RU74490U1 - Установка для получения термостойкого фоторезиста - Google Patents
Установка для получения термостойкого фоторезиста Download PDFInfo
- Publication number
- RU74490U1 RU74490U1 RU2008107057/22U RU2008107057U RU74490U1 RU 74490 U1 RU74490 U1 RU 74490U1 RU 2008107057/22 U RU2008107057/22 U RU 2008107057/22U RU 2008107057 U RU2008107057 U RU 2008107057U RU 74490 U1 RU74490 U1 RU 74490U1
- Authority
- RU
- Russia
- Prior art keywords
- components
- containers
- installation
- heat
- chamber
- Prior art date
Links
Landscapes
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
Abstract
Предложение относится к процессам получения термостойких фоторезистов, предназначенных для защитного покрытия и межслойной изоляции в электронных приборах. Установка содержит аппарат 1, рабочую реакционную камеру 2, емкости с исходными компонентами (3...9), систему обеспечения процесса в виде регуляторов: давления, температуры, плотности массы; приборы контроля и анализа получаемого фоторезиста. С камерой 2 функционально соединена дополнительная реакционная камера 14 для приготовления добавок к композиционной системе и получения заданного рецептурного состава фоторезиста по регламенту его получения. Процесс сопровождается подачей инертного газа, регулированием давлений и температур в полостях обеих рабочих камер 2 и 14, контролем аппаратурой 13 и 18 приборного обеспечения установки. Емкости, заполненные исходными компонентами, включают, в качестве этих компонентов, активные ингредиенты и наполнители для полимеризации и поликонденсации композиционной системы и получаемого термостойкого фоторезиста. Ил. - 1. Форм. - 3 п.ф.
Description
Предложение относится к процессам получения термостойких фоторезистов, предназначенных для образования защитных покрытий и для межслойной изоляции в электронных приборах и элементах.
В настоящее время известны установки для данного технического процесса, из которых наиболее представительными можно считать установку для получения термостойкого фоторезиста, содержащую аппарат для проведения полимеризации (исходных компонентов), рабочую реакционную камеру, контейнеры с исходными компонентами, дозаторы масс компонентов и бункер-накопитель получаемой композиционной системы (готового продукта), /SU 1828291, G03F 7/00, 1989; RU МП №67979, С01В 31/02, 23.08.2007./.
Существенными и очевидными недостатками известной установки является несовершенство и несоответствие принципиальной конструктивной технической схемы устройства, не отвечающего современным требованиям технологии получения термостойкого фоторезиста, что отражается на понижении качества получаемого продукта (термостойкого фоторезиста) и на уменьшении его полезных свойств и эффекта.
Технической задачей и положительным технологическим результатом предлагаемой установки является совершенствование конструкции установки, а также возможность получения, за счет более совершенной конструкции, продукта, обладающего свойством формировать высоко разрешенный микрорельеф на смешанных субстратах: металлоорганике, кремнийсодержащих, что позволяет создавать высококачественное покрытие в многоуровневых микроэлементах и их системах.
Это в предложении заявителя достигается за счет технического решения установки для получения термостойкого фоторезиста, содержащей в своей конструкции аппарат для проведения полимеризации, рабочую реакционную камеру, контейнеры с исходными компонентами, дозаторы масс компонентов и накопитель (бункер-накопитель) получаемой
композиционной системы, при этом установка снабжена дополнительной рабочей камерой, имеющей дополнительные контейнеры с компонентами для поликонденсации и полимеризации, эта дополнительная камера сообщена с рабочей реакционной камерой посредством дозатора массы компонентов, причем обе указанные камеры оснащены термозащитной рубашкой (каждая - отдельно), соединены с источником инертного газа и имеют на выходных патрубках прибор экспресс-анализа смеси компонентов и получаемого продукта.
В этой установке контейнеры с исходными компонентами заполнены отдельно компонентами, соответственно: дихлоридом изофталевой кислоты, дигидрокси-диаминодифенилметаном, амидным растворителем, о-аминофенолом, эпихлоргидрином, бис-нафтохинондиазидосульфоэфир-(гидроксифенил)пропаном, а дополнительные контейнеры заполнены: один - дигидрокси-диаминодифенилметаном, второй - бис-(3-аминопропил)диметилсилоксаном.
На чертеже приведен общий вид установки и компоновочная схема агрегатов и узлов ее конструкции. Установка содержит аппарат I для проведения полимеризации (реакционной системы), рабочую реакционную камеру 2, контейнеры: 3, 4, 5, 6 и 7, заполненные исходными компонентами (далее приводятся), контейнеры 8 и 9. Рабочие камеры и контейнеры оснащены дозаторами масс компонентов - 10 и 11.
Установка имеет контейнер-накопитель 12, прибор экспресс-анализа композиционной системы - 13, в качестве которого используют жидкостный хроматограф с электрохимическим детектором.
Установка снабжена дополнительной рабочей камерой 14, имеющей дополнительные контейнеры 15 и 16, заполненные исходными компонентами, эта дополнительная камера своим выходным патрубком 17 сообщена с рабочей камерой 2 и имеет на выходном патрубке аналогичный (прибору 13) прибор 18 экспресс анализа. Обе указанные камеры оснащены термозащитными рубашками 19 и 20, в полости которых подают теплоноситель (жидкость, газ, парогазовую фазу и т.п.). Обе рабочие камеры соединены с источником инертного газа (баллоном) 21 и 22 и оснащены емкостями 23 и 24, наполненными водой для возможности
визуального контроля нахождения инертного газа в рабочих камерах 2 и 14 (по выходу пузырьков газа из емкостей 23 и 24).
Работа установки осуществляется следующим образом. Производят наполнение контейнеров, соответственно: 3 - дихлоридом изофталевой кислоты, 4 - дигидрокси-диаминодифенилметаном, 5 - амидным растворителем, 6 - 0-аминофенолом, 7 - эпихлоргидрином; контейнер 9 наполняют (обе его части) бис-нафтохинондиазидосульфоэфир-(гидроксифенил)пропаном, контейнер 8 - дихлоридом изофталевой кислоты; контейнеры 15 и 16 (дополнительные) наполняют соответственно: один - дигидрокси-диаминодифенилметаном, второй - бис-(3-аминопропил) диметилсилоксаном. Емкости 23 и 24 наполняют водой (преимущественно - незначительно подкрашенной, - для более простого визуального наблюдения за выходом прозрачных пузырьков газа).
Рабочую камеру 2 заполняют исходными реагентами из указанных контейнеров согласно регламенту проведения полимеризации композиционной системы. В дополнительную рабочую камеру 14 подают компоненты из контейнеров 15 и 16 (как указано выше), смесь этих компонентов подают в камеру 2, выполняя экспресс-анализ смеси прибором 18 (используют хроматограф с электрохимическим детектором), В рабочей камере ведут процесс полимеризации смеси компонентов и поликонденсацию композиционной системы; над верхней границей массы в камере 2 и камере 14 выдерживают объем инертного газа для предупреждения окисления материала; температурный режим, по регламенту, поддерживают подачей теплоносителя (или хладагента) в полости термозащитных рубашек 19 и 20 камер 2 и 14.
Готовность получаемого материала (термостойкого фоторезиста) проверяют прибором 13, соединенным с выходным патрубком 11 камеры 2; в качестве прибора используют жидкостный хроматограф с электрохимическим и ультрафиолетовым детекторами.
Накопление готового материала ведут в контейнере (накопителе) 12 или направляют на непосредственное прямое использование в технологическом
процессе при образовании защитных покрытий и выполнении послойной изоляции в электронных приборах и системах.
Материал, полученный в данной установке для производства термостойкого фоторезиста, обладает следующими основными физико-химическими характеристиками:
- удельное сопротивление около 1015 Ом · см;
- диэлектрическая проницаемость 3,5÷4,5 при 106 Гц;
- тангенс угла диэлектрических потерь 2·10-3÷2·10-2;
- пробивное напряжение при толщине пленки 1,5-2,0 мкм - не менее 420 В.
Таким образом, установка для получения термостойкого фоторезиста позволяет производить материал, обладающий высокими физико-химическими показателями и свойствами, что характеризует данную установку как высокоэффективную и прогрессивную в применении.
Claims (2)
1. Установка для получения термостойкого фоторезиста, содержащая аппарат для проведения полимеризации, рабочую реакционную камеру, контейнеры с исходными компонентами, дозаторы масс компонентов, накопитель получаемой композиционной системы, отличающаяся тем, что она снабжена дополнительной рабочей камерой, имеющей дополнительные контейнеры с компонентами для поликонденсации и полимеризации, эта дополнительная рабочая камера сообщена с рабочей реакционной камерой дозатором массы компонентов, при этом обе указанные камеры оснащены термозащитной рубашкой, соединены с источником инертного газа и имеют на выходных патрубках прибор экспресс-анализа смеси компонентов и получаемого продукта.
2. Установка по п.1, отличающаяся тем, что контейнеры с исходными компонентами заполнены отдельно соответственно дихлоридом изофталевой кислоты, дигидрокси-диаминодифенилметаном, амидным растворителем, о-аминофенолом, эпихлоргидрином, бис-нафто-хинондиазидосульфоэфир-(гидроксифенил)пропаном, а дополнительные контейнеры заполнены: один - дигидрокси-диаминодифенилметаном, второй - бис-(3-аминопропил)диметилсилоксаном.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| RU2008107057/22U RU74490U1 (ru) | 2008-02-27 | 2008-02-27 | Установка для получения термостойкого фоторезиста |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| RU2008107057/22U RU74490U1 (ru) | 2008-02-27 | 2008-02-27 | Установка для получения термостойкого фоторезиста |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| RU74490U1 true RU74490U1 (ru) | 2008-06-27 |
Family
ID=39680457
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| RU2008107057/22U RU74490U1 (ru) | 2008-02-27 | 2008-02-27 | Установка для получения термостойкого фоторезиста |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| RU (1) | RU74490U1 (ru) |
-
2008
- 2008-02-27 RU RU2008107057/22U patent/RU74490U1/ru not_active IP Right Cessation
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| TW440550B (en) | Refining method for molten glass and an apparatus for refining molten glass | |
| CN103298864B (zh) | 用于通过产色嫁接处理羟基化的基底的机器和方法 | |
| KR102377622B1 (ko) | 실리카 에어로겔 블랑켓 제조방법 및 이의 제조장치 | |
| US3251657A (en) | Reactor for the manufacture of polyethylene phthalates | |
| CN107001940B (zh) | 双壁反应器中的重油改质方法 | |
| EA200901023A1 (ru) | Способ гидрокрекинга (варианты) и система гидрокрекинга | |
| CN107930979B (zh) | 一种浸胶设备及其方法 | |
| CN1480994A (zh) | 衬底处理系统和衬底处理方法 | |
| Cools et al. | Influence of DBD inlet geometry on the homogeneity of plasma‐polymerized acrylic acid films: the use of a microplasma–electrode inlet configuration | |
| KR101628043B1 (ko) | 지지체상에서 증기상으로부터 실리카 수트의 증착에 의한 합성 석영 유리 제조 방법 | |
| RU2010149026A (ru) | Способ и устройство для непрерывного получения полимеризатов методом радикальной полимеризации | |
| JP2009203456A5 (ja) | 水電解ガス混合燃料の生成装置 | |
| US20150105529A1 (en) | Process For Preparing Silicone Resins | |
| RU74490U1 (ru) | Установка для получения термостойкого фоторезиста | |
| US10480071B2 (en) | Continuous distillation trichlorosilane vaporization supply apparatus | |
| JP2009025604A (ja) | 偏光板保護フィルム、その製造方法及び製造装置、並びに偏光板、その製造方法及び表示装置 | |
| EP2961699B1 (en) | Process and apparatus for refining molten glass | |
| US10947469B2 (en) | Apparatus and method for manufacturing bio emulsion fuel using vegetable oil | |
| AU2015228270B2 (en) | Hydrogen production system and hydrogen production method | |
| NO812713L (no) | Apparat for fremstilling av blokker av polymerskum | |
| RU2563844C1 (ru) | Способ полимеризации изопрена в массе в малообъёмных ячейках | |
| CN210186894U (zh) | 一种添加剂配制系统 | |
| CN105524264A (zh) | 芳香族聚碳酸酯的制造装置 | |
| CN208678415U (zh) | 一种用于六甲基磷酰三胺合成的蒸馏装置 | |
| JP2012136394A (ja) | 光ファイバの製造方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| MM1K | Utility model has become invalid (non-payment of fees) |
Effective date: 20160228 |