RU99101033A - Стабилизированные и управляемые источники электронов, матричные системы управляемых источников электронов и устройства на их основе - Google Patents

Стабилизированные и управляемые источники электронов, матричные системы управляемых источников электронов и устройства на их основе

Info

Publication number
RU99101033A
RU99101033A RU99101033/09A RU99101033A RU99101033A RU 99101033 A RU99101033 A RU 99101033A RU 99101033/09 A RU99101033/09 A RU 99101033/09A RU 99101033 A RU99101033 A RU 99101033A RU 99101033 A RU99101033 A RU 99101033A
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
electron source
field emitter
source according
paragraphs
controlled
Prior art date
Application number
RU99101033/09A
Other languages
English (en)
Inventor
Евгений Инвиевич Гиваргизов
Михаил Евгеньевич Гиваргизов
Original Assignee
Общество с ограниченной ответственностью "Научно-производственное предприятие Кристаллы и Технологии"
Filing date
Publication date
Application filed by Общество с ограниченной ответственностью "Научно-производственное предприятие Кристаллы и Технологии" filed Critical Общество с ограниченной ответственностью "Научно-производственное предприятие Кристаллы и Технологии"
Priority to AU41749/99A priority Critical patent/AU4174999A/en
Priority to PCT/RU1999/000149 priority patent/WO1999057743A1/en
Priority to RU2001134902/28A priority patent/RU2273073C2/ru
Priority to EP99925484A priority patent/EP1141989A1/en
Priority to CNB998056162A priority patent/CN1279562C/zh
Priority to US09/674,415 priority patent/US6861791B1/en
Publication of RU99101033A publication Critical patent/RU99101033A/ru

Links

Claims (51)

1. Источник электронов, включающий полевой эмиттер, подложку, источник носителей заряда, по крайней мере одно балластное сопротивление, отличающийся тем, что по крайней мере одно балластное сопротивление выполнено в виде барьера, представляющего собой границу в теле эмиттера, образованную контактом материалов с разной проводимостью.
2. Источник электронов по п.1, отличающийся тем, что по крайней мере один барьер представляет собой один из переходов, образованных границей между материалами с различной проводимостью типа n, n+, р, р+.
3. Источник электронов по любому из пп.1 и 2, отличающийся тем, что по крайней мере один барьер образован слоем изолятора, поперечного направлению движения носителей заряда.
4. Источник электронов по любому из пп.1-3, отличающийся тем, что полевой эмиттер является выращенным эпитаксиально с подложкой.
5. Источник электронов по любому из пп.1-4, отличающийся тем, что полевым эмиттером является острие.
6. Источник электронов по любому из пп.1-4, отличающийся тем, что полевым эмиттером является лезвие.
7. Источник электронов по любому из пп.1-6, отличающийся тем, что полевой эмиттер состоит из двух взаимнокоаксиальных частей, широкой нижней и более узкой верхней частей.
8. Источник электронов по любому из пп.1-7, отличающийся тем, что полевой эмиттер выполнен из нитевидного кристалла кремния.
9. Источник электронов по любому из пп.1-8, отличающийся тем, что вершина полевого эмиттера заострена и покрыта алмазом или алмазоподобным материалом.
10. Источник электронов по п.9, отличающийся тем, что алмазное или алмазоподобное покрытие полевого эмиттера заострено.
11. Источник электронов по любому из пп.1-10, отличающийся тем, что источник носителей заряда соединен с полевым эмиттером через подложку и/или проводящий слой, расположенный на поверхности полевого эмиттера непосредственно или через слой изолятора.
12. Источник электронов, включающий полевой эмиттер, подложку, источник носителей заряда, по крайней мере одно балластное сопротивление, отличающийся тем, что по крайней мере одно балластное сопротивление выполнено в виде барьера, представляющего собой границу между телом полевого эмиттера и проводящим слоем, расположенньм на поверхности полевого эмиттера.
13. Источник электронов по п.13, отличающийся тем, что полевой эмиттер выполнен из полупроводникового материала.
14. Источник электронов по любому из п.13 или 14, отличающийся тем, что слой, расположенный на поверхности полевого эмиттера выполнен из полупроводникового материала.
15. Источник электронов по любому из пп.13-15, отличающийся тем, что полевой эмиттер является выращенным эпитаксиально с подложкой.
16. Источник электронов по любому из пп.13-16, отличающийся тем, что полевым эмиттером является острие.
17. Источник электронов по любому из пп.13-17, отличающийся тем, что полевым эмиттером является лезвие.
18. Источник электронов по любому из пп.13-18, отличающийся тем, что полевой эмиттер состоит из двух взаимнокоаксиальных частей, широкой нижней и более узкой верхней частей.
19. Источник электронов по любому из пп.13-19, отличающийся тем, что полевой эмиттер выполнен из нитевидного кристалла кремния.
20. Источник электронов по любому из пп.13-20, отличающийся тем, что вершина полевого эмиттера заострена и покрыта алмазом или алмазоподобным материалом.
21. Источник электронов по п.21, отличающийся тем, что алмазное или алмазоподобное покрытие полевого эмиттера заострено.
22. Источник электронов по любому из пп.13-22, отличающийся тем, что источник носителей заряда соединен с полевым эмиттером через подложку и/или проводящий слой, расположенный на поверхности полевого эмиттера непосредственно или через слой изолятора.
23. Источник электронов по пп.13-23, отличающийся тем, что по крайней мере один барьер представляет собой один из переходов, образованных границей между материалами с различной проводимостью типа n, n+, р, р+.
24. Источник электронов по любому из пп.13-24, отличающийся тем, что по крайней мере один барьер образован слоем изолятора, поперечного направлению движения носителей заряда.
25. Источник электронов, включающий полевой эмиттер, подложку, источник носителей заряда, по крайней мере одно балластное сопротивление, отличающийся тем, что подложка имеет форму острия и выполнена из изоляционного материала и покрыта проводящим слоем, толщина которого обеспечивает балластное сопротивление.
26. Источник электронов по п.27, отличающийся тем, что проводящий слой имеет по крайней мере один барьер для носителей заряда.
27. Источник электронов по п.28, отличающийся тем, что барьер представляет собой по крайней мере один из переходов, образованных границей между материалами с различной проводимостью типа n, n+, р, р+.
28. Источник электронов по любому из пп.27, 28, отличающийся тем, что барьер образован по крайней мере одним слоем изолятора, поперечного направлению движения носителей заряда.
29. Управляемый источник электронов, включающий полевой эмиттер, подложку, источник носителей заряда, по крайней мере одно балластное сопротивление, по крайней мере один управляющий электрод, отличающееся тем, что он содержит источник электронов, выполненный по пп.1-28.
30. Управляемый источник электронов по п.29, отличающийся тем, что он содержит по крайней мере одну активную область в теле и/или на поверхности полевого эмиттера.
31. Управляемый источник электронов по любому из пп.29 и 30, отличающийся тем, что он содержит по крайней мере одну активную область в проводящем слое, расположенном на поверхности подложки и/или полевого эмиттера непосредственно или через слой изолятора.
32. Управляемый источник электронов по любому из пп.29-31, отличающийся тем, что по крайней мере один управляющий электрод находится вблизи одного из барьеров для носителей заряда.
33. Управляемый источник электронов по любому из пп.29-32, отличающийся тем, что по крайней мере один управляющий электрод расположен на боковой поверхности полевого эмиттера через изолирующий слой.
34. Управляемый источник электронов по любому из пп.29-33, отличающийся тем, что он содержит по крайней мере один управляющий электрод, который отделен от полевого эмиттера вакуумным зазором.
35. Управляемый источник электронов по любому из пп.29-34, отличающийся тем, что по крайней мере один управляющий электрод расположен вдоль полевого эмиттера.
36. Управляемый источник электронов по любому из пп.29-35, отличающийся тем, что управляющий электрод имеет непосредственный контакт с боковой поверхностью полевого эмиттера.
37. Управляемый источник электронов по любому из пп.29-36, отличающийся тем, что для источника электронов, выполненного по пп.1-24, подложка является кристаллической.
38. Управляемый источник электронов по любому из пп.29-37, отличающийся тем, что для источника электронов, выполненного по пп.1-24, подложка образована слоем изолятора и расположенным на нем слоем проводящего материала.
39. Управляемый источник электронов по любому из пп.37 и 38, отличающийся тем, что проводящий слой подложки выполнен из монокристаллического кремния, ориентированного по кристаллографической плоскости (111).
40. Управляемый источник электронов по любому из пп.29-39, отличающийся тем, что на его поверхности расположен слой материала, прозрачный для электронов, предотвращающий выход химических элементов с поверхности управляемого источника электронов.
41. Управляемый источник электронов по п.40, отличающийся тем, что в качестве указанного материала использован алмаз или алмазоподобное вещество.
42. Матричная система управляемых источников электронов, содержащая по крайней мере два управляемых источника электронов, отличающаяся тем, что по крайней мере один из управляемых источников электронов выполнен по любому из пп.29-41.
43. Матричная система управляемых источников электронов по п.42, отличающаяся тем, что она содержит двумерную систему из взаимноперпендикулярных рядов управляемых источников электронов.
44. Матричная система управляемых источников электронов по любому из пп. 42, 43, отличающаяся тем, что в управляемых источниках электронов по крайней мере один управляющий электрод имеет вид диафрагмы, которая выполнена из проводящего алмаза или алмазоподобного материала.
45. Матричная система управляемых источников электронов по любому из пп. 42-44, отличающаяся тем, что подложка представляет собой ряды проводящего материала, расположенного на изоляторе.
46. Матричная система управляемых источников электронов по любому из пп. 42-45, отличающаяся тем, что управляемые источники электронов снабжены проводящими шинами, которые в каждой из систем рядов управляемых источников электронов взаимно параллельны и перпендикулярны шинам другой системы рядов управляемых источников электронов, причем шины разных систем рядов управляемых источников электронов расположены на разных уровнях и разделены изолятором.
47. Устройство для оптического отображения информации, содержащее матричную систему управляемых источников электронов и анод, включающий стеклянную подложку, слой люминофора, и проводящий прозрачный слой, отличающееся тем, что матричная система управляемых источников электронов выполнена по любому из пп.42-46.
48. Устройство для оптического отображения информации по п.47, отличающееся тем, что проводящий прозрачный слой представляет собой совокупность параллельных полосок, перпендикулярную по крайней мере одной из систем рядов управляющих электродов источников электронов.
49. Устройство для оптического отображения информации по любому из пп.47 и 48, отличающееся тем, что анод покрыт слоем защитного материала, прозрачного для электронов и предотвращающего выход химических элементов распада материалов анода в пространство между матричной системой источников электронов и анодом.
50. Устройство для оптического отображения информации по п.49, отличающееся тем, что в качестве защитного материала использован алмаз или алмазоподобный материал.
51. Устройство для оптического отображения информации по любому из пп. 49, 50, отличающееся тем, что в качестве защитного материала использован проводящий слой.
RU99101033/09A 1998-04-30 1999-01-18 Стабилизированные и управляемые источники электронов, матричные системы управляемых источников электронов и устройства на их основе RU99101033A (ru)

Priority Applications (6)

Application Number Priority Date Filing Date Title
AU41749/99A AU4174999A (en) 1998-04-30 1999-04-30 Stabilized and controlled electron sources, matrix systems of the electron sources, and method for production thereof
PCT/RU1999/000149 WO1999057743A1 (en) 1998-04-30 1999-04-30 Stabilized and controlled electron sources, matrix systems of the electron sources, and method for production thereof
RU2001134902/28A RU2273073C2 (ru) 1998-04-30 1999-04-30 Стабилизированные и управляемые источники электронов, матричные системы источников электронов и способ их изготовления
EP99925484A EP1141989A1 (en) 1998-04-30 1999-04-30 Stabilized and controlled electron sources, matrix systems of the electron sources, and method for production thereof
CNB998056162A CN1279562C (zh) 1998-04-30 1999-04-30 稳定和受控的电子源,电子源的矩阵系统以及它们的生产的方法
US09/674,415 US6861791B1 (en) 1998-04-30 1999-04-30 Stabilized and controlled electron sources, matrix systems of the electron sources, and method for production thereof

Publications (1)

Publication Number Publication Date
RU99101033A true RU99101033A (ru) 2001-07-10

Family

ID=

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US10032973B1 (en) Magnetically guided chiplet displacement
KR101636915B1 (ko) 그래핀 또는 탄소나노튜브를 이용한 반도체 화합물 구조체 및 그 제조방법과, 반도체 화합물 구조체를 포함하는 반도체 소자
JPH077154A (ja) パワーmosfet
US2938136A (en) Electroluminescent lamp
JP4743933B2 (ja) 電子放出装置及びその製造方法
WO1993001610A1 (en) Semiconductor metal composite field emission cathodes
RU99101033A (ru) Стабилизированные и управляемые источники электронов, матричные системы управляемых источников электронов и устройства на их основе
JP2782587B2 (ja) 冷電子放出素子
KR920015621A (ko) 진공 마이크로일렉트로닉 탄도식 트랜지스터 및 그 제조방법
CN1279562C (zh) 稳定和受控的电子源,电子源的矩阵系统以及它们的生产的方法
US3667004A (en) Electroluminescent semiconductor display apparatus
RU2001134902A (ru) Стабилизированные и управляемые источники электронов, матричные системы источников электронов, и способ их изготовления
JPH05283741A (ja) 半導体装置及びその製造方法
JPS59132382A (ja) 多チヤンネル形放射線検出器
KR100485128B1 (ko) 전계 방출 소자 및 전계 방출 소자의 제조 방법
JP2665752B2 (ja) 電界効果トランジスタ及びその製造方法並びに半導体デバイスの製造方法
US4158849A (en) Heterojunction semiconductor device
Sazio et al. Fabrication of in situ Ohmic contacts patterned in three dimensions using a focused ion beam during molecular beam epitaxial growth
US20010011972A1 (en) Junction-based field emission structure for field emission display
JP2637953B2 (ja) 半導体受光素子
RU98121491A (ru) Полевой эмиссионный катод и способ его изготовления
RU126512U1 (ru) ФОТОРЕЗИСТОР НА ОСНОВЕ CdHgTe
KR20040056090A (ko) GaN 나노막대를 이용한 전계방출형 디스플레이
JPH11191360A (ja) 薄膜冷陰極
KR20000073814A (ko) 다결정 실리콘의 박막 태양 전지