو حوالي 74 إلى حوالي 7215 أو حوالي 75 إلى
حوالي 715 بالوزن من البوليمر المشترك من حمض أكريليك وحمض 2- أكريلاميدو-2-ميثيل
برويان سلفونيك.
في تجسيدات لتركيبة تقليل القشور المائية التي تشتمل على بولي (حمض ميثاكريليك)؛ وفي تجسيدات
معينة تشتمل التركيبة المائية لتقليل القشور على حوالي 71 إلى حوالي 750؛ في تجسيدات معينة 0 حوالي 71 إلى حوالي 730؛ في تجسيدات معينة حوالي 71 إلى حوالي 20 أو حوالي 71 إلى
حوالي 715 أو حوالي 72 إلى حوالي 710 بالوزن من بولي (حمض ميثاكريليك).
في تجسيدات لتركيبة تقليل القشور المائية التي تشتمل على البوليمر المشترك من حمض أكربليك
وإيثر هيدروكسي بولي إيثوكسي (Jl تشتمل التركيبة المائية لتقليل القشور على حوالي 71 إلى
حوالي 750؛ في تجسيدات معينة حوالي 71 إلى حوالي 730؛ في تجسيدات معينة حوالي 72 إلى 5 حوالي 220 أو حوالي 72 إلى حوالي 715؛ أو حوالي 72 إلى حوالي 710 بالوزن من البوليمر
المشترك من حمض أكريليك وإيثر هيدروكسي بولي إيثوكسي أليل.
في تجسيدات لتركيبة تقليل القشور المائية التي تشتمل على البوليمر الرياعي من حمض أكريليك؛
حمض 2-أكريلاميدو -2-ميثيل بروبان سلفونيك» (7١--بيوتيل)أكريلاميد» وحمض إيتاكونيك» وفي
تجسيدات معينة تشتمل التركيبة المائية لتقليل القشور على حوالي 71 إلى حوالي 750؛ في تجسيدات 0 معينة حوالي 71 إلى حوالي 730 في تجسيدات معينة حوالي 72 إلى حوالي 720؛ أو حوالي 72
إلى حوالي 715 أو حوالي 72 إلى حوالي 710 بالوزن من البوليمر الرياعي من حمض أكريليك؛ حمض 2- أكربلاميدو -2-ميثيل برويان سلفونيك؛ (١“٠--بيوتيل)أكريلاميد. وحمض إيتاكونيك. في تجسيدات معينة؛ تشتمل التركيبة المائية لتقليل القشور على؛ تتكون من؛ أو تتكون بشكل أساسي من حوالي 75 إلى حوالي 715 بالوزن من أيثر بولي أمينو بولي ميثيلين تترا فوسفات» حوالي 75 إلى حوالي 715 بالوزن من بوليمر مشترك من حمض أكريليك وحمض 2- أكربلاميدو -2-ميثيل برويان سلفونيك» حوالي 71 إلى حوالي 710 من بولي (حمض ميثاكريليك)»؛ وحوالي 71 إلى حوالي 0 من بوليمر مشترك من حمض أكريليك وإيثر هيدروكسي بولي إيتوكسي (10) أليل. تكون تركيبات تقليل القشور التي تم الكشف عنها هنا وطرق استخدامها مفيدة لتقليل القشور؛ حيث تكون القشور متعددة المواد المعدنية. تكون تركيبات تقليل القشور الموصوفة هنا مفيدة عند إضافتها 0 إلى التركيبات الفوسفاتية مثل التركيبات التي تشتمل على حمض فسفوريك وسلفات الكالسيوم و/أو مكونات أخرى قابلة للذويان قليلًا. تميل هذه التركيبات الفوسفاتية إلى إنتاج قشور تشتمل على سلفات الكالسيوم ومكونات أخرى غير ALE للذويان أو ALE للذويان قليلًا. في تجسيدات معينة؛ تبطئ تركيبات تقليل القشور ترسب القشور و/أو إنتاج القشور الناعمة المترسبة من تركيبة فوسفاتية عند إضافتها عليها. تكون هذه القشور الناعمة أسرع في التنظيف من على الأسطح التي تلتصق بهاء 5 وتغسل بسهولة أكبر عن الأسطح. تكون تركيبات تقليل القشور التي يتم الكشف عنها هنا مفيدة Lad للإضافة إلى أجهزة غسل Sle فلوريد هيدروجين في إنتاج حمض فسفوريك. تشتمل القشور التي يتم إنتاجها بها نمطيًا على دايوكسيد سيليكون ومكونات أخرى ALE للذويان قليلًا أو غير قابلة للذويان. تعالج تركيبات تقليل القشور التي تم الكشف عنها هنا أيضًا مشكلة هذه القشور؛ نتيجة لأنها تكون مفيدة لتقليل القشور متعددة المواد 0 المعدنية. بالتالي تكون تركيبات تقليل القشور التي يتم الكشف عنها هنا مفيدة لتقليل القشور متعددة المواد المعدنية التي تشتمل على سلفات الكالسيوم و/أو القشور متعددة المواد المعدنية التي تشتمل على دايوكسيد سيليكون. التركيبات الفوسفاتية الأولى والتركيبات الفوسفاتية الثانية في تجسيدات معينة؛ يتم توفير تركيبة فوسفاتية Aol حيث تشتمل التركيبة الفوسفاتية الثانية على 5 أي واحدة من تركيبات تقليل القشور أو تركيبات تقليل القشور المائية التي تم الكشف عنها أعلاه؛ وتشتمل كذلك على تركيبة فوسفاتية أولى» حيث تشتمل التركيبة الفوسفاتية الأولى على؛ تتكون من؛ أو تتكون بشكل أساسي من حمض فسفوريك وسلفات الكالسيوم. في تجسيدات معينة؛ يكون حمض فسفوريك وسلفات الكالسيوم منتجات تفاعل تتكوّن من خام فوسفات تم دمجه مع حمض سلفريك. في بعض هذه التجسيدات؛ يتم خلط خام الفوسفات وحمض سلفريك لتكوين خليط تفاعل من فوسفات. 0 في بعض هذه التجسيدات؛ يتفاعل خليط التفاعل من فوسفات Wha أو في تجسيدات Al يتفاعل
بالكامل. في تجسيدات dine يتم صنع التركيبة الفوسفاتية الأولى بواسطة طحن خام الفوسفات لتكوين خام فوسفات مطحون؛ خلط خام الفوسفات المطحون مع حمض سلفريك لتكوين خليط deli من فوسفات؛ إبقاء خليط التفاعل من فوسفات بين 65 درجة مثوية و120 درجة Logie لمدة من الوقت لتكوين حمض فسفوريك cali وترشيح حمض فسفوربك الخام لتوفير التركيبة الفوسفاتية الأولى. في تجسيدات معينة؛ تكون المدة الزمنية ساعة واحدة إلى cag في تجسيدات معينة دقيقتان إلى ساعة واحدة؛ في تجسيدات معينة خمس دقائق إلى ساعة واحدة؛ في تجسيدات معينة عشرة دقائق إلى ساعة واحدة؛ في تجسيدات معينة 15 دقيقة إلى ساعة واحدة؛ في تجسيدات معينة 15 دقيقة إلى خمس ساعات؛ أو 30 دقيقة إلى ساعة واحدة؛ أو 30 دقيقة إلى خمس ساعات؛ أو يوم إلى أسبوع. في تجسيدات معينة؛ تشتمل الطريقة كذلك على خلط التركيبة الفوسفاتية الثانية. في بعض
0 التجسيدات؛ تكون الطريقة عبارة عن عملية دفعية. في تجسيدات أخرى» تكون الطريقة عبارة عن عملية مستمرة؛ حيث تتم Bale] بعض من التركيبة الفوسفاتية الأولى إلى خليط التفاعل من فوسفات و/أو حمض ضفوريك الخام. في تجسيدات dune تشتمل التركيبة الفوسفاتية الثانية على حمض فسفوريك وسلفات الكالسيوم. في تجسيدات معينة؛ تشتمل التركيبة الفوسفاتية الأولى على: He PO43- -110042 و/أو -112004؛ ¢Ca2+ و-5042 و/أو -11504. في تجسيدات معينة؛ تشتمل
5 التركيبة الفوسفاتية الأولى على الماء. في تجسيدات معينة؛ يكون تركيز حمض فسفوريك (ك 113004) في التركيبة الفوسفاتية الأولى» في التركيبة الفوسفاتية الثانية. أو في كل من التركيبات الفوسفاتية الأولى والتركيبات الفوسفاتية الثانية حوالي 75 إلى حوالي 740؛ في تجسيدات معينة حوالي 710 إلى حوالي 740؛ في تجسيدات معينة حوالي 720 إلى حوالي S40 أو في تجسيدات معينة حوالي 720 إلى حوالي 735 بالوزن.
0 في تجسيدات معينة؛ يكون بتركيبة تقليل القشور المائية تركيز من 75 إلى حوالي 770 من المواد الصلبة alls في تجسيدات معينة حوالي 710 إلى حوالي 760؛ في تجسيدات معينة حوالي 710 إلى حوالي 750؛ في تجسيدات معينة حوالي 715 إلى حوالي 740؛ في تجسيدات معينة حوالي 0 إلى حوالي 7235؛ أو في تجسيدات معينة حوالي 720 إلى حوالي 730 بالوزن من المواد الصلبة. في بعض هذه التجسيدات»؛ تشتمل التركيبة الفوسفاتية الثانية على حوالي 5 أجزاء إلى حوالي
5 2000 جزء بالوزن من تركيبة تقليل القشور المائية لكل مليون جزء بالوزن من التركيبة الفوسفاتية الأولى؛ في تجسيدات معينة؛ حوالي 10 أجزاء إلى حوالي 1500 جزء بالوزن؛ في تجسيدات معينة 0 جزءِ إلى حوالي 1000 جزء؛ في تجسيدات معينة حوالي 100 جزءٍ إلى حوالي 500 جزء؛ أو في تجسيدات معينة حوالي 200 جزءٍ إلى حوالي 300 ea بالوزن من تركيبة تقليل القشور المائية لكل مليون جزءٍ بالوزن من التركيبة الفوسفاتية الأولى.
0 في تجسيدات معينة؛ يشتمل خام الفوسفات على؛ يتكون ce أو يتكون بشكل أساسي من أباتيت.
في بعض هذه التجسيدات؛ يشتمل أباتيت على؛ يتكون منء أو يتكون بشكل أساسي من فلورو
أباتيت» هيدروكسيل أباتيت؛ كلورو أباتيت؛ أو أي توليفة مما سبق.
في تجسيدات معينة؛ تشتمل التركيبة الفوسفاتية الأولى كذلك على الماء.
في تجسيدات معينة؛ تشتمل التركيبة الفوسفاتية الأولى على مكون قابل للذويان Sh أول. في تجسيدات معينة؛ تتم إذابة المكون القابل للذويان قليلًا الأول في؛ تعليقه كمكون غير قابل للذويان
في»؛ أو كل من مذاب في ومعلق في التركيبة الفوسفاتية الأولى.
في تجسيدات معينة؛ تشتمل التركيبة الفوسفاتية الثانية على مكون قابل للذويان قليلًا ثاني. في
تجسيدات معينة؛ تتم إذابة المكون القابل للذويان قليلًا الثاني في؛ تعليقه كمكون غير قابل للذوبان
في» أو كل من مذاب في ومعلق في التركيبة الفوسفاتية الثانية.
0 في تجسيدات معينة؛ يشتمل المكون القابل للذويان SE الأول؛ المكون القابل للذويان قليلًا الثاني؛ أو كل من المكونات القابلة للذويان قليلًا الأولى والثانية على؛ يتكون منء أو يتكون بشكل أساسي من سلفات الكالسيوم. في تجسيدات معينة؛ يشتمل المكون القابل للذويان قليلًا الأول؛ المكون القابل للذويان قليلًا الثاني» أو كل من المكونات القابلة للذويان قليلًا الأولى والثانية على؛ يتكون من أو يتكون بشكل أساسي من Cat و-5042؛ وشطر آخر مختار من المجموعة التي تتكون من PO43-
(HCO3- «CO32- F- « 15 5102 أنيون سيليكات؛ «Cl- «Na+ «K+ <Al3+ Mg2+ -011)؛ ¢O02- <SO32- 63+ Fe2+ (AIF52- (SiF62- أو أي توليفة مما سبق. في تجسيدات معينة؛ يكون سلفات الكالسيوم أو يحتوي على منتج تفاعل بين حمض سلفريك وأيونات الكالسيوم في خام الفوسفات. في تجسيدات معينة؛ يشتمل سلفات الكالسيوم على؛ يتكون من؛ أو يتكون بشكل أساسي من أنهيدريت؛ باسانيت؛ الجبس» أو أي توليفة مما سبق.
0 في تجسيدات معينة؛ تشتمل التركيبة الفوسفاتية الأولى على؛ تتكون منء أو تتكون بشكل أساسي من الماء؛ حمض فسفوربك؛ سلفات الكالسيوم؛ ومادة ترسيب مختارة من المجموعة التي تتكون من مالادريت؛ هيكلايت» جاكويسونيت» ألفا كوارتز» (gly توليفة مما سبق. في تجسيدات معينة»؛ تكون التركيبة الفوسفاتية الأولى» التركيبة الفوسفاتية الثانية» أو كل من التركيبات الفوسفاتية الأولى والتركيبات الفوسفاتية الثانية مشبعة بالمكون القابل للذويان قليلًا.
5 في تجسيدات معينة؛ lay تسخين التركيبة الفوسفاتية الأولى» إخضاع التركيبة الفوسفاتية الأولى إلى ضغط منخفض؛ أو تسخين وإخضاع التركيبة الفوسفاتية الأولى إلى ضغط منخفض قشور أولى على سطح تتراكم عليه القشور يلامس التركيبة الفوسفاتية الأولى. أي تكون التركيبة الفوسفاتية الأولى قادرة على ترسيب قشور أولى على سطح تتراكم عليه القشور يتلامس مع التركيبة الفوسفاتية الأولى. في تجسيدات معينة؛ يرسّب تسخين التركيبة الفوسفاتية All) إخضاع التركيبة الفوسفاتية الثانية إلى
0 ضغط منخفض؛ أو تسخين وإخضاع التركيبة الفوسفاتية Aull إلى ضغط منخفض قشور ثانية على
سطح تتراكم عليه القشور يلامس التركيبة الفوسفاتية الثانية. أي تكون التركيبة الفوسفاتية الثانية قادرة على ترسيب قشور ثانية على سطح تتراكم عليه القشور يتلامس مع التركيبة الفوسفاتية الثانية. Gass ترسّب تركيبة فوسفاتية أولى قشور أولى على سطح أثناء التسخين أو التبخير في خزان دفع؛ مُبخّرء أنبوب؛ أو جزءِ آخر من محطة تصنيع حمض ضفوريك أو محطة تصنيع أسمدة. تكون المشكلة خطيرة في مُبجّرء؛ حيث يشتمل المُبجّر على مبادل حراري وتتراكم القشور الأولى على سطح تتراكم عليه القشور بالمبادل الحراري. تكون القشور الأولى غير قابلة للتتبع ويصعب تنظيفها من السطح وبستلزم التنظيف كشط القشور الأولى. يمكن أن يسبب هذا الكشط و/أو التنظيف الشديد كسر في المُبخّر. وجد مقدمو الطلب أن التركيبات الفوسفاتية الثانية التي تم الكشف عنها هنا تريب قشور ثانية على 0 سطح تتراكم عليه القشور أثناء التسخين أو التبخير Jie في خزان دفع؛ AN جهاز غسل غازء cag بينما يتم رشها من فتحة فوهة؛ أو gia آخر من محطة تصنيع حمض ضفوربك أو محطة تصنيع أسمدة. مع ذلك؛ على العكس من القشور الأولى المترسبة بواسطة التركيبات الفوسفاتية الأولى في ظروف مكافئة على نفس السطح الذي تتراكم عليه القشور؛ تكون القشور الثانية deel وقابلة للتتبع. تكون القشور الثانية أسرع في التنظيف بكثير من سطح تتراكم عليه القشور مثل سطح تتراكم 5 عليه القشور بالمبادل الحراري. في تجسيدات معينة؛ تكون القشور الثانية قابلة للإزالة بواسطة Cada دون كشط و/أو تكون APU ALE بواسطة غسل يفكك القشور الثانية. وهذا مفيد للغاية؛ نتيجة لأنه يتطلب وقت توقف عن العمل أقل لتنظيف المحطة أو قطاع من المحطة حيث تراكمت القشور على السطح الذي تتراكم عليه القشور. علاوة على ذلك»؛ تتراكم القشور الثانية ببطء أكبر على الأسطح المتلامسة مع التركيبات الفوسفاتية الثانية من القشور الأولى. يزيد الوقت بين التنظيف 0 اللازم إجراءه للأسطح التي تتراكم عليها القشور وبالتالي تزيد إنتاجية المحطة. طرق تصنيع تركيبة فوسفاتية ثانية في تجسيدات معينة؛ يتم توفير طريقة لتصنيع تركيبة فوسفاتية ثانية؛ تشتمل الطريقة على: إضافة إلى تركيبة فوسفاتية أولى أي واحدة من تركيبات تقليل القشور أو تركيبات تقليل القشور المائية التي تم الكشف عنها هنا لتكوين التركيبة الفوسفاتية AEN حيث تشتمل التركيبة الفوسفاتية الأولى على 5 حمض ضفوربك وسلفات الكالسيوم. في تجسيدات (dime حمض فسفوربك وسلفات الكالسيوم منتجات تفاعل أيونات الفوسفات وحمض سلفربك. في تجسيدات معينة؛ تشتمل طريقة تصنيع تركيبة فوسفاتية ثانية كذلك على: دمج خام فوسفات وحمض سلفربك لتكوين خليط تفاعل من فوسفات؛ إبقاء خليط التفاعل من فوسفات بين 65 درجة مثوية و120 درجة مثئوية لمدة من الوقت لتكوين حمض فسفوربك خام؛ وترشيح حمض فسفوريك 0 الخام لتوفير التركيبة الفوسفاتية الأولى. في تجسيدات معينة؛ تكون المدة الزمنية ساعة واحدة إلى
ca في تجسيدات معينة دقيقتان إلى ساعة واحدة؛ في تجسيدات معينة خمس دقائق إلى ساعة واحدة؛ في تجسيدات معينة عشرة دقائق إلى ساعة واحدة؛ في تجسيدات معينة 15 دقيقة إلى ساعة واحدة؛ في تجسيدات معينة 15 دقيقة إلى خمس ساعات؛ أو 30 دقيقة إلى ساعة واحدة؛ أو 30 دقيقة إلى خمس ساعات؛ أو يوم إلى أسبوع. في تجسيدات معينة؛ تشتمل الطريقة كذلك على خلط التركيبة الفوسفاتية الثانية. في بعض التجسيدات؛ تكون الطريقة عبارة عن عملية دفعية. في تجسيدات أخرى» تكون الطريقة عبارة عن عملية مستمرة؛ حيث تتم إعادة بعض من التركيبة الفوسفاتية الأولى إلى خليط التفاعل من فوسفات و/أو حمض ففوريك الخام. في تجسيدات بديلة؛ يتم توفير طريقة لتصنيع تركيبة فوسفاتية ثانية؛ تشتمل الطريقة على: دمج خام فوسفات وحمض سلفريك لتكوين خليط تفاعل من فوسفات؛ إبقاء خليط التفاعل من فوسفات بين 65 0 درجة مئوية و120 درجة مئوية لمدة من الوقت لتكوين حمض فسفوربك خام؛ ترشيح حمض فسفوريك الخام لتوفير تركيبة فوسفاتية أولى؛ وإضافة إلى خليط التفاعل من فوسفات و/أو حمض فسفوريك الخام أي واحدة من تركيبات تقليل القشور أو تركيبات تقليل القشور المائية التي تم الكشف عنها هنا. في تجسيدات معينة؛ تكون المدة الزمنية ساعة واحدة إلى يوم؛ في تجسيدات معينة دقيقتان إلى ساعة واحدة؛ في تجسيدات معينة خمس دقائق إلى ساعة واحدة؛ في تجسيدات معينة عشرة دقائق إلى 5 ساعة واحدة؛ في تجسيدات معينة 15 دقيقة إلى ساعة واحدة؛ في تجسيدات معينة 15 دقيقة إلى خمس ساعات؛ أو 30 دقيقة إلى ساعة واحدة؛ أو 30 دقيقة إلى خمس ساعات؛ أو يوم إلى أسبوع. في تجسيدات معينة؛ تشتمل الطريقة كذلك على خلط التركيبة الفوسفاتية الثانية. في تجسيدات cine تكون التركيبة الفوسفاتية الأولى قادرة على ترسيب قشور أولى على سطح تتراكم عليه القشور. في هذا السياق؛ يعني "قادر على ترسيب قشور أولى" على سطح تتراكم عليه القشور 0 أنه عندما تلامس التركيبة الفوسفاتية الأولى السطح الذي تتراكم عليه القشور؛ تلتصق المواد منخفضة قابلية الذويان و/أو المواد غير القابلة للذويان في التركيبة الفوسفاتية الأولى وتتراكم على السطح الذي تتراكم عليه القشور كقشور أولى. في تجسيدات cine تكون التركيبة الفوسفاتية الأولى قادرة على ترسيب قشور أولى على سطح تتراكم عليه القشور. في هذا السياق؛ يعني 'قادر على ترسيب قشور أولى” أنه أثناء أي عملية حيث يتبخر 5 الماء و/أو المواد المتطايرة الأخرى من التركيبة الفوسفاتية الأولى وحيث تلامس التركيبة الفوسفاتية الأولى السطح الذي تتراكم عليه القشورء تلتصق المواد منخفضة قابلية الذويان و/أو المواد غير القابلة للذويان في التركيبة الفوسفاتية الأولى وتتراكم على السطح الذي تتراكم عليه القشور كقشور أولى. تكون القشور الأولى قاسية؛ قوية؛ وتميل إلى التراكم على والالتصاق بقوة بالأسطح التي تتراكم عليها. على سبيل (Jal يصعب كشط القشور الأولسكين. تتضمن هذه الأسطح أسطح الأنابيب؛ 0 الثقوب؛ والمواسير وتتضمن أسطح المعدن والجرافيت graphite تكون القشور الأولى متعددة المواد
المعدنية (Sarg أن تشتمل على واحد أو أكثر من Na2SiF6 MgAIF5.1.5H20 (MgSiF6.6H20 (مالادريت KNaSiF6 «(malladrite (هيكلايت CaSO4 «(heklaite (أنهيدريت «(anhydrite CaSO4.2H20 (الجبس CaS04.0.5H20 «(gypsum (باسانيت Lali) 5102 «(bassanite كوارتز ٠» (alpha quartz وخلائط مما سبق. عادة؛ تحتوي القشور الأولى على واحدة أو أكثر من صور سلفات الكالسيوم. تعتمد تركيبة القشور الأولى على تركيبة خام الفوسفات الممتصة على الأقل لتصنيع التركيبة الفوسفاتية الأولى. في تجسيدات معينة؛ تكون التركيبة الفوسفاتية الثانية قادرة على ترسيب قشور ثانية على سطح تتراكم عليه القشور. في هذا السياق؛ يعني قادر على ترسيب قشور على سطح تتراكم عليه القشور أنه عندما تلامس التركيبة الفوسفاتية الثانية السطح الذي تتراكم عليه القشور؛ تلتصق المواد منخفضة 0 قابلية الذويان و/أو المواد غير القابلة للذويان في التركيبة الفوسفاتية الثانية وتتراكم على السطح الذي تتراكم عليه القشور كقشور ثانية. اكتشفنا أن القشور الثانية تكون ناعمة؛ ضعيفة؛ وتلتصق بشكل ضعيف بالأسطح التي تتراكم عليها. على سبيل Jd) يسهل كشط القشور الثانية بسكين أو تكون أنعم (Sarg AST أن يتغير شكلها عند اللمس. تكون القشور الثانية أيضًا متعددة المواد المعدنية؛ وسوف تشتمل عادة على واحدة أو أكثر من صور سلفات الكالسيوم. عند مقارنتها بالقشور الأولى 5 التي تتكوّن من نفس خوام المعدن في نفس المحطة (لكن دون تركيبات تقليل القشور وفقًا للاختراع)؛ اكتشفنا أن القشور الثانية تركيبة كيميائية مختلفة عن القشور الأولى. مقارنة بالقشور الأولى؛ في تجسيدات معينة تشتمل القشور الثانية على تركيز منخفض من (MgSIF6.6H20 تركيز منخفض من (MgAIF5.1.5H20 تركيز منخفض من Na2SiF6 (مالادريت)؛ تركيز منخفض من KNaSiF6 (هيكلايت)؛ تركيز مرتفع من 9:02 (ألفا كوارتز)» تركيز مرتفع من 13161114)004(5.41120ه» أو أي توليفة مما سبق. في تجسيدات معينة؛ تكون التركيبة الفوسفاتية الثانية قادرة على ترسيب قشور ثانية على سطح تتراكم عليه القشور. في هذا السياق؛ يعني 'قادر على ترسيب قشور "ASE أنه أثناء أي عملية حيث يتبخر الماء و/أو المواد المتطايرة الأخرى من التركيبة الفوسفاتية الثانية وحيث تلامس التركيبة الفوسفاتية الثانية السطح الذي تتراكم عليه القشورء تلتصق المواد منخفضة قابلية الذويان و/أو المواد غير 5 القابلة للذويان في التركيبة الفوسفاتية الثانية وتتراكم على السطح الذي تتراكم عليه القشور كقشور ثانية. تتضمن الأمثلة على العمليات حيث يتبخر الماء و/أو المواد المتطايرة الأخرى من تركيبة فوسفاتية Jie تركيبة فوسفاتية أولى وتركيبة فوسفاتية ثانية نمطيًا عملية حيث يتبخر الماء من التركيبة الفوسفاتية. في تجسيدات معينة يتم اختيار العملية من المجموعة التي تتكون من تبخير من حاوية 0 مفتوحة؛ رش التركيبة الفوسفاتية عبر فتحة أو خرم محدد بواسطة سطح؛ تسليط الحرارة على التركيبة
الفوسفاتية. تسليط ضغط منخفض على التركيبة الفوسفاتية؛ أو أي توليفة مما سبق.
في تجسيدات معينة؛ تشتمل التركيبة الفوسفاتية الأولى كذلك على الماء.
في تجسيدات معينة؛ يوجد مكون قابل للذويان قليلًا كواحد أو AST من نواتج الذويان في التركيبة
الفوسفاتية الأولى» التركيبة الفوسفاتية (An أو كل من التركيبات الفوسفاتية الأولى والتركيبات الفوسفاتية الثانية.
في تجسيدات معينة؛ يوجد مكون قابل للذويان قليلًا كواحدة أو أكثر من المواد الصلبة غير المذابة
في التركيبة الفوسفاتية الأولى» التركيبة الفوسفاتية AB أو كل من التركيبات الفوسفاتية الأولى
والتركيبات الفوسفاتية الثانية.
في تجسيدات معينة؛ يوجد مكون قابل للذوبان قليلًا ككل من واحد أو أكثر من نواتج الذويان وواحدة
0 أو أكثر من المواد الصلبة غير المذابة في التركيبة الفوسفاتية الأولى» التركيبة الفوسفاتية الثانية؛ أو كل من التركيبات الفوسفاتية الأولى والتركيبات الفوسفاتية الثانية. في تجسيدات معينة؛ يشتمل المكون القابل للذويان قليلًا على؛ يتكون من؛ أو يتكون بشكل أساسي من سلفات الكالسيوم. في تجسيدات معينة؛ يكون سلفات الكالسيوم منتج تفاعل بين حمض سلفربك وأيونات الكالسيوم في خام الفوسفات.
5 يسّب تسخين التركيبة الفوسفاتية الأولى» إخضاع التركيبة الفوسفاتية الأولى إلى ضغط منخفض؛ أو تسخين وإخضاع التركيبة الفوسفاتية الأولى إلى ضغط منخفض قشور أولى على سطح تتراكم عليه القشور يلامس التركيبة الفوسفاتية الأولى. تكون التركيبة الفوسفاتية الأولى قادرة على ترسيب قشور أولى على سطح تتراكم عليه القشور يتلامس مع التركيبة الفوسفاتية الأولى. عند ضخها عبر أنبوب» تترسب المادة غير ALE للذويان في التركيبة الفوسفاتية الأولى في و/أو
0 تتراكم كقشور أولى على سطح داخلي للأنبوب. يكون للأنبوب سطح داخلي واحد على الأقل وسطح خارجي واحد على الأقل؛ حيث يكون eda على الأقل من السطح الداخلي سطح تتراكم عليه القشور كما هو موصوف هنا. يمكن تنظيف الأنبوب من القشور الأولى بواسطة التنظيف بقضيب معدني و/أو الدفق بالماء و/أو الاستخلاص بالغليان. يتم إجراء الدفق بالماء عند ضغط يبلغ حوالي 6000 رطل لكل بوصة مريعة
5 (حوالي 41369 كيلو باسكال) إلى حوالي 30000 رطل لكل بوصة مريعة (حوالي 206843 كيلو باسكال)؛ أو حوالي 6000 رطل لكل بوصة مريعة (حوالي 41369 كيلو باسكال) إلى حوالي 0 رطل لكل بوصة مريعة (حوالي 137895 كيلو باسكال)؛ أو حوالي 6000 رطل لكل بوصة مربعة (حوالي 41369 كيلو باسكال) إلى حوالي 15000 رطل لكل بوصة مريعة (حوالي 103421 كيلو باسكال)؛ أو حوالي 6000 رطل لكل بوصة مربعة (حوالي 41369 كيلو باسكال) إلى حوالي
0 10000 رطل لكل بوصة مريعة (حوالي 68948 كيلو باسكال)؛ أو حوالي 10000 رطل لكل بوصة
مربعة (حوالي 68948 كيلو باسكال) إلى حوالي 20000 رطل لكل بوصة مريعة (حوالي 137895 كيلو باسكال)؛ حيث يزيل الدفق بالماء بين 7100 Nong 780؛ أو حوالي 795 إلى حوالي 785؛
أو بين 7100 وحوالي 790 من تراكم القشور على سطح داخلي للأنبوب. يرب تسخين التركيبة الفوسفاتية (An إخضاع التركيبة الفوسفاتية الثانية إلى ضغط منخفض؛ أو تسخين وإخضاع التركيبة الفوسفاتية الثانية إلى ضغط منخفض قشور ثانية على سطح تتراكم عليه القشور يلامس التركيبة الفوسفاتية الثانية. تكون التركيبة الفوسفاتية الثانية قادرة على ترسيب قشور
ثانية على سطح تتراكم عليه القشور يتلامس مع التركيبة الفوسفاتية الثانية. في تجسيدات معينة؛ عند ضخها عبر أنبوب»؛ تترسب المادة غير قابلة للذويان في التركيبة الفوسفاتية الثانية في و/أو تتراكم كقشور ثانية على سطح داخلي للأنبوب. يكون للأنبوب سطح داخلي واحد
0 على الأقل وسطح خارجي واحد على الأقل» حيث يكون جزءٍ على الأقل من السطح الداخلي سطح تتراكم عليه القشور كما هو موصوف هنا. في تجسيدات معينة؛ يمكن تنظيف الأنبوب من القشور الثانية بواسطة التنظيف بقضيب معدني و/أو الدفق بالماء. في تجسيدات معينة؛ يتم إجراء الدفق بالماء عند ضغط يبلغ حوالي 3000 رطل لكل بوصة مربعة (حوالي 20684 كيلو باسكال) إلى حوالي 5750 رطل لكل بوصة مربعة (حوالي
5 39645 كيلو باسكال)؛ في تجسيدات معينة حوالي 4000 رطل لكل بوصة مربعة (حوالي 27579 كيلو باسكال) إلى حوالي 5500 رطل لكل بوصة مربعة (حوالي 37921 كيلو باسكال)؛ أو في تجسيدات معينة حوالي 4000 رطل لكل بوصة مربعة (حوالي 27579 كيلو باسكال) إلى حوالي 0 رطل لكل بوصة مربعة (حوالي 34474 كيلو باسكال)؛ أو في تجسيدات معينة حوالي 5000 رطل لكل بوصة مريعة (حوالي 34474 كيلو باسكال)؛ حيث يزيل الدفق بالماء بين حوالي 780
0 و2100؛ في تجسيدات معينة حوالي 785 إلى حوالي 95 أو في تجسيدات معينة بين حوالي 0 و7100 بالوزن من تراكم القشور على سطح داخلي للأنبوب. في تجسيدات معينة؛ يشتمل خام الفوسفات على؛ يتكون (Ge أو يتكون بشكل أساسي من أباتيت. في تجسيدات معينة؛ يشتمل أباتيت على؛ يتكون من؛ أو يتكون بشكل أساسي من فلورو أباتيت؛ هيدروكسيل أباتيت؛ كلورو أباتيت؛ أو أي توليفة مما سبق.
5 في تجسيدات معينة؛ تتم إضافة تركيبة تقليل القشور إلى التركيبة الفوسفاتية الأولى دفعيًا أو في دفق من التركيبة الفوسفاتية الأولى. في تجسيدات معينة؛ تتم إضافة تركيبة تقليل القشور إلى تدفق ely إلى تدفق صادرء أو إلى تدفق وارد وإلى تدفق صادر من غرفة توميض بِمُبخّر في محطة لتصنيع في تجسيدات معينة؛ تتم إضافة تركيبة تقليل القشور المائية إلى التركيبة الفوسفاتية الأولى بنسبة
0 حوالي 10 أجزاء إلى حوالي 1000 جزء بالوزن من تركيبة تقليل القشور المائية في مليون Sa
بالوزن من التركيبة الفوسفاتية الأولى؛ في تجسيدات معينة حوالي 50 oa إلى حوالي 750 $a بالوزن من تركيبة تقليل القشور المائية في مليون sa بالوزن من التركيبة الفوسفاتية الأولى» في تجسيدات معينة 50 ohn إلى حوالي 500 coin أو حوالي 100 ea إلى حوالي 400 جزء؛ أو حوالي 200 جزء إلى حوالي 300 جزء بالوزن من تركيبة تقليل القشور المائية في مليون جزء بالوزن من التركيبة الفوسفاتية الأولى. طرق تركيز التركيبات الفوسفاتية الثانية في تجسيدات معينة؛ يتم توفير طريقة لتركيز تركيبة فوسفاتية ثانية؛ تشتمل الطريقة على أي واحدة من الطرق التي تم الكشف عنها هنا لتصنيع التركيبة الفوسفاتية (An وتشتمل كذلك على: وضع التركيبة الفوسفاتية الثانية في Ah يشتمل على حاوية مائع» حيث تشتمل حاوية المائع على سطح 0 تتراكم عليه القشور؛ وتسخين التركيبة الفوسفاتية الثانية» حيث تلامس التركيبة الفوسفاتية الثانية السطح الذي تتراكم عليه القشور. في تجسيدات معينة؛ يتم تسخين التركيبة الفوسفاتية الثانية إلى درجة حرارة حوالي 50 درجة مثئوية إلى حوالي 110 درجة مئوية؛ في تجسيدات معينة؛ 60 درجة مئوية إلى حوالي 100 درجة مئوية؛ أو حوالي 65 درجة مئوية إلى حوالي 95 درجة مئوية؛ أو حوالي 70 درجة sie إلى حوالي 95 درجة gia أو حوالي 85 درجة إلى حوالي 95 درجة مئوية؛ 5 أو حوالي 90 درجة مئوية. في تجسيدات معينة؛ تشتمل الطريقة كذلك على تسليط ضغط منخفض على حاوية المائع. في بعض هذه التجسيدات؛ يكون الضغط المنخفض من حوالي 0.01 جوي إلى حوالي 0.9 جوي؛ في تجسيدات معينة من حوالي 0.03 جوي إلى حوالي 0.5 جوي؛ أو في تجسيدات معينة من حوالي 0.045 جوي إلى حوالي 0.35 جوي. في تجسيدات معينة؛ أثناء التسخين أو التسخين وتسليط ضغط منخفض»؛ يتبخر الماء من التركيبة 0 الفوسفاتية (سواء التركيبة الفوسفاتية الثانية أو التركيبة الفوسفاتية الأولى؛ أي بغض النظر عن سواء التركيبة الفوسفاتية تحتوي على تركيبة لتقليل القشور وفقًا للاختراع أو لا على (ull وبموجب ذلك يزيد تركيز حمض فسفوربك (H3PO4) في التركيبة الفوسفاتية. في بعض محطات حمض فسفوريك؛ يزيد التركيز بالتدريج في تسلسل ARN على سبيل المثال؛ يزيد تركيز حمض فسفوريك من حوالي 725 إلى حوالي 740 في مُبخّر أول ثم من حوالي 740 5 إلى حوالي 754 في JA ثاني. مع ذلك؛ يمكن تحقيق زيادة في التركيز في A واحد أو في أكثر من اثنين من «ha ويمكن زيادة تركيز حمض فسفوريك إلى 797 حمض فسفوريك؛ يسمى aes فسفوربك فائق". في تجسيدات معينة؛ يزيد تركيز حمض فسفوربك في التركيبة الفوسفاتية الثانية من حوالي 720 إلى حوالي 7298؛ في تجسيدات معينة من حوالي 725 إلى حوالي 797؛ في تجسيدات معينة حوالي 0 225 إلى حوالي 770 725 إلى حوالي 260؛ في التجسيد حوالي 725 إلى حوالي 755؛ في
تجسيدات معينة حوالي 725 إلى حوالي 752؛ في تجسيدات معينة حوالي 725 إلى حوالي 745؛ في تجسيدات معينة حوالي 725 إلى حوالي 740؛ في تجسيدات معينة حوالي 725 إلى حوالي 5. في تجسيدات معينة ss 740 إلى حوالي 760؛ في تجسيدات معينة حوالي 740 إلى حوالي 755؛ في تجسيدات معينة حوالي 735 إلى حوالي 755؛ في تجسيدات معينة حوالي 745 إلى حوالي 760؛ أو في تجسيدات معينة حوالي 745 إلى حوالي 755.
في تجسيدات معينة؛ يكون HA عبارة عن Ak بمحطة dallas حمض فسفوريك. في تجسيدات معينة؛ تشتمل حاوية المائع على واحد أو SST من مبادل cha غرفة (angi أنبوب دفق dla
وأنبوب دفق وارد. تشتمل حاوية المائع على السطح الذي تتراكم عليه القشور. في تجسيدات معينة؛ يكون للمبادل الحراري واحد أو أكثر من الجدران التي تحدد مسار تدفق مائع
0 عبر المبادل الحراري. في تجسيدات معينة؛ تتم تهيئة مسار تدفق المائع ليحتوي على ويسمح بتدفق تركيبة فوسفاتية سائلة عبر مسار تدفق المائع ويموجبه عبر المُبخّر. في تجسيدات معينة؛ يكون واحد أو أكثر من الجدران في تلامس حراري مع مصدر الحرارة. في تجسيدات معينة؛ يكون مصدر الحرارة هو البخار. في تجسيدات معينة؛ تشتمل غرفة التوميض على سطح داخلي واحد على الأقل.
5 في تجسيدات معينة؛ تكون غرفة التوميض في اتصال مائعي مع أنبوب الدفق الصادرء أنبوب الدفق cals) والمبادل الحراري. في تجسيدات معينة؛ تحدد غرفة التوميض؛ أنبوب الدفق الصادرء المبادل (gall وأنبوب الدفق الوارد Ge سبيل تدوير. في تجسيدات معينة؛ يتم وضع واحدة أو أكثر من وسائل تدوير تركيبة فوسفاتية مثل التركيبة الفوسفاتية الأولى أو التركيبة الفوسفاتية الثانية في سبيل التدوير. في تجسيدات معينة؛ تشتمل وسيلة تدوير حمض فسفوربك على أو تتكون من مضخة.
0 في تجسيدات معينة؛ تشتمل الطريقة بعد الوضع كذلك على تدوير التركيبة الفوسفاتية الثانية حول سبيل التدوير. في تجسيدات معينة؛ يتأثر التدوير بضخ التركيبة الفوسفاتية الثانية حول سبيل التدوير من gall الداخلي من غرفة التوميض إلى أنبوب الدفق الصادرء عبر أنبوب الدفق الصادر إلى المبادل الحراري؛ عبر مسار تدفق المائع بالمبادل (By (hall تلامس مع واحد أو أكثر من الجدران» إلى أنبوب الدفق الوارد؛ وعبر أنبوب الدفق الوارد رجوعًا إلى غرفة التوميض. في تجسيدات معينة؛
5 يثأثر التدوير بتسخين التركيبة الفوسفاتية الثانية في غرفة التوميض؛ حيث تتدفق التركيبة الفوسفاتية الثانية حول سبيل التدوير بواسطة الحمل الحراري. في تجسيدات معينة؛ بعد وضع التركيبة الفوسفاتية الثانية في all تشتمل الطريقة على تسخين التركيبة الفوسفاتية الثانية في الحاوية لتبخير واحدة أو أكثر من المواد المتطايرة من التركيبة الفوسفاتية الثانية وبموجبه لتركيز التركيبة الفوسفاتية الثانية. في تجسيدات معينة؛ يتم التسخين بواسطة ملامسة
0 المبادل الحراري مع التركيبة الفوسفاتية الثانية. في بعض هذه التجسيدات؛ تتم الملامسة بواسطة
تدوير التركيبة الفوسفاتية الثانية حول سبيل التدوير» حيث تلامس التركيبة الفوسفاتية الثانية واحد أو جدران المبادل الحراري؛ ويكون واحد أو أكثر من الجدران في تلامس حراري مع مصدر الحرارة. في بعض هذه التجسيدات»؛ تكون درجة حرارة التركيبة الفوسفاتية الثانية في سبيل التدوير حوالي 50 درجة مثوية إلى حوالي 110 درجة مئوية؛ في تجسيدات معينة» 60 درجة مثئوية إلى حوالي 100 درجة asia أو حوالي 65 درجة مئوية إلى حوالي 95 درجة مئوية؛ أو حوالي 70 درجة مئوية إلى حوالي 95 درجة مئوية؛ أو حوالي 85 درجة إلى حوالي 95 درجة sie أو حوالي 90 درجة مئوية. في بعض التجسيدات؛ يشتمل التسخين على أو يتكون من تسخين التركيبة الفوسفاتية الثانية في ضغط منخفض. في بعض هذه التجسيدات؛ يكون الضغط المنخفض من حوالي 0.01 جوي إلى حوالي 0.9 جوي؛ في تجسيدات معينة من حوالي 0.03 جوي إلى حوالي 0.5 جوي؛ أو في تجسيدات 0 معينة من حوالي 0.045 جوي إلى حوالي 0.35 جوي. في تجسيدات معينة؛ أثناء التسخين؛ تتكوّن قشور ثانية على سطح تتراكم عليه القشور مختار من: (أ) سطح داخلي واحد على الأقل؛ (ب) واحد أو أكثر من الجدران؛ (ج) سطح داخلي لأنبوب الدفق الصادرء (د) سطح داخلي لأنبوب الدفق الواردء أو (ه) أي توليفة من (أ)-(د). يمكن أن تتكون القشور الثانية على أي جزءِ من JAAN المتلامس مع التركيبة الفوسفاتية الثانية. في بعض هذه 5 التجسيدات؛ تشتمل القشور الثانية على فوسفات هيدروجين ألومنيوم البوتاسيوم. في تجسيدات معينة؛ تكون القشور الثانية خالية إلى حدٍ كبير من بنتا فلورو ألومينات المجنسيوم. في بعض هذه التجسيدات تشتمل الطريقة كذلك على بعد ملامسة المبادل الحراري مع التركيبة الفوسفاتية الثانية: تصريف التركيبة الفوسفاتية الثانية من الحاوية؛ وإزالة القشور من السطح الذي تتراكم عليه القشور. في تجسيدات معينة؛ تشتمل إزالة القشور على أو تتكون من غسل القشور من 0 السطح الذي تتراكم عليه القشور. في بعض هذه التجسيدات؛ يكون الغسل بالماء. في بعض هذه التجسيدات؛ يتكون الغسل من رش القشور بخرطوم؛ حيث تتفكك القشور تحت ضغط الخرطوم وبتم غسلها من السطح الذي تتراكم عليه القشور دون أي كشط ميكانيكي إضافي للقشور. وجد مقدمو الطلب على نحو غير متوقع وعلى نحو مفيد أن القشور الثانية تكون أنعم بكثير من القشور الأولى. أي؛ تكون القشور التي تتراكم أثناء التسخين في ضغط منخفض لأي من التركيبات 5 الفوسفاتية الثانية ناعمة؛ في اختلاف واضح عن القشور القاسية للغاية وغير القابلة للتتبع التي تنشأ في نفس ظروف درجة الحرارة والضغط بواسطة الإخضاع لنفس التركيبة دون تركيبات تقليل القشور وفقًا للاختراع. علاوة على ذلك؛ وجد مقدمو الطلب أنه على نحو غير متوقع log نحو مفيد؛ تكون القشور الثانية أنعم بكثير عندما تشتمل تركيبات تقليل القشور على ثلاثة على JN) من 4-1؛ Cun تتكون 1 من أو تتكون بشكل أساسي من إيثر بولي أمينو بولي ميثيلين تترا فوسفات؛ تتكون 2 من 0 أو تتكون بشكل أساسي من توليفة من بولي (حمض ميثاكريليك) وبوليمر مشترك من حمض AST
وحمض 2-أكريلاميدو-2-ميثيل lg pn سلفونيك؛ تتكون 3 من أو تتكون بشكل أساسي من بوليمر ely من حمض أكربليك» حمض 2-أكريلاميدو-2-ميثيل بروبان سلفونيك» —-N) بيوتيل)أكريلاميد» وحمض إيتاكونيك؛ 4 تتكون من أو تتكون بشكل أساسي من بوليمر مشترك من حمض أكريليك وحمض 2-أكريلاميدو-2-ميثيل برويان سلفونيك؛ و5 تتكون من أو تتكون بشكل أساسي من بوليمر مشترك من حمض أكربليك وإيثر هيدروكسي بولي إيثوكسي أليل. أحد معايير الحكم على رقة القشور هو سهولة كشط القشور بأداة Bola مثل قاطع كاتر. والآخر هو سهولة إزالة القشور من على سطح تلتصق به؛ على سبيل المثال بواسطة غسل الغاز أو بواسطة الغسل بنفث مضغوط من سائل. وجد مقدمو الطلب أن التركيبة الكيميائية للقشور تعتمد؛ من بين أشياء أخرى؛
على تركيبة تركيبة تقليل القشور.
0 وجد مقدمو الطلب أن تركيبات تقليل القشور وفقًا للاختراع تؤثر على التركيبة الكيميائية للقشور التي يتم إنتاجها أثناء تبخير واحدة أو أكثر من المواد المتطايرة من التركيبات الفوسفاتية. على سبيل المتال؛ في تجسيدات معينة لا تشتمل القشور التي يتم إنتاجها أثناء تبخير واحدة أو أكثر من المواد المتطايرة من التركيبات الفوسفاتية الثانية على أو تكون خالية إلى حدٍ كبير من بنتا فلورو ألومينات المجنسيوم. في تجسيدات معينة؛ تنتج التركيبات الفوسفاتية الثانية وفقًا للاختراع عند إخضاعها لحرارة
5 و/أو ضغط منخفض أو عندما يتم رشها من فوهة قشور تشتمل على فوسفات هيدروجين ألومنيوم البوتاسيوم. في تجسيدات معينة؛ يتم اختيار السطح الذي تتراكم عليه القشور وفقًا لأي من التجسيدات التي يتم الكشف عنها هنا من المجموعة التي تتكون من سطح معدني» سطح جرافيت» سطح من مطاط (anda سطح من مطاط تخليقي؛ سطح من كارييد تنجستين» وسطح من كارييد سيليكون.
0 في تجسيدات معينة؛ يتم اختيار السطح المعدني من المجموعة التي تتكون من سطح من سبيكة نيكل-كروم-موليبدنوم» سطح من صلب لا يصداً؛ سطح من سبيكة حديد-نيكل-كروم؛ سطح من كروم-نيكل-موليبدنوم صلب لا daar سطح ألومنيوم؛ سطح من سبيكة نحاس؛ وسطح من نيكل كروم مقاوم للأحماض. في تجسيدات معينة؛ يكون السطح الذي تتراكم عليه القشور عبارة عن سطح غرض يشتمل على؛
5 يتكون oe أو يتكون بشكل أساسي من سبيكة تشتمل على كويلت؛ كروم؛ موليبدنوم؛ الحديد؛ سيليكون؛ منجنيز» كربون؛ (JS أو أي توليفة مما سبق. في هذا السياق؛ يعني سطح من جرافيت وما شابه سطح غرض يشتمل على؛ يتكون من؛ أو يتكون بشكل أساسي من الجرافيت. في تجسيدات معينة؛ (Say تنظيف السطح الثاني الذي تتراكم عليه القشور من القشور الثانية بواسطة
0 التنظيف بقضيب معدني و/أو الدفق بالماء وأو الاستخلاص بالغليان. في تجسيدات dime يتم إجراء
الدفق بالماء عند ضغط يبلغ حوالي 3000 رطل لكل بوصة مريعة (حوالي 20684 كيلو باسكال) إلى حوالي 5750 db) لكل بوصة مربعة (حوالي 39645 كيلو باسكال)؛ في تجسيدات معينة حوالي 4000 رطل لكل بوصة مريعة (حوالي 27579 كيلو باسكال) إلى حوالي 5500 رطل لكل بوصة مربعة sa) 37921 كيلو باسكال)؛ أو في تجسيدات معينة حوالي 4000 رطل لكل بوصة مربعة (حوالي 27579 كيلو باسكال) إلى حوالي 5000 رطل لكل بوصة مريعة (حوالي 34474 كيلو باسكال)؛ أو في تجسيدات معينة حوالي 5000 رطل لكل بوصة مريعة (حوالي 34474 كيلو باسكال)؛ حيث يزيل الدفق بالماء بين 7100 وحوالي 780؛ في تجسيدات معينة حوالي 795 إلى حوالي 285؛ أو في تجسيدات معينة بين 7100 وحوالي 790 من تراكم القشور على سطح داخلي للأنبوب. في تجسيدات معينة؛ تتم إزالة القشور الثانية من الأسطح التي تتراكم عليها القشور بواسطة 0 الدفق بالماء للأسطح المذكورة عند مستويات ضغط أقل من تلك المطلوية AY القشور الأولى من نفس السطح الذي تتراكم عليه القشور. تعكس مستويات الضغط المنخفضة أن القشور الثانية تكون أسهل في الإزالة من السطح عن القشور الأولى؛ بالتالي خفض وقت التوقف عن العمل وزيادة وقت الإنتاج. علاوة على ذلك؛ يمكن أن يقلل استخدام مستويات الضغط المنخفضة للتنظيف البلى وتمزق المعدات التي يتم تنظيفها وحتى يقلل كسر الأجزاء الضعيفة مثل أنابيب الجرافيت المشرّب؛ التي 5 يمكن أن توجد في المبادل الحراري. طرق رش تركيبة فوسفاتية ثانية في تجسيدات cise يتم توفير طريقة لرش تركيبة فوسفاتية ثانية؛ تشتمل الطريقة على أي واحدة من الطرق التي تم الكشف عنها هنا لتصنيع التركيبة الفوسفاتية الثانية أو أي واحدة من الطرق التي تم الكشف عنها هنا لتركيز التركيبة الفوسفاتية All وتشتمل كذلك على: ملامسة سطح تتراكم عليه 0 القشور لفوهة بالتركيبة الفوسفاتية الثانية؛ حيث تشتمل الفوهة على السطح الذي تتراكم عليه القشور؛ ويحدد السطح الذي تتراكم عليه القشور فتحة. في تجسيدات معينة؛ تترسب قشور ثانية على السطح الذي تتراكم عليه القشور. في تجسيدات معينة؛ تشتمل الطريقة كذلك على رش التركيبة الفوسفاتية الثانية من الفوهة و/أو عبر الفتحة في غرفة. في تجسيدات معينة؛ تحتوي الغرفة على أمونيا سائلة. في تجسيدات معينة؛ تكون القشور الثانية خالية من أو خالية إلى حدٍ كبير من بنتا فلورو ألومينات 5 المجنسيوم. في تجسيدات معينة؛ تشتمل القشور الثانية على فوسفات هيدروجين ألومنيوم البوتاسيوم. تجميعات SA في تجسيدات معينة؛ يتم توفير تجميعة A تشتمل تجميعة JAAN على A حيث يشتمل المُبخّر على غرفة توميض وواحد أو أكثر من أنبوب دفق «alia أنبوب دفق cay ومبادل حراري. غرفة التوميض ويكون واحد أو أكثر من أنبوب الدفق الصادرء أنبوب الدفق الوارد» والمبادل الحراري 0 في اتصال مائعي مع بعضهم البعض ويحددوا Bie حاوية مائع. بكلمات أخرى؛ يكون أي من واحد
أو أكثر من أنبوب الدفق الصادرء أنبوب الدفق الوارد؛ والمبادل الحراري؛ عندما توجد؛ في اتصال مائعي مع غرفة التوميض ومع بعضهم البعض. تشتمل تجميعة المُبجّر كذلك على أي تركيبة فوسفاتية ثانية موصوفة هناء يتم وضع التركيبة الفوسفاتية الثانية في حاوية المائع وتلامس سطح تتراكم عليه القشور. يعني 'في حاوية المائع" في غرفة التوميض» في المبادل الحراري (إن وجد)؛ في أنبوب الدفق الصادر (إن وجد)؛ في أنبوب الدفق الوارد (إن وجد)؛ أو في أي توليفة مما سبق. في تجسيدات معينة؛ تشتمل حاوية المائع على السطح الذي تتراكم عليه القشور. يمكن أن يكون المبادل الحراري مبادل حراري من غلاف وأنبوب» مبادل حراري من JS جرافيت؛ أو مبادل حراري من نوع يضم حفر تسخين بالهواء الطلق. في تجسيدات معينة؛ تشتمل تجميعة AA كذلك على قشور ثانية تلتصق بالسطح الذي تتراكم عليه 0 القشور. في تجسيدات معينة؛ تكون القشور الثانية خالية من أو خالية إلى حدٍ كبير من بنتا فلووو ألومينات المجنسيوم. في تجسيدات معينة؛ تشتمل القشور الثانية على فوسفات هيدروجين ألومنيوم البوتاسيوم. يمكن فهم ما سبق بشكل أفضل بالإشارة إلى الأمثلة التالية؛ والمقدمة بغرض التوضيح وليس حصر الاختراع. على وجه التحديد تعرض الأمثلة أمثلة توضيحية حول مبادئ الاختراع ولا تقتصر هذه 5 المبادئ تحديدًا على الحالة المحددة المذكورة في هذه الأمثلة. وكنتيجة لذلك ينبغي فهم أن الاختراع يتضمن تغييرات وتعديلات مختلفة على الأمثلة الموصوفة هنا (Sarg إجراء هذه التغييرات والتعديلات دون الابتعاد عن فحوى ومجال الاختراع ودون الانتقاص من مزاياه. ويالتالي تتم تغطية هذه التغييرات والتعديلات بواسطة عناصر الحماية الملحقة. طرق إزالة القشور الثانية المترسبة و/أو القشور الثانية المذابة 0 في تجسيدات معينة؛ يتم تنظيف أي من الأسطح التي تتراكم عليها القشور التي تم الكشف عنها هنا من القشور الثانية بواسطة التنظيف بقضيب معدنيء الدفق بالماء؛ الاستخلاص بالغليان» أو أي توليفة مما سبق. في تجسيدات معينة؛ يتم إجراء الدفق بالماء عند ضغط يبلغ حوالي 3000 رطل لكل بوصة مربعة (حوالي 20684 كيلو باسكال) إلى حوالي 5750 رطل لكل بوصة مربعة (حوالي 5 كيلو باسكال)؛ في تجسيدات معينة حوالي 4000 رطل لكل بوصة مريعة (حوالي 27579 5 كيلو باسكال) إلى حوالي 5500 رطل لكل بوصة مربعة (حوالي 37921 كيلو باسكال)؛ أو في تجسيدات معينة حوالي 5000 رطل لكل بوصة مريعة (حوالي 34474 كيلو باسكال). في بعض هذه التجسيدات؛ يزيل التنظيف بقضيب معدني و/أو الدفق بالماء بين حوالي 780 و7100؛ في تجسيدات معينة حوالي 785 إلى حوالي 795؛ أو في تجسيدات معينة بين 790 و7100 بالوزن من القشور على السطح الذي تتراكم عليه القشور. في بعض هذه التجسيدات؛ يزيل الدفق بالماء بين 0 حوالي 780 و2100 في تجسيدات معينة حوالي 785 إلى حوالي 795 أو في تجسيدات معينة
بين 790 و7100 بالوزن من القشور على السطح الذي تتراكم عليه القشور.
في تجسيدات edie يتم إجراء الدفق بالماء على واحد أو أكثر من أنابيب مبادل حراري من غلاف cals واحد أو أكثر من الأنابيب؛ واحدة أو أكثر من الفوهات؛ واحد أو أكثر من ثقوب الخرم بمبادل حراري من كتل جرافيت؛ واحد أو SST من أنابيب مبادل حراري به Bin في الهواء الطلق؛
أو أي توليفة مما سبق.
تعكس مستويات الضغط المنخفضة نسبيًا المطلوية للدفق بالماء لإزالة القشور الثانية أن القشور الثانية التي تم الكشف عنها هنا تلتصق بأي من الأسطح التي تتراكم عليها القشور التي تم الكشف عنها هنا بقوة أقل من القشور الأولى التي تم الكشف عنها clin تكون القشور الثانية أنعم من القشور الأولى» تكون القشور الثانية أضعف من القشور الأولى؛ و/أو أي توليفة مما سبق.
0 في تجسيدات معينة؛ يشتمل الوسط المائع للدفق بالماء على؛ يتكون منء أو يتكون بشكل أساسي من الماء؛ البخار » حمض سلفريك» حمض هيدروكلوريك» حمض فسفوربك» أو أي توليفة مما سبق. في تجسيدات معينة؛ يشتمل الوسط المائع للدفق بالماء على؛ يتكون من؛ أو يتكون بشكل أساسي من الماء المستعاد أو المعاد تدويره. في تجسيدات معينة؛ يشتمل الوسط المائع على؛ يتكون من؛ أو يتكون بشكل أساسي من ماء صنبورء ماء AS أو توليفة مما سبق.
5 استخدام تركيبات تقليل القشور في تجسيدات معينة؛ يتم استخدام أي من تركيبات تقليل القشور التي يتم الكشف عنها هنا لخفض معدل ترسب القشور على أي من الأسطح التي تتراكم عليها القشور التي تم الكشف عنها هنا:
(1) لخفض معدل ترسّب القشور على السطح الذي تتراكم عليه القشور؛ (2) لتقليل زمن إزالة القشور من السطح الذي تتراكم عليه القشور بواسطة (أ) الدفق بالماء؛ (ب) التنظيف بقضيب معدني؛ (ج)
0 الاستخلاص بالغليان؛ أو أي توليفة مما سبق. في بعض هذه التجسيدات؛ يتم إجراء الدفق بالماء عند ضغط يبلغ حوالي 20684 كيلو باسكال إلى حوالي 39645 كيلو باسكال» حيث تتم إزالة من حوالي 780 إلى 7100 من القشور من السطح الذي تتراكم عليه القشور. الأمثلة المثال 1
5 الإجراءات التمهيدية أ بعد دورة تشغيل؛ تتم إزالة القشور من المبادل الحراري Ads في محطة معالجة حمض فسفوربك. يتم غسل القشور وتجفيفها. كانت القشور قاسية وصعبة الإزالة من المبادل الحراري. الإجراءات التمهيدية ب بعد دورة تشغيل» تتم إزالة القشور من المبادل الحراري الخاص بنفس HAN كذاك الخاص بالإجراءات
0 التمهيدية أ. يتم غسل القشور وتجفيفها؛ ويتم توضيحها في الشكل 1. كانت القشور قاسية وصعبة
— 0 3 — aly J من المبادل الحراري ٠ سيب خدش القشور بقاطع كاتر آثار خدش سطحية » كما هو موضح في الشكل 1. تم تحليل عينات القشور من الإجراءات التمهيدية أ والإجراءات التمهيدية ب بواسطة فلورية الأشعة السينية لأكسيد التركيبة وبواسطة حيود الأشعة السينية للمواد المعدنية/ التركيبة: يتم عرض النتائج في الجدول 3 والجدول 4 على الترتيب. المثال 2 تم إغلاق A الخاص بنفس aan dass فسفوريك كما فى المثال 1 وتنظيفه . تمت إعادة تشغيل al وتمت إضافة التركيبة بالجدول 1 إلى حمض فسفوربك في A) عند معدل 150 gr بالوزن من التركيبة في مليون eda بالوزن من حمض فسفوريك الخام الذي يدخل إلى Al بعد 0 دورة مدتها 30 can تم إغلاق Al للتنظيف»؛ إزالة القشور من المبادل الحراري؛ وتم تحليل القشور بواسطة فلورية الأشعة السينية لتركيبة العناصر/ تركيبة الأكسيد وبواسطة حيود الأشعة السينية للمواد المعدنية/ التركيبة: يتم عرض النتائج في الجدول 3 والجدول 4 على الترتيب. يتم توضيح القشور في الشكل 2. لم تكن القشور قاسية كتلك في المثال 1؛ لكن ما تزال صعبة الإزالة دون جهود البوليمر المشترك من حمض أكريليك-2 أكريلاميدو- 5 2-ميثيل برويان سلفونيك )40-60 بالوزن) المثال 3 تم إغلاق المُبخّر الخاص بنفس محطة حمض فسفوربك كما في الأمثلة 1 و2 وتنظيفه. تمت إعادة تشغيل All وتمت إضافة التركيبة بالجدول 2 إلى حمض فسفوربك في All عند معدل 235 جزء بالوزن من التركيبة في مليون a بالوزن من حمض فسفوربك الخام الذي يدخل إلى A 0 الجدول 2: التركيبة المضافة إلى حمض فسفوريك فى المثال 3 البوليمر المشترك من حمض أكريليك-2 أكريلاميدو- 70 2-ميثيل برويان سلفونيك )40-60 بالوزن) ّ يلي (حصض (oe البوليمر المشترك من حمض أكريليك- إيثر هيدروكسي | op بولي إيثوكسي (10) أليل )50-50 بالوزن)
— 1 3 — بعد دورة مدتها 29 cag تم إغلاق المُبخّر للتنظيف؛ إزالة القشور من المبادل الحراري؛ وتم تحليل القشور بواسطة فلورية الأشعة السينية لتركيبة العناصر/ تركيبة الأكسيد وبواسطة حيود الأشعة السينية للمواد المعدنية/ التركيبة: يتم عرض النتائج في الجدول 3 والجدول 4 على الترتيب. يتم توضيح القشور في الشكل 3. تكون القشور شديدة النعومة وسهلة الإزالة من LA قلما تبقى القشور متماسكة؛ وتتفكك بسهولة أثناء الغسل. يتم توضيح القشور بعد الغسل والتجفيف في الشكل 4 الجدول 3: نتائج فلورية الأشعة السينية oe الإجراءات الإجراءات المثال 2 المثال 3 المحتوى : التمهيدية أ التمهيدية ب ا CaO ]6 ]6 0 20 0 )7 sp 00 4 0000 2] si )6 sl 06 00 3] Na 6 K ]2 000 ]6 000 6 0 )13 IE EE EE EY الجدول 4: نتائج حيود الأشعة السينية al الإجراءات الإجراءات المثال 2 - المحتوى : التمهيدية أ التمهيدية ب هكسا فلورو 0 ١ !8 1 سيليكات المجنسيوم بنتا فلورو M 1 ألومينات M المجنسيوم هكسا فلورو m M 1 M سيليكات
— 2 3 — LL ee أنهيدريت M 32 MI CaSOq CaS04.2H.O هيمي هيدرات M 0.12110قدن السليكا (ألفا- M كوارتز) هكسا فلورو M سيليكات M 1 صوديوم البوتاسيوم فوسفات M هيدروجين ألومنيوم البوتاسيوم M = المكون الرئيسي؛ 0 - المكون صغير الحجم؛ + = المكون الضئيل» - - غير قابل للكشف توضح النتائج أن القشور من المثال 3 كانت أنعم بكثير من تلك بالمثال 2 وأنعم من تلك بالاثنين من الإجراءات التمهيدية بالمثال 1. كانت القشور بالمثال 3 أنعم بكثير وأسرع في التعقب من تلك بالمثال 2 على الرغم من أن النسبة المئوية للمكونات النشطة كانت أعلى قليلًا في المثال 2؛ مما يبين ميزة المكونات المتعددة لتركيبة تقليل القشور بالمثال 3. المثال 4 تم إجراء تجرية بمحطة تتكون من دورتين في محطة لإنتاج حمض فسفوريك؛ حيث تضمنت كل دورة مدة إنتاج بعد تنظيف المُبجّر؛ يتبع ذلك مدة تنظيف. بالتالي؛ بعد إجراء تنظيف؛ تم تشغيل المحطة التى تنتج aan فسفوريك ¢ تم وقف ا لإنتا z لتنظيف المبادل الحراري ¢ ثم تم إجراء دورة ثانية من التشغيل يتبع ذلك التنظيف. لم تستخدم التجرية بالمحطة dy لهذا المثال تركيبة تقليل 0 1 قشور مضافة. الملاط وتصفيته؛ وتمت تغذية حمض فسفوربك الناتج كتدفق رئيسي عبر خط تغذية (أنبوب)
بطول تقريبًا 1500 قدم (حوالي 457 (Ue إلى خزان التوميض Ad تم التحكم في التدفق الرئيسي من حمض فسفوريك من جهاز التصفية عن طريق صمام تغذية يعمل بالكمبيوتر. مباشرة قبل اتصل خط التغذية بخزان التوميض؛ كان هناك صمام يغلق Loy يتم فتحه روتينيًا وإغلاقه Ol) أمكن) مرة بكل مناوية.
يشتمل JA على خزان توميض في اتصال مائعي مع مبادل حراري من غلاف وأنبوب يشتمل على تقريبًا 900 أنبوب بالحزمة الواحدة (حيث تشتمل حزمة على من أغلفة وأنابيب متضمنة بها). تم تدوير حمض فسفوربك في خزان التوميض من خزان التوميض عبر أنبوب دفق صادر سفلي ومضخة إعادة تدوير إلى المبادل الحراري وعبر أنابيب المبادل الحراري حيث تم تسخينه. تدفق حمض ففوريك الذي تم تسخينه عندئذٍ من أنابيب المبادل الحراري عبر أنبوب دفق وارد رجوعًا
0 إلى CAE يقلل تراكم القشور في خط التغذية إلى A التدفق به. ومع انخفاض التدفق؛ تم فتح صمام التغذية الذي يتم تشغيله بالكمبيوتر لإعادة تكوين التدفق السابق؛ حتى يُفتح صمام التغذية تمامًا ولا يزيد التدفق. ثم تم أخذ المُبجّر خارج الخط وتم إغلاق خط التغذية وتنظيفه بواسطة إرسال ناتج التكثيف عبر خط التغذية saad ساعات لإزالة القشور من gal) الداخلي من خط التغذية. بعد هذا 5 الإجراء» بمتوسط مرة كل سبعة إلى عشر أيام أوقف مشغلو المحطة إمداد حمض فسفوريك إلى المُبخّر وقاموا بتنظيف gall الداخلي من خط التغذية. تم إجراء هذا التنظيف لخط التغذية نمطيًا 2 إلى 3 مرات في كل دورة؛ والذي يكون بمتوسط 25 يوم. أثناء هذا التنظيف لخط التغذية لا يتم تنظيف أنابيب المبادل الحراري وتتم إعادة تدوير حمض في AG تراكمت القشور أيضًا في صمام الإغلاق اليدوي؛ وتطلبت القشور التي تراكمت بمرور الوقت زيادة 0 القوة اللازمة لإغلاق وفتح الصمام بمرور الوقت. عندما لم يعد بالإمكان إغلاق الصمام؛ ترك المشغلون الصمام مفتوحًا حتى تم تنظيف خط التغذية. تراكمت القشور أيضًا داخل المبادل الحراري على السطح الداخلي لأنابيبه. عند نهاية إحدى الدورات؛ للحفاظ على تدفق الحمض عبر المبادل الحراري والحفاظ على نقل فعال للحرارة من الغلاف إلى الحمض في الأنابيب؛ تم وقف الإنتاج. تم عندئذٍ تنظيف الأنابيب المسدودة والمسدودة 5 جزثيًا (حوالي 300 أنبوب) بواسطة الدفق بالماء عند حوالي 6000 رطل لكل بوصة مربعة (psi) (حوالي 48263 كيلو باسكال) إلى حوالي 10000 رطل لكل بوصة مربعة (68948 كيلو باسكال). كانت هذا الضغط مطلويًا AY القشور من الجزء الداخلي من الأنابيب المسدودة. يتم توضيح أوقات الإنتاج وأوقات عدم الإنتاج الناتجة ذات الصلة بالتنظيف على مدار دورتين في الجدول 5: 0 الجدول 5: إجمالي أوقات الإنتاج وأوقات التنظيف لدورتين في المثال 4
— 4 3 — 6 - امج أثناء يتم توضيح القشور المنظفة بقضيب معدني من أنابيب المبادل الحراري في الشكل 5 كانت القشور قاسية نسبيًا وصعبة الكشط بسكين . المثال 5 بعد التجرية بالمحطة الموصوفة في المثال 4 تم إجراء تجرية من دورة واحدة مدتها 42.7 يوم باستخدام تركيبة مائية لتقليل القشور لها الصيغة المبينة في الجدول 6.
البوليمر المشترك من حمض أكريليك-2 أكريلاميدو -2-ميثيل 7
بروبان سلفونيك (40-60 بالوزن)
(se om) بلي
البوليمر المشترك من حمض أكريليك- إيثر هيدروكسي بولي Se
إيثوكسي (10) أليل )50-50 بالوزن) ّ تمت إضافة تركيبة تقليل القشور المائية في مكانين. كانت نقطة وضع الجرعات الأولى كانت خارج الخزان الذي يحمل الحمض المصفى مباشرة. كانت نقطة وضع الجرعات الثانية Mea عشر أمتار قبل نقطة الدخول إلى الحمض المصفى إلى قمة المبادل الحراري.
0 بدلا من ذلك؛ تم إجراء الدورة بنفس الطريقة إلى حدٍ كبير كما في المثال 4. يتم توضيح أوقات الإنتاج وأوقات التنظيف في الجدول 7: الجدول 7: أوقات الإنتاج وأوقات التنظيف في المثال 5
دون إضافة تركيبة تقليل القشور الموضحة في الجدول 6؛ كانت نسبة وقت الإنتاج إلى وقت التنظيف 6.7؛ بينما مع إضافة الصيغة الموضحة في الجدول 6 إلى الحمض في المفاعل؛ زادت النسبة إلى 19.2. بإضافة تركيبة تقليل القشور» لزم مرات توقف أقل عن العمل بكل زمن دورة. يعكس ذلك بطء تراكم القشور في المبادل الحراري وخط التغذية.
علاوة على ذلك»؛ لزم وقت أقل بكل مرة توقف لتنظيف خط التغذية )0.33 يوم مقارنة بعدد 0.59 يوم للتنظيف بالدفق بالماء). يعكس ذلك أن القشور الفعلية التي يتم إنتاجها كانت أنعم وأسهل في الإزالة من القشور التي يتم إنتاجها دون تركيبة تقليل القشور. تضمن مجمل تأثير التحسينات زيادة في إنتاج الحمض بكل وقت تشغيل الوحدة نتيجة لقلة زمن التوقف عن العمل لتنظيف القشور» مما يطيل الدورة؛ وبنتج حمض أكثر بكل يوم إنتاج بواسطة
0 إبقاء معامل تبادل حراري le نسبيًا على مدار الدورة. Judi 6 بعد تشغيل الدورة في المثال 5؛ توقفت إضافة تركيبة تقليل القشور إلى حمض فسفوربك. مع ذلك؛ بعد الدورة التي تضم تركيبة تقليل القشور المائية الموصوفة في المثال 5؛ تم خفض متوسط وقت التنظيف لكل أنبوب من أنابيب المبادل الحراري بواسطة حوالي 750. أمكن دفق حوالي 774 من
5 الأنابيب بالماء في أقل من 40 ثانية؛ وتم دفق الأنابيب التي صعب تنظيفها بالماء في دقيقتين؛ بينما قبل التجرية الموصوفة في المثال 5؛ استغرقت الأنابيب التي صعب تنظيفها بقضيب حوالي خمس دقائق لتنظيفها بواسطة الدفق بالماء. علاوة على ذلك؛ تطلب الدفق بالماء فقط حوالي 5000 رطل لكل بوصة مربعة (3447379 كيلو باسكال) لإزالة القشور من أنابيب المبادل الحراري.
0 "تم إجراء المثال 4 دون تركيبة لتقليل القشور. تم إجراء المثال 5 بعد المثال 4. في المثال 5؛ تمت إضافة تركيبة تقليل القشور (الصيغة المبينة في الجدول 6). كان إجراء المثال الحالي 6 تابعًا لذاك بالمثال 5؛ وتم إجراءه دون تركيبة تقليل القشور. كانت القشور التي تتراكم في أنابيب المبادل الحراري في المثال الحالي أنعم من تلك التي تم الحصول عليها في المثال 4. يدل ذلك على أن إضافة تركيبة تقليل القشور الموصوفة في المثال
له تأثيرات مفيدة استمرت بعد توقف استخدامها. بقيت أي القشور أنعم وأسهل في التنظيف؛ على الرغم من توقف استخدام تركيبة تقليل القشور. يتم توضيح القشور المنظفة بقضيب معدني التوضيحية من الأنابيب في الشكل 6. أمكن كشط القشور بسهولة بسكين. المثال 7
5 تم إجراء اثنتين من التجارب في محطة حمض فسفوريك. واشتمل A على خزان توميض في اتصال مائعي مع مبادل حراري كتلي. اشتمل المبادل الحراري الكتلي؛ بارتفاع حوالي 30-20 قدم؛ على حوالي ثمانية إلى حوالي عشرة كتل جرافيت. حددت كل كتلة جرافيت اثنتين من مجموعات ثقوب الخرم -إحدى مجموعات ثقوب الخرم التي تم تمرير الحمض عبرها ومجموعة ثانية تم تمرير البخار عبرها. كانت المجموعة الأولى من ثقوب الخرم متعامدة على المجموعة الثانية من ثقوب
0 الخرم. لم تكن المجموعة الأولى من ثقوب الخرم والمجموعة الثانية من ثقوب الخرم في اتصال مائعي مع بعضهم البعض. تم تدوير حمض فسفوريك في خزان التوميض بالمُبخّر من خزان التوميض عبر أنبوب دفق صادر سفلي عبر مضخة إعادة تدوير إلى المبادل الحراري وعبر ثقوب الخرم في المبادل الحراري من الجرافيت حيث تم تسخينه. تدفق حمض فسفوريك الذي تم تسخينه عندئذٍ من المبادل الحراري عبر 5 أنبوب دفق lg رجوعًا إلى DAN وكان أنبوب تجميع الحمض المركز قرب قمة مستوى الحمض. في التجرية الأولى» لم تتم إضافة تركيبة تقليل القشور إلى حمض فسفوريك. في التجربة الثانية؛ تمت إضافة نفس تركيبة تقليل القشور المستخدمة في المثال 5 (الصيغة المبينة في الجدول 6) إلى حمض فسفوريك الذي تمت تغذيته إلى المبادل الحراري. تم وقف الإنتاج حسبما يلزم من أجل تنظيف المبادل الحراري؛ بناءً على تدفق البخار؛ تدفق 0 حمض التغذية إلى المبادل الحراري؛ وضغط البخار في المبادل الحراري. في التجرية 1؛ استمر طور الإنتاج حوالي 126 ساعة قبل وجوب وقف الإنتاج لتنظيف المبادل الحراري. في التجرية 2 استمر طور الإنتاج حوالي 166 ساعة قبل وجوب وقف الإنتاج لتنظيف المبادل الحراري. سمح استخدام تركيبة تقليل القشور بزيادة وقت الإنتاج لمدة حوالي 40 ساعة. بالإضافة إلى cally أنتجت التجرية 2 متوسط 49 طن زيادة من الحمض المركز أو 24 طن من 5 0205 في اليوم.
Claims (1)
- — 7 3 — عناصر الحمابة 1 طريقة تشتمل على: إضافة إلى تركيبة فوسفاتية أولى تركيبة مائية لتقليل القشور تشتمل على إلى 715 وزناً من بولى أمينو بولى إيثر ميثيلين تترا فوسفونات polyamino polyether «methylene tetraphosphonate 5 1 إلى 750 وزناً من بوليمر مشترك من حمض أكريليك acrylic acid وحمض 2-أكربلاميدو- 2-ميثيل برويان سلفونيك «2—-acrylamido-2-methylpropane sulfonic acid 2 إلى 715 bys من بوليمر مشترك من حمض أكريليك acrylic acid وهيدروكسي بولى إيثنوكسي أليل «eles hydroxypolyethoxy allyl ether ji لتكوين تركيبة فوسفاتية ثانية؛ حيث تشتمل التركيبة الفوسفاتية الأولى على حمض فسفوربك phosphoric acid وسلفات الكالسيوم .calcium sulfate2. الطريقة وفقاً لعنصر الحماية 1؛ حيث تشتمل التركيبة المائية لتقليل القشور على 72 إلى 730 وزناً من بوليمر مشترك من حمض أكريليك acrylic acid وحمض 2- أكريلاميدو -2-ميثيل برويان سلفونيك .2—acrylamido—2-methylpropane sulfonic acid3. الطريقة وفقاً لعنصر الحماية 1 حيث تشتمل التركيبة المائية لتقليل القشور على 72 إلى 715 وزناً من بوليمر مشترك من حمض أكريليك acrylic acid وحمض 2- أكريلاميدو -2-ميثيل برويان سلفونيك .2—acrylamido—2-methylpropane sulfonic acid 4 الطريقة وفقاً لعنصر الحماية 1 حيث تشتمل التركيبة المائية لتقليل القشور على 73 إلى 720 by من بوليمر مشترك من حمض أكريليك acrylic acid وحمض 2-أكربلاميدو -2-ميثيل برويان سلفونيك .2—acrylamido—2-methylpropane sulfonic acid5. الطريقة وفقاً لعنصر الحماية 1 حيث تشتمل الطريقة أيضاً على تكوين التركيبة الفوسفاتية الأولى بواسطة دمج ala فوسفات phosphate ore وحمض سلفريك sulfuric acid لتكوين خليط deli من فوسفات ¢sphosphate إيقاء خليط التفاعل من الفوسفات phosphate عند 2°65 إلى 120 "م لمدة تتراوح من 30 دقيقة— 8 3 — إلى خمس ساعات لتكوين حمض فسفوريك phosphoric acid خام؛ و ترشيح حمض الفسفوربك phosphoric acid الخام لإزالة المادة غير القابلة للذويان وتوفير التركيبة الفوسفاتية الأولى.6. الطريقة وفقاً لعنصر الحماية 5؛ Cus يشتمل خام الفوسفات phosphate ore على أباتيت.apatite7. الطريقة وفقاً لعنصر الحماية 6 Cus يكون الأباتيت apatite عبارة عن فلورو أباتيت 11108086 هيدروكسيل أباتيت chydroxylapatite كلورو أباتيت cchlorapatite أو أي توليفة منها.8. الطريقة وفقاً لعنصر الحماية 1 حيث تشتمل الطريقة أيضاً على وضع التركيبة الفوسفاتية الثانية في حاوية؛ وتسخين التركيبة الفوسفاتية الثانية إلى درجة حرارة من 50"م إلى 21105 9. الطريقة وفقاً لعنصر الحماية 1 حيث تشتمل الطريقة أيضاً على وضع التركيبة الفوسفاتية الثانية في حاوية؛ وتطبيق ضغط من 1.01 كيلو باسكال (0.01 ضغط جوي) إلى 91.2 كيلو باسكال)0.9 ضغط جوي) على التركيبة الفوسفاتية الثانية فى الحاوية.0. الطريقة وفقاً لعنصر الحماية 1؛ حيث تكون للتركيبة المائية لتقليل القشور تركيز من 710 إلى 0 من المواد الصلبة ونناً.1. الطريقة وفقاً لعنصر الحماية 1 حيث تشتمل التركيبة الفوسفاتية الثانية على 5 أجزاء وزناً إلى 0 جزء ونناً من التركيبة المائية لتقليل القشور إلى مليون جزءٍ Uy من التركيبة الفوسفاتية الأولى.2. تركيبة لتقليل القشور تشتمل على: 5 إلى 715 وزناً من بولى أمينو بولى إيثر ميثيلين تترا فوسفونات polyamino polyether «methylene tetraphosphonate 1 إلى 750 وزناً من بوليمر مشترك من حمض أكريليك acrylic acid وحمض 2- أكريلاميدو- 2-ميثيل برويان سلفونيك «2—acrylamido—-2-methylpropane sulfonic acid— 9 3 — 2 إلى 715 وزناً من بوليمر مشترك من حمض أكريليك acrylic acid وهيدروكسى بولى oS gil أليل ¢hydroxypolyethoxy allyl ether jij وماء.13. تركيبة تقليل القشور Gay لعنصر الحماية 12 حيث تشتمل التركيبة على 72 إلى 730 Uy من بوليمر مشترك من حمض أكربليك acrylic acid وحمض 2-أكريلاميدو-2-ميثيل برويان سلفونيك .2—acrylamido—-2-methylpropane sulfonic acid4. تركيبة تقليل القشور وفقاً لعنصر الحماية 12 حيث تشتمل التركيبة على 72 إلى 715 Bye من بوليمر مشترك من حمض أكريليك acrylic acid وحمض 2- أكربلاميدو -2-ميثيل برويان سلفونيك .2—acrylamido—-2-methylpropane sulfonic acid5. تركيبة تقليل القشور وفقاً لعنصر الحماية 12 حيث تشتمل التركيبة على 73 إلى 720 وزثاً من بوليمر مشترك من حمض أكربليك acrylic acid وحمض 2-أكريلاميدو-2-ميثيل برويان.2—acrylamido-2-methylpropane sulfonic acid سلفونيك 156. تركيبة تقليل القشور وفقاً لعنصر الحماية 12 حيث تشتمل التركيبة أيضاً على 71 إلى 710 وزناً من بولى (حمض ميثاكريليك acid 16ال/00811801). 0 17. تركيبة تقليل القشور وفقاً لعنصر الحماية 12( حيث تشتمل التركيبة Load على بوليمر رياعي من حمض أكربليك acrylic acid حمض 2-أكربلاميدو-2-ميثيل برويان سلفونيك-2 sulfonic acid 100206( |ل801/1801100-2-10021» ل١-(ثلاثي - بيوتيل) أكربلاميد؛ وحمض إيتاكونيك .itaconic acid18. تركيبة تقليل القشور وفقاً لعنصر الحماية 12 حيث تكون النسبة المئوية الوزنية للمواد الصلبة في تركيبة تقليل القشور المائية من 710 إلى 750.9. تركيبة تقليل القشور وفقاً لعنصر الحماية 12؛ حيث تتكون تركيبة تقليل القشور بشكل أساسي من بولى أمينو بولى ji) ميثيلين تترا فوسفونات polyamino polyether methylene ctetraphosphonate 30 بوليمر مشترك من حمض أكربليك acrylic acid وحمض 2-— 0 4 — snd 1 -2- ميثيل برويان سلفونيك 2-acrylamido—-2-methylpropane sulfonic 0 بوليمر مشترك من حمض أكريليك acrylic acid وهيدروكسي بولي إيثوكسي أليل إيثر <hydroxypolyethoxy allyl ether وماء .اتا Sk a اي 1 fe Fa 2 NE No دا الج hs > ا ا 0 2 a aa Bn RR ENE 8 ie . a ros Re FE Gain No : Baa Lo Sa Se ie LE oi Dinh San Cool Ni i a oo alba 0 ا ااا 1 SE nr Now SE PI: Es SREY Sr Ha CLR Se ER Naas Sy oo 0 حب ل 0 ا Caan 8 ل 2 Nase a on a Tr = at Sa NOR CEA CRE GE co : د ال ٍْ ا ب ل اا 0 0 Sey 1 > 2) a aan SR Can 2 مدل y ا ka 0 ا 0 ا اا DG > Shaan a ENED RE dn LE 8 ا ا FE sn SEE = a NE 8 ل اا : 0 0 سا Tn hi 2 ae 0 ال RA Sa SES SER 8 RI EH ; : و o “ 0 0 ا Tow 8 5 Eo Co RRA SEI SIAN Sua a we a : 2 ae a Lt CL od ا ا LE اد Re Na a NG EE aa Non SR LL NR 88 HE we SR IE a RN ie 3 Som Be ON 2 re Ee 3 aa 0 0 0 0 : has na 8 ا 3 EE AN NER oe ER SE RY 2 on A Soa Sh He a an Nt Co I 0 ا i Sa AS 0 a ل 0 ٍ 08 ِِ : ) : . . Co ERAN Ga WER RA Sa Saas SANE RA Nw as Se ER POW DR ER 8 EE Dae RA oa an SS 7: 0 Ga م rn ON on SER 8 i LUNA 0 NE nN La AR 0 اا ا ا 0 1 ANE SS Co SE a 0D aD 3 oo ae ENE SORE Ta 5 ا 0 SENN a . : Lo Ne SE RR La a SARE HR 5 5 a Co aR 8 SE SEEN Wiel dae 8 SEN Sn 0 0 ا SE EX oa NR Gale LE REN Na SE oR ED No Ca i a 3 RIN Ne THs SUR HERE Na NER 0 al aN oi)Sg . Ne SN 82) REED NE SER SE SR ا | ل 0 ا ب ap NN 1 BORE 0 Ras RAN SEE NY 2 Sh . TREN SE NB 9 ا Coa oN 8 ا THE Ba LE SNA = AN Noid Ee So TR aia SRE 2 NES NE 3 ay RA ESR SRR Xa 3 RN Be 8 0 . 0 : SEE Na 0% Nh 3 CEN ; RR ES a NE Te Sa 0 ا 0 SE URINE ERNE ONS 8 ل NS RES SN 0 ا : ل SN Ha EN WR Na RE Ne ا ل ee 0 ES a Ci RIS 5 RN Ee RN: SR aR . SR NN . a ON NA NR Ne Sa ال ا SER SO SEA 5 د : ا 8 Re LL 8 ال ل Sa \ Lo | 0 4 د ٍ ا SAE NE SNE 4 TON 1 Ne SOONER 8 Beh ANE ل 8 اا SL Se SA RX SR OX 3 aah 0 or ay OER Sapa 3 RRR SNES Baa a STORY Ne 5 ا 0 ٍ امم ARES 8 : ا aX 0) NR Tah X 3 ل 0 0 0 oH OREN a Ah BX ae pH EON Ha 8 ااا Ne ha QD ST td NR saa 1 0 8 BS NN 8 ens No NE \ 0 3 ذ ٍ ا 0 ا CER Ne ا ل ا OR A a a a a ONES SAR PE a HE a el SRE ARE Sa 0 a Gr 5 eh Sri SNE 8 EE RoR NA ae aa ا 6 88 aN BE Ee N ا ا ع ل ا SEE 2 a AE aR 2 a a aan 3 Le AN 2 NN 3 Lo OR SA SN 0 ا : DI 0 Wn i RR A Ni Be 1 0 0 | . i OE Sa NX aaa RNa 8 ا AEN Ne ES Ss SI 0 X \ 0 ذ ا ٍ a : : ; posit HORN SEE 5 Se Sane LAIN 0 = | 0 ٍ : . : SESE EN C0 EON = SR NER SE Soon oR TN ON Sa SN a 5 58 ae BD TEE Soa a 3 3 oa Sa NE on ER PE . 2 DL RE nti Ra Ral: > a 8 = oe 5 . an 88 DHE XS SEE 2 SEAN 8 ا د ا د ل Na NE a a TREES0 . See Naan a on A د hee RET a Nn a Lain SRN 5 SN DR NS EE 8 اا EN aN RE . eae a Sa SNE A 3 ON a 2 Le Shae 8 2 Ne 0 ا RN a 5 = NEE SE £8 5 5 HE Sat aN ha EE an 0 Se Ea 2 Lo 5 Dan : Sa Soha 3 Tea . Te 1 ض مم ل ا اا ي مت ل ا hia AR ae ee SAAR 3 Se SE RR Me CoRR ا & ARR Ri NN ce . La RRR RASC BR hee AER dina AIR 3 LL Sn EL a 0 ل ا TNE Sana RE Rene 3 La = . Aa Sa a 0 ا a Nh RN RON BEANS ea NN SN Ra Na Eau aes ض \ LL NN 8 2 aE. Rha FRE Naa RENE SRS Raat Sn Nh SR EER SERRE Saha ARR hE SRE Sa REE Na Ca 0 0 الا AES RNR Shae 0 0 ا ا SE a Sas NN ah UR (RS A ES A SERENE OR wR in ne Ra eT - NT اد اليا Na Sa Ce LL Naa a Do ann a AR RN RRR Naw 2 Nan Na SRR AN RR Ra ERNE Na RE SERN ا ER a : SRR Ha ARR NR SORE DENY SR Re Ret Ra SR aan “te 3 WE RN ay a Sees SON Ea . Eat REAR EE OBO wane ٍ ayn a 8 شخ NE i RN TRUE STR a N NN \ LL Nn nN [0 NE AR SRE ER Da a \ aa Ra RR Th Na TR ne Se AAR dR A mi 0 ا 3 NA Sd NR DIRE SR a 8 RR Ne dan 3 TT Se RRS x a ERR A = EH RY NR RY RR DN na TR SRNR mo SOR تح ERO Ra I TR TARR TRG 8 : : ا TR ~ SE =a RR oe ba 8 RAR 3 NN 8 N 0 Ww aR as NRE BN al Na Nae 0 اا ا ARE ا ا ا SN ER Jane 8 RRR CER REAR RY CIR HES SR IRN RRR EE ARE SERRE SRE NS PERE SRS ER SHR aN 3 al ae Tn RO SRE Sa ARN 3 0 ا : الا : Naa RENNES EN RE a ل RR RRR a SERS ا EN Ta Naw : a 8 a an Bey اا ا اا ل ا 5 ا اط 8 SR Ra SE 8 ا NE 8 الاي ل San Sei oo ay : a a x Bn SLE aR RETR RR NE RR Na 3 Ah pr اتات 1RNR. niet - a i أ م ميت 3 مز ork ض الشكل ؟ا ا ل ا 1 اح م ما ا ا لجا ممت يات حك الما مه ارج دق اج ارج لأ جك مريت احا وا ا a A SE SER ania ل sins naa ا ل الا ا ل ONY ل ايان حا ل ل ا ا Ta adnan 3 I © مد ا ل ل 2 يي ل ا ا ل ا ل ل ا ER CoN Se ا RAR SURE SOR A ER لا لاد امخك رق كاج بر الم نو CERES CRE CRETE oR RE AE, A الدج Re Dl ا = = اتوم ل رع مدا Ba ا ا ال ا ل ا ا لاا HE EE OS NE SR RE He RO RR Coa NNR A Rs Nn i NN i ee ااا مي م ا ا 8 ل اي Ne Chie A Ng Ns ,= م ل لاي ام ام a Ce ا م ل ا ا ا ا ا ا لا ا a 0 ام ل ل a 0 a a SRE Ne $8 = SHEER RN OSE ل ل ل BE a A Ee AER BN ST hee SN EN Sofia ل ا ل SER ل Na ل ااا aaa ل A ا ا ل ل EE NR eer a a on La Loa rad Sy RRA AT ER Ae 5 x 8 8 0 اه Ere a Ee era SERIES EEE FEN RR oh) Cee a 8 RN Ra Ra a ay ل ل ا RONEN 0 NE Es EE Re SEEN NOR i ام ليا Sei SS: TNE aR ER ا 8 BERRA Su oh Se me =e 5 Cu م ا اا AEE ل : NE 1 محري مد لج اد Sale ا NORE Sis RR ا pe Co Re ا ل EEE RN ER aR ER N a a ا ا لاا Rk RRR nia Ra NINE SR ORE mE a, EEN SN 3 2 dee RE a et a A RR eh es SEs RE ER EI I 5 OU AOR EN SE 0 ER Rs a Sa NASER ta EA an : RS RRR AEN Th ER SE an ا RIES NR NR Ey 0 ا ا Tk a RRR ARNT = Rob ey 8 RE : EERE SEER RRR a 3 SRR Ne Ra NR RR Sens RRR NA SRE 0 Soa has SA SENSE 8 a 8 [i Ri SRR 3 Ra ا 0 A) الت وي املد احا ب تاي 8 5 A) LE ال RTE ل ا ا ا ا اا ل TS الا ا Naw RN SERRE R 5 SRR RRR ا a NR REARS NR AY NERS 8 aE ا ا ae ا ا ا ا ال ا ا SRE ا ل 3 AS 5 ER GE 3 خب ل DN i ON ا 5 لمك كوو يا م وح :7 a a RR an SS ا Ln Alaa A ET Te Nh Ll NN Re 3 3 0 ا دون رج راد مجو عدي اه ا 8 : A) x AR RA 2S 2 NI SE) Se SRE RE A a La on NE RE Co ee SRO a RR DEG BORE Bae Solve ا Re anal ا ا ES تا RONEN Sa RN SR EE EEE SRE RE8ٌ BY * LIE 'SER GE i CRC Ra FRAC re te anaes Sane Pe ل الات أ HE SEER ia ا i ا اا ل ا 0 ok Cina FASE EER a : Loe SA لط لا ER EE ae rN A Ra TRIN Seg ااا 0 حا و يي RN SG Lo 0 0 ا 5 ee See RRR 2 ra Luni SOEs pod TERR LEE EE RET Eh me RTE 0 ty RR = CR 0 ny SR) Sn ا 7 ا لا ا ل ا ZR Sh SN a ie he TE Sdn Ro Er RE Na Ag CRE AN a AR 0 ok nn Hse RR ST i . a CEN NEE 1 Ae Er Soe Feri haan RESET WI Sei EN AA CERNE oo EN . ae SORTER IR TRE Ne Aaa ie a Sn 0 0 0 re eit Nt ne ES SER ET Ts SR Mme CENT ا PERE rs rR 2 Cin A EE a SOND SERENE SS oo Co Cae Ee Caan BEE REE SNE Ne SNe EATER a NG SEIN Leia NA RR SEA SNE SRNR ; a ee a EAR م DEA She 8 I SE dni na REN NE AR Naa RR a3 See ا ا ا aan . Ea ERE SI EE Ea CE ert RAN RE TNE Selden Se SEONG RE AEN SEE DEON SAAR ae A ل FERRE SEAR aE 5 8 RNR 8 NEN TN SA SEE Co 2% ER BEER SN SERN hE ENE Rea Yo Me Et EN VE en oN ANE SEN: HON Na Was Sit nae RR ERE Nolen IRR ل RES Node 2 SEER 1 RNY A & Ey Ea RE SHER a 0 ا oo CE SRE SNe EO ORE ORE 2 ا 1 ا NEES SER EN RE Ri RE 58 REN 4 NIE NEE RN a A No ا ل ل 8 GENIN) Sa REA NE ai 5 4 Bo ON NEE aaa NEARER Ng NNR WHEN SRE Noy ee 8 ا A La AQ a 3 SERED SEE 1 0 ANS RR hanes REN TIENEN RE ERR ا 0 REE Re ا SNARE Sa ف ong RE aa 1 ا TN SOA ad ANE 5 Sines ETRE Re Sa SRR a a 1 Ne EN NE 0 اد اد اا a Rr SAT 1 EAN 1 SRN oN A خف ا EERE 2 0 Ee Sn a pe 3 ل 0 x Lae A Ls Na RENE oR 88 + SR Nee SR ENON ae ARE EN Na Ray SR RENE A Nein Sel SOE EOE SIRE ERNE TEER AER an NR Nd NER ER aE wi ا SE GEREN SH NAS 0 REA NER SRE GRE) ee Sh SN RR Ns NEN NR a ل SN NG ONE 8 aS Shae La TE SE 2 1 Sn x rr IN Se we a 1 اط rn 7, + i تيراي Sh) NE Sena Din ER ONE ae a a NER Das REE Se : Coa SUR ا Quite Lan BN Na SN Nee Ee LEER HE OREN Sa RONG SEER 5 الا NE EE CR 0 aa NER SAR ER ا 0 0 EE FE Sag Nh RAIN Zo RR SA IN Rg NRE None SEES Toa 8 اا ا ا RE Sonne San GR 3 ل NE DN rE a 1 ا اد SE a OL 2 NANG ake ERR اا So i RCS ia A GT 1 a 5 RR NNN 0 اح ا a 0 NE ENE Soren 3 NE Et NRA ENG Xa SOS SNA oa SEE SE Saas 3% a ا SN FON NER GORE ENE Re 8 ا ل SRR Ss N ae a ا aa SNE 1 Ee he us EEE oN nS AY IY SR 0 0 اج 2 Se &i REN Gamage aE EAE Re ER 0 Te Ne SRR EN ut 8 8 Se ENE Gn Ns REN el CEES EER ON SE INE SANE 8 ZN SIAN 1 ل NE NRG Nae BS BE SEA Seay NE RO a WERNER NEA ENG he ا a NaN bs Na NR TEE SEN SNE 85 ا ل ا 0 ل RA RNC : SEEN NRE Nas See SE on CSTR IN > 1 Se AN Ca x RE EE TN een Lana Ne EN BR: SRE SER 1# ا rae FUERA ON Ra SANE NIRA Na EE SENAY le . 5 TEETER OR EE CEN SE SEN EN SE SE Le 2 x ARE RNR SEN ERE SRE . Su a Ca CAG ... Ge aE i CHAR CAR REN NERY RENN 8 ل : ا 3 0 ا : ب ا ا : 0 Noa 8 ا ا 0 ا ا Conan RCD aR AR 8 مسج ااا x WEE SERRE DONEC oa ا ل 0 ا ل ا OR = SHEE SERA a EAS RI 1 Seas HU LO . Som Ln na Si EE SE SR si See Na LL ا 0 -- ا سس Oa 3 Lara a au ol . . Lo 0 ل iat امسن لحا NRE En RR RR ERE ا ا 0 ARR Ae ل ا ل WER SR No Ee ERE ATR Raa ANNES aE NN 80 nj RN aa aan BH NONE الل NR RENNER اا ا .ٍِ م ب« 1 : . بجوي دجحجو روج تيه ٍ AI x; we A و م م I RENE 3 2 RN : : LO AN SL احا 8 ny Hae NN SX ل ل ا ل EL ROR ا ا + ER A A RRA RE ke 0 SHRI RR a 8 A NS 8 3 8 8 ان ا il SR CE A ON I 3 3 8 X RN OR a RRR MRR x RRR Soares EE Te 3 88 RR 8 ل na OR ei Sara Daa Ak a 8 SRY N 3 NN 8 RN BN Ey ERE Th NK TRE ا ال ا ا Ey SER = 3 x Ns ل Ra 3 3X : 8 0 ل EOIN EEE XN RN SE BD 9 AN ل ل ل ER Re ا ل 3 RN a 8 ا ل و وح حو ا ا ا TE AN ONE SIR Re eh i Se ا ARM حت لمحو وي ا ل ا ل ل dA Rl a me 0 ل SEER RR EN ES Sate 3 SESE NER SE ل ا ا : ES ES SN ل ) : ل ا 2 ال 5 2 ا ا أ ا اا ا ا ER ا RE a RRR NN NF Si 0 ل ROR 0 ا ل ا ا ال ا SG eR GR rR Se SEES ا ah TR SE ل a A Te BH Se Te SN NR OC RC SCE I Sn Ee ae fo SRS اول جا او ا A ToT eT Ln ا الج مي دمت ا ع يع حو حول رج ا وتوت لزي eh figs اج ا حي اول .ار ببح لح ل ا ل ARE ل يديسو البو ع ل لتلا ل ماسر ل ne RR: See ل ا ا a ا ل ل ل ا ل 8 SHEER Ee I a a INN SR ا ER Ph Ty CE A FEE nN يناجا ها الات لم ا ل تا ل الا ا ا dg ا ا ل EL I CS SE DE I ل hn NN BE ا ا ف ا ل ل I ل ال ل ل ا اد ال ا اا ا لح ل ل ل لي لي تا ب ا ا ا 2m ty ا I SR OE GR ا ا ا RT NO ل RR ا ا ا ل ET Ran AN CDE ا جح يا جح ee ا ل للا ال اه ا ل ا اا ا لم ل الات وي لح لجر ل ا اح IE LL sO Sa 0 i 1 لا ا RL he لسريو مك فا اج يا كير ل ا ا ا =r v1 se a a EEE ST ENR «7 RN se ل A ل EE a ا aaa Sess a EY ARNE SEER ا ل ل ل ل LON RR 2 ان لات تمه ل الك الع ا م ل ا ا ا ا ال ل eT ا ا Se 1 ل . LE RR a Rn Ce Cn AS RAS OR, 0000 : ل ل ا ل ا ال ل ل ا a : ل ل ا nl Ries. ل ل ل ال ا ا ا RR SS ل ل Ee ay EN RU Eh) ا ا KA لح OF دجي جين جح ا ا a eal RS da aN A at RIE RS RAE RO IBS, fo SR iby ER ES a ا ل RS NR ne EN ل RE a ل RR RR a RS ا ل eS Ne Sa RE EARNS RO a Sa ER a ee CN CR ل ا RR ا ا ات ا ا ل Rn 0 ل ل ea ae ا ا ل ل ا SE ARE SER SER NR د ل ل RN ROAR OI RE a OE XC RR Rae DOOR ERT BE Ny WEEE Rae لجح جم وا د وح د ل BE 5 EE 0 يي ا ل ا و ميدي الما ا م لت ا eR ا تح ا ا o i Dahl: Si a i eo . 2 3 RN 8 a 5 03 a 8 RR es A 0 a . a Na LL CL AR 8 hint RR at NG 3 SRR NX nN he 0 0 a SERRA Re Na x 0 0 ا اا a vw oN Ea i Soha aa a 0 , 0 3 المي ٍ 0 CEE Na 0 0" ااال اا« ادع fg PR a > Naas NE a TR a SR No RR aE RRR BREN ae SNR ; RN RR Na 3 La HR NN 0 بس ِ ااا اا ا RN a ae : ا 0 ااا اا SEER 2 a Ole ND a Ta ea 5 Fak Eh Bo ER i a BO Na > . LE fe: a SE La A RE Tas prepa A RR a 8 be TI Sl SE AR 3 ae 5 اي 1 id oR RS 2 Na 2 BW Rn Re See SIRE - . 0 PRA SHOE aw, > AA a Sn Lr Xie 0 SE Behl opt NAT Bae Eo ne HOD 5 I SH AR a : gui .- اا ; SEE ROAR RE AEE a Sa a Lo er اا RR RR NR Pha, “NN an . SR aR . NN LL Soa) nk a . Rs Ro RR haa LL REE - Go a SERN a LL a EL 0 A . \ الل ا ل ل BR a RR a 0 العف ITN Me م ل a ri HR SY aR a ee rg Sas RRR ga RRR PE TEA aan SN a Mine Do SE Rh AR a 0 Sr Eas aR ORR 8 Rae ne 88 a Na RX 0 ا ا مت 8 an RR RE a Ea x he ل a 8 NER C0 : So nn ا Soa 2 ا بن i ض The Raa Sai اد الوا nan FE Ch NN = Ep FoR a EE Lh RRR SRN LL Sa Fn Gl wh SE NY La Se Tk CLT 5 i RR Ti 7 SE La SE Ne ps EXC SIE 8 |e ve Te AREER CL ض =الحاضهة الهيلة السعودية الملضية الفكرية Swed Authority for intallentual Property pW RE .¥ + \ ا 0 § ام 5 + < Ne ge ”بن اج > عي كي الج دا لي ايام TEE ببح ةا Nase eg + Ed - 2 - 3 .++ .* وذلك بشرط تسديد المقابل المالي السنوي للبراءة وعدم بطلانها of سقوطها لمخالفتها ع لأي من أحكام نظام براءات الاختراع والتصميمات التخطيطية للدارات المتكاملة والأصناف ع النباتية والنماذج الصناعية أو لائحته التنفيذية. »> صادرة عن + ب ب ٠. ب الهيئة السعودية للملكية الفكرية > > > ”+ ص ب 101١ .| لريا 1*١ uo ؛ المملكة | لعربية | لسعودية SAIP@SAIP.GOV.SA
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN201710264732.5A CN108726494B (zh) | 2017-04-20 | 2017-04-20 | 磷酸生产和处理设备中的垢控制 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| SA519410302B1 true SA519410302B1 (ar) | 2022-12-05 |
Family
ID=62117018
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| SA519410302A SA519410302B1 (ar) | 2017-04-20 | 2019-10-15 | التحكم في القشور في محطات إنتاج ومعالجة حمض فسفوريك |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
| US (2) | US10584049B2 (ar) |
| CN (1) | CN108726494B (ar) |
| MA (1) | MA47052B1 (ar) |
| RU (1) | RU2765778C2 (ar) |
| SA (1) | SA519410302B1 (ar) |
| WO (1) | WO2018195288A1 (ar) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN108726494B (zh) * | 2017-04-20 | 2023-05-02 | 艺康美国股份有限公司 | 磷酸生产和处理设备中的垢控制 |
| WO2022020313A1 (en) * | 2020-07-22 | 2022-01-27 | Heritage Research Group | Processes and methods for removing polyphosphoric acid-containing salts and solids |
Family Cites Families (17)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4196172A (en) * | 1976-07-07 | 1980-04-01 | Occidental Petroleum Corporation | Hemihydrate type phosphoric acid process |
| US5338477A (en) * | 1991-05-31 | 1994-08-16 | Calgon Corporation | Polyether polyamino methylene phosphonates for high pH scale control |
| EP0516382B1 (en) * | 1991-05-31 | 1997-02-26 | Calgon Corporation | Polyether polyamino methylene phosphonates for high pH scale control |
| US5454954A (en) * | 1993-09-21 | 1995-10-03 | Calgon Corporation | Scale control in metal mining circuits using polyether polyamino methylene phosphonates |
| US5534157A (en) * | 1994-11-10 | 1996-07-09 | Calgon Corporation | Polyether polyamino methylene phosphonates for high pH scale control |
| JP4043551B2 (ja) | 1997-05-23 | 2008-02-06 | 栗田工業株式会社 | スケール防止剤及びスケール防止方法 |
| CN100431985C (zh) * | 2005-08-31 | 2008-11-12 | 刘天暘 | 湿法磷酸生产用阻垢剂 |
| CN101172718B (zh) * | 2006-10-31 | 2010-05-12 | 中国石油化工股份有限公司 | 一种阻垢剂及其在水处理中的应用 |
| CN101774558B (zh) * | 2009-12-25 | 2011-10-19 | 中国海洋石油总公司 | 提高浓缩磷酸产量的方法 |
| CN102241441B (zh) * | 2010-05-14 | 2015-12-02 | 纳尔科公司 | 包含aa-amps共聚物和pma的组合物及其用途 |
| US9221700B2 (en) * | 2010-12-22 | 2015-12-29 | Ecolab Usa Inc. | Method for inhibiting the formation and deposition of silica scale in aqueous systems |
| US8900539B2 (en) * | 2011-03-22 | 2014-12-02 | Cytec Technology Corp. | Preventing or reducing scale in wet-process phosphoric acid production |
| US9567507B2 (en) * | 2012-09-07 | 2017-02-14 | Prestone Products Corporation | Heat transfer fluids and corrosion inhibitor formulations for use thereof |
| CN203307051U (zh) * | 2013-07-22 | 2013-11-27 | 湖北宜化松滋肥业有限公司 | 磷酸浓缩系统 |
| BR112016019054A8 (pt) * | 2014-03-06 | 2019-12-10 | Solenis Technologies Cayman Lp | método para o controle, a prevenção e/ou a inibição da formação de incrustações e/ou depósitos em um sistema aquoso e composição |
| CN204550064U (zh) * | 2015-04-23 | 2015-08-12 | 武汉宜田科技发展有限公司 | 一种磷酸浓缩设备 |
| CN108726494B (zh) * | 2017-04-20 | 2023-05-02 | 艺康美国股份有限公司 | 磷酸生产和处理设备中的垢控制 |
-
2017
- 2017-04-20 CN CN201710264732.5A patent/CN108726494B/zh active Active
-
2018
- 2018-04-19 US US15/957,339 patent/US10584049B2/en active Active
- 2018-04-19 MA MA47052A patent/MA47052B1/fr unknown
- 2018-04-19 RU RU2019137021A patent/RU2765778C2/ru active
- 2018-04-19 WO PCT/US2018/028320 patent/WO2018195288A1/en active Application Filing
-
2019
- 2019-10-15 SA SA519410302A patent/SA519410302B1/ar unknown
-
2020
- 2020-02-14 US US16/791,300 patent/US11027998B2/en active Active
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| RU2019137021A (ru) | 2021-05-20 |
| RU2019137021A3 (ar) | 2021-08-05 |
| US11027998B2 (en) | 2021-06-08 |
| US10584049B2 (en) | 2020-03-10 |
| MA47052A1 (fr) | 2019-12-31 |
| CN108726494A (zh) | 2018-11-02 |
| US20200180987A1 (en) | 2020-06-11 |
| CN108726494B (zh) | 2023-05-02 |
| WO2018195288A1 (en) | 2018-10-25 |
| US20180305234A1 (en) | 2018-10-25 |
| MA47052B1 (fr) | 2020-10-28 |
| RU2765778C2 (ru) | 2022-02-02 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| SA519410302B1 (ar) | التحكم في القشور في محطات إنتاج ومعالجة حمض فسفوريك | |
| EP2697171B1 (en) | Method of dissolving and/or inhibiting the deposition of scale on a surface of a system | |
| CN1876204B (zh) | 磷石膏无害化处理的方法 | |
| JP6474059B2 (ja) | 地盤固化方法 | |
| Zhang et al. | Physical and chemical crusting processes affecting runoff and erosion in furrows | |
| CN105197905B (zh) | 萃取磷矿联产饲料级磷酸二氢钙及工业级磷铵的生产方法 | |
| CN106573812B (zh) | 阻垢剂、使用其的阻垢设备及阻垢系统 | |
| EP2480495B1 (en) | Process and reagents for the inhibition or reduction of scale formation during phosphoric acid production | |
| CN101549346A (zh) | 湿法磷酸净化萃取装置除垢的方法 | |
| KR20190141151A (ko) | 다결정 실리콘 파쇄물의 제조 방법 및 다결정 실리콘 파쇄물의 표면 금속 농도를 관리하는 방법 | |
| Li et al. | Chemical control of struvite scale by a green inhibitor polyaspartic acid | |
| Bolan et al. | Preparation, forms and properties of controlled-release phosphate fertilizers | |
| CN103721857B (zh) | 一种硅锌矿物捕收剂的制备方法 | |
| CN108130095A (zh) | 成本低效果好的盐碱地土壤化学改良剂及其使用方法 | |
| CN102417243A (zh) | 生产废水制中水回用于循环冷却水的缓蚀阻垢剂 | |
| Banach et al. | A chemical method of the production of" heavy" sodium tripolyphosphate with the high content of Form I or Form II | |
| JP5934706B2 (ja) | 焼却灰からのリン抽出方法 | |
| WO2015116564A1 (en) | Method and composition for reducing silica based evaporator scaling | |
| Zhantasov et al. | THE STUDY OF PHYSICO-CHEMICAL PROPERTIES OF THE WASTE PHOSPHORUS PRODUCTION TO OBTAIN GLYPHOSATE | |
| Theys | Influence of the rock impurities on the phosphoric acid process, products and some downstream uses | |
| KR20200040266A (ko) | 산을 사용한 포스페이트 공급원의 에칭 방법 | |
| CN114736061B (zh) | 一种使用磷矿尾矿生产复合肥的方法 | |
| Jordaan | Development of an aerated struvite crystallization reactor for phosphorus removal and recovery from swine manure | |
| Militaru et al. | Glass Fertilizers Obtained Using Sewage Sludge Ash Wastes | |
| Rackemann et al. | Review of current practices in evaporator cleaning |