Claims (1)
Изобретение относится к технике обработки поверхностей непроводящих и плохо проводящих материалов, например конструкционной керамики, кварца, ситала, полупроводниковых материалов, полупроводящего стекла и т.п., и может найти применение в машиностроении, электронной технике и др. Технический результат - расширение функциональных возможностей при одновременом увеличении точности и качества производных разрезов поверхности, изменений ее шероховатости и легирования поверхностного слоя достигается тем, что на обрабатываемую деталь направляют поток оптического излучения. Деталь помещена в рабочую прозрачную для оптического излучения жидкость. Пучок излучения собирают линзой в фокус на границе раздела прозначной жидкости и поверхности обрабатываемой детали, помещенной в сосуд, который может быть соединен через вентили с насосом для прокачки жидкости, которая в свою очередь может быть химически активной в случае полировки или легирования поверхности детали. Пучок излучения нагревает деталь, а от нее и жидкость, доводя ее до кипения и возникновения пузырьков пара в фокусе пучка. Величина пузырька зависит от интенсивности излучения, длительности и интервала облучения. В паузах между импульсами облучения детали пузырьки пара схлопываются, воздействуя на материал. Многократный коллапс создает эрозионную лунку, обработку ведут до получения необходимой геометрии разреза детали, или в случае полировки - до получения необходимого качества поверхности.The invention relates to the technology of surface treatment of non-conductive and poorly conductive materials, such as structural ceramics, quartz, sitala, semiconductor materials, semiconducting glass, etc., and can be used in mechanical engineering, electronic equipment, etc. The technical result is enhanced functionality with at the same time increasing the accuracy and quality of derived surface cuts, changes in its roughness and doping of the surface layer is achieved by the fact that vlyayut flow of optical radiation. The part is placed in a working fluid that is transparent to optical radiation. A beam of radiation is collected by a lens into focus at the interface between the transparent liquid and the surface of the workpiece, placed in a vessel that can be connected through valves to a pump for pumping liquid, which in turn can be chemically active in the case of polishing or doping the surface of the part. The beam of radiation heats the part, and from it the liquid, bringing it to the boil and the occurrence of vapor bubbles in the beam focus. The size of the bubble depends on the intensity of the radiation, the duration and the irradiation interval. In the pauses between irradiation pulses of the part, vapor bubbles collapse, affecting the material. Repeated collapse creates an erosion hole, processing is carried out to obtain the required geometry of the section of the part, or in the case of polishing - to obtain the required surface quality.