RU70373U1 - Устройство для исследования поверхности твердого тела туннельным микроскопом - Google Patents

Устройство для исследования поверхности твердого тела туннельным микроскопом Download PDF

Info

Publication number
RU70373U1
RU70373U1 RU2007137245/22U RU2007137245U RU70373U1 RU 70373 U1 RU70373 U1 RU 70373U1 RU 2007137245/22 U RU2007137245/22 U RU 2007137245/22U RU 2007137245 U RU2007137245 U RU 2007137245U RU 70373 U1 RU70373 U1 RU 70373U1
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
replica
needle
microscope
stm
study
Prior art date
Application number
RU2007137245/22U
Other languages
English (en)
Inventor
Евгений Юрьевич Шелковников
Original Assignee
Институт прикладной механики УрО РАН
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Институт прикладной механики УрО РАН filed Critical Институт прикладной механики УрО РАН
Priority to RU2007137245/22U priority Critical patent/RU70373U1/ru
Application granted granted Critical
Publication of RU70373U1 publication Critical patent/RU70373U1/ru

Links

Landscapes

  • Measurement Of Length, Angles, Or The Like Using Electric Or Magnetic Means (AREA)

Abstract

Использование: исследование микрорельефа как проводящих, так и непроводящих поверхностей образцов твердых тел. Устройство содержит электронный блок туннельного микроскопа, ЭВМ, основание с закрепленными на нем механическим блоком и иглой туннельного микроскопа, устройством для поворота на 180° и перемещений по осям X, Y реплики, оптическим микроскопом, снабженным цифровой видеокамерой. Устройство поворота включает в себя внутреннюю рамку с закрепленной на ней репликой, зажатой прижимами к средней рамке с микровинтами для ее перемещения по осям X, Y относительно внешней рамки, закрепленной на основании и имеющей возможность поворота на 180° при ее двух фиксированных горизонтальных положениях. Технический результат - повышение точности воспроизведения формы исследуемой поверхности с применением туннельного микроскопа, а также возможность его использования для исследования как проводящих, так и непроводящих поверхностей. 4 ил.

Description

Изобретение относится к области научного приборостроения и может быть использовано для исследования микрорельефа как проводящих, так и непроводящих поверхностей образцов, например, имплантированных полупроводников, дифракционных решеток, оценки чистоты механической обработки металлических поверхностей и т.п.
Известен сканирующий туннельный микроскоп [Миронов В.Л. Основы сканирующей зондовой микроскопии. - М.: Техносфера, 2004. - С.54], содержащий иглу, блок обратной связи для стабилизации туннельного тока, блок разверток по осям X, Y, схему сближения иглы и образца, ЭВМ. Недостатком устройства являются ухудшение его пространственного разрешения и значительные искажения СТМ-изображений при сканировании неровностей микрорельефа поверхности, сравнимых с размерами рабочей части острия иглы, а также возможность его применения для исследования только проводящих поверхностей.
Известен сканирующий туннельный микроскоп [R.Chicon, M.Ortuno, J.Abellan. Surf. Science. 181, 107 (1987)], содержащий иглу, блок обратной связи для стабилизации туннельного тока, блок формирования изображения исследуемой поверхности, ЭВМ, в котором производится частичная реконструкция реальной поверхности по его СТМ-изображению на основе аппроксимации кончика острия иглы полусферой радиуса R и восстановления нормали длиной (R+d) в каждой точке СТМ-изображения (где d≈10Å=const - постоянный туннельный зазор между иглой и исследуемой поверхностью). Недостатком устройства являются возможность его применения только в частном случае, когда микрорельеф поверхности имеет размеры менее 100Å (допускающие аппроксимацию кончика иглы полусферой), неполная реконструкция реальной поверхности образца из-за невозможности достижения иглой ее некоторых областей (например, если образец имеет участки микрорельефа
с кривизной, большей кривизны рабочего кончика острия иглы), а также возможность его применения для исследования только проводящих поверхностей.
Наиболее близким по составу и сущности к заявляемому является устройство, реализующее способ исследования поверхности твердого тела туннельным микроскопом [А.с. №1778820, МПК Н01L 21/66. Способ исследования поверхности твердого тела туннельным микроскопом / Ф.Ф.Губайдуллин, А.А.Бухараев, А.В.Назаров], содержащее иглу, механический и электронный блоки, ЭВМ сканирующего туннельного микроскопа, в котором производится частичная реконструкция реальной поверхности по ее СТМ-изображению путем его инвертирования и последующего компьютерного сканирования заранее определенным профилем иглы, использованной для формирования данного СТМ-изображения и зеркально повернутой в плоскости, перпендикулярной направлению сканирования. Недостатком устройства являются неполная реконструкция поверхности образца из-за невозможности достижения иглой ее некоторых областей (например, если образец имеет участки микрорельефа с кривизной, большей кривизны рабочего кончика острия иглы) [Миронов В.Л. Основы сканирующей зондовой микроскопии. - М.: Техносфера, 2004. - С.40], а также возможность его применения для исследования только проводящих поверхностей.
Задачей изобретения является повышение точности воспроизведения формы исследуемой поверхности с применением туннельного микроскопа, а также возможность его использования для исследования как проводящих, так и непроводящих поверхностей.
Задача решается тем, что в известное устройство, реализующее способ исследования поверхности твердого тела туннельным микроскопом, содержащее иглу, механический и электронный блоки, ЭВМ сканирующего туннельного микроскопа, введены блок формирования реплики исследуемой поверхности, оптический микроскоп, снабженный цифровой видеокамерой, основание с закрепленными на нем механическим блоком и иглой туннельного
микроскопа, устройством для поворота на 180° и перемещений по осям X, Y реплики исследуемой поверхности образца, содержащем внутреннюю рамку с неподвижно закрепленной на ней репликой, зажатую прижимами к средней рамке с микровинтами для ее перемещения по осям X, Y относительно закрепленной на основании внешней рамки для поворота реплики на 180°.
Предлагаемое устройство позволяет расширить функциональные возможности исследования поверхности твердого тела туннельным микроскопом и повысить его точность. Формирование проводящей реплики исследуемой поверхности образца позволяет расширить функциональные возможности устройства, так как позволяет изучать туннельным микроскопом как проводящие, так и непроводящие поверхности. Повышение точности реконструкции реальной поверхности связано с возможностью (при сканировании реплики с обратной стороны) определения на СТМ-изображениях «черных дыр», «т.е. таких провалов на поверхности, в которые из-за малых размеров и большой глубины игла СТМ не смогла «заглянуть», другими словами - не могла достичь дна такого углубления» [Бухараев А.А. Диагностика поверхности с помощью сканирующей туннельной микроскопии // Заводская лаборатория, том 60, №10, 1994. - С.19]. И если в устройстве, принятом за прототип, невозможно даже отметить участки («черные дыры»), где СТМ-изображение сильно отличается от реальной топографии поверхности, то в предложенном утройстве дополнительная информация о той же поверхности, но с ее обратной стороны, позволяет не только отметить такие «провалы» поверхности, но и реконструировать их реальный микрорельеф.
На фиг.1 изображена структурная схема устройства для исследования поверхности твердого тела туннельным микроскопом, на фиг.2-4 - профилограммы, поясняющие принцип его работы.
Устройство содержит блок 1 формирования реплики 2 исследуемой поверхности, основание 3 (фиг.1) с закрепленными на нем механическим блоком 4 и иглой 5 туннельного микроскопа 6, устройством 7 для поворота на 180° и перемещений по осям X, Y реплики 2, оптическим микроскопом 8,
снабженным цифровой видеокамерой 9. Устройство 7 включает в себя внутреннюю рамку 10 с закрепленной на ней репликой 2, зажатую прижимами 11 к средней рамке 12 с микровинтами 13 для ее перемещения по осям X, Y относительно внешней рамки 14, закрепленной на основании 3 и имеющей возможность поворота на 180° при ее двух фиксированных горизонтальных положениях, при этом туннельный микроскоп 6 включает в себя кроме механического блока 4 и иглы 5 электронный блок 15 и ЭВМ 16.
Устройство для исследования поверхности твердого тела туннельным микроскопом работает следующим образом. Сначала в блоке 1 формируется реплика исследуемой поверхности. Реплика - это тонкая пленка, наносимая на поверхность образца с целью получения на ней копии-отпечатка микрорельефа поверхности и далее отделяемая от нее для исследований (обычно такие исследования проводятся в растровом электронном микроскопе). Реплика может изготавливаться, например, методом напыления тонкой (чаще проводящей углеродной) пленки. Подобная пленка обеспечивает пространственное разрешение ~20А, а также (при подготовке образца с особой тщательностью) - атомное разрешение [Шиммель Г. Методика электронной микроскопии. - М.: Мир, 1972. - 300 с.]. Затем реплика 2 закрепляется (например, с применением стандартной сетки-подложки РЭМ) на внутренней рамке 10. Игла 5 сканирующего туннельного микроскопа (СТМ) 6 юстируется с помощью оптического микроскопа 8 точно над осью вращения внешней рамки 14. Внутренняя рамка 10 с репликой 2 устанавливается в зажимы 11 исследуемого образца средней рамки 12. Посредством микровинтов 13 средняя рамка 12 сдвигается по осям X, Y относительно внешней рамки 14 таким образом, чтобы центр интересующего участка реплики 2 находился точно под иглой 5. Выбор этого участка осуществляется с помощью оптического микроскопа 8 с цифровой видеокамерой 9 (имеющего высокое пространственное разрешение ~1 мкм).
Рельеф выбранного участка поверхности реплики 2 регистрируется видеокамерой 9, после чего цифровое оптическое изображение рельефа передается
через электронный блок 15 в ЭВМ 16, где оно инвертируется и выводится для контроля на экран монитора. Затем в СТМ 6 производится грубое сканирование поверхности реплики 2 (например, с размером кадра ~1 мкм), полученное грубое СТМ-изображение микрорельефа инвертируется и также выводится на экран монитора для контроля и выбора интересующего участка с предполагаемым местонахождением объекта исследований. Производится точное сканирование с атомным разрешением выбранного участка, полученное окончательное «прямое» СТМ-изображение нанорельефа и его координаты в грубом СТМ-изображении заносятся в ЭВМ 16 (для реконструкции реального профиля поверхности), а также инвертируется и выводится для контроля на экран монитора.
Далее внешняя рамка 14 поворачивается на 180° и производится поиск инвертированной поверхности участка с объектом исследований. Для этого микровинтами 13 средней рамки 12 с помощью оптического микроскопа 8 и контрольного оптического инвертированного «прямого» изображения неинвертированный центр «обратного» оптического изображения устанавливается точно под иглой 5. Затем производится грубое сканирование «обратной» стороны реплики 2 (например, с размером кадра ~1 мкм). Если грубое неинвертированное СТМ-изображение «обратной» поверхности реплики 2 не совпадает с контрольным грубым инвертированным СТМ-изображением «прямой» поверхности реплики, то производятся грубый сдвиг иглы 5 по осям X, Y (с помощью шаговых пьезодвигателей СТМ) и повторное сканирование обратной стороны реплики 2, пока эти грубые СТМ-изображения не будут совпадать с заранее заданной погрешностью. (Методика автоматического определения совпадения СТМ-изображении может заключаться в следующем. Производится фильтрация СТМ-изображении и вычитание их постоянной составляющей и постоянного наклона [Миронов В.Л. Основы сканирующей зондовой микроскопии. - М.: Техносфера, 2004. - С.30]. Далее для каждых двух сравниваемых СТМ-изображении определяют корреляционную функцию (либо для соответствующих средних строк, либо для соответствующих
средних столбцов, либо для растров в целом) и по ее величине судят о степени совпадения СТМ-изображений. Если значение корреляционной функции находится в допуске, то считается, что сравниваемые два СТМ-изображения соответствуют одному и тому же участку исследуемой поверхности). Далее программным путем определяется по X, Y-координатам (в грубом СТМ-изображений) участок с объектом исследования и производится сканирование реплики 2 с атомным разрешением. Если неинвертированное СТМ-изображение «обратной» стороны реплики 2 не совпадает с контрольным точным инвертированным СТМ-изображением «прямой» стороны реплики, то производятся точный сдвиг иглы 5 с помощью пьезосканера СТМ и повторное сканирование реплики 2, пока эти точные СТМ-изображения на-норельефа поверхности не будут совпадать с заранее заданной погрешностью. После этого (используя полученные неинвертированные СТМ-изображения одного и того же (но «прямого» и «обратного» участка реплики)) по предложенной методике осуществляется реконструкция СТМ-изображения реального нанорельефа поверхности образца с объектом исследований следующим образом. Сначала для прямой 1 и обратной 2 СТМ-профилограмм (фиг.2) реального профиля 3 поверхности проводится их компьютерная корректировка по способу, описанному в прототипе. Для этого производится повторное компьютерное сканирование точных прямого и обратного СТМ-изображений реплики 2. Перед этим в память ЭВМ 16 вводится полученный на растровом электронном микроскопе реальный профиль 4 (фиг.2) использованной в данном эксперименте иглы 5. В ЭВМ 16 компьютерное сканирование проводится также иглой 5, профиль которой вначале зеркально отражен в плоскости, перпендикулярной направлению сканирования, а затем в плоскости образца, при этом предполагается, что туннелирование равновероятно с любого участка поверхности иглы, а расстояние между иглой и поверхностью всегда постоянно и равно 1 нм [Бухараев А.А. Диагностика поверхности с помощью сканирующей туннельной микроскопии // Заводская лаборатория, том 60, №10, 1994. - С.19]. В результате этого повторного
сканирования из СТМ-профилограмм как бы «вычитается» профиль иглы 5 и тем самым уменьшаются вносимые ею искажения (профилограммы 1', 2' фиг.3). Далее на скорректированных профилограммах 1', 2' сравниваются параметры D1=dZ1'/dx и D2=dZ2'/dx. В реконструируемую профилограмму в каждую ее точку помещается высота той поверхности, у которой параметр D меньше. Профилограмма 5 реконструированного реального профиля 3 исследуемой поверхности приведена на фиг.4.

Claims (1)

  1. Устройство для исследования поверхности твердого тела туннельным микроскопом, содержащее иглу, механический и электронный блоки, ЭВМ сканирующего туннельного микроскопа, отличающееся тем, что введены блок формирования реплики исследуемой поверхности, оптический микроскоп, снабженный цифровой видеокамерой, основание с закрепленными на нем механическим блоком и иглой туннельного микроскопа, устройством для поворота на 180° и перемещений по осям X, Y реплики исследуемой поверхности образца, содержащем внутреннюю рамку с неподвижно закрепленной на ней репликой, зажатую прижимами к средней рамке с микровинтами для ее перемещения по осям X, Y, относительно закрепленной на основании внешней рамки для поворота реплики на 180°.
    Figure 00000001
RU2007137245/22U 2007-10-08 2007-10-08 Устройство для исследования поверхности твердого тела туннельным микроскопом RU70373U1 (ru)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
RU2007137245/22U RU70373U1 (ru) 2007-10-08 2007-10-08 Устройство для исследования поверхности твердого тела туннельным микроскопом

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
RU2007137245/22U RU70373U1 (ru) 2007-10-08 2007-10-08 Устройство для исследования поверхности твердого тела туннельным микроскопом

Publications (1)

Publication Number Publication Date
RU70373U1 true RU70373U1 (ru) 2008-01-20

Family

ID=39109155

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
RU2007137245/22U RU70373U1 (ru) 2007-10-08 2007-10-08 Устройство для исследования поверхности твердого тела туннельным микроскопом

Country Status (1)

Country Link
RU (1) RU70373U1 (ru)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
RU2462726C2 (ru) * 2010-10-11 2012-09-27 Государственное Научное Учреждение "Институт Тепло- И Массообмена Имени А.В. Лыкова Национальной Академии Наук Беларуси" Способ сканирования на сканирующем зондовом микроскопе и формирования изображения поверхности
CN108387259A (zh) * 2018-03-22 2018-08-10 厦门攸信信息技术有限公司 视觉检测机构及视觉检测系统

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
RU2462726C2 (ru) * 2010-10-11 2012-09-27 Государственное Научное Учреждение "Институт Тепло- И Массообмена Имени А.В. Лыкова Национальной Академии Наук Беларуси" Способ сканирования на сканирующем зондовом микроскопе и формирования изображения поверхности
CN108387259A (zh) * 2018-03-22 2018-08-10 厦门攸信信息技术有限公司 视觉检测机构及视觉检测系统
CN108387259B (zh) * 2018-03-22 2024-05-17 厦门攸信信息技术有限公司 视觉检测机构及视觉检测系统

Similar Documents

Publication Publication Date Title
Pan et al. High-resolution and large field-of-view Fourier ptychographic microscopy and its applications in biomedicine
US10113961B2 (en) Apparatus and method for quantitive phase tomography through linear scanning with coherent and non-coherent detection
Kübel et al. Recent advances in electron tomography: TEM and HAADF-STEM tomography for materials science and semiconductor applications
US10535495B2 (en) Sample manipulation for nondestructive sample imaging
Batina et al. Atomic level characterization of the iodine-modified Au (111) electrode surface in perchloric acid solution by in-situ STM and ex-situ LEED
US6249349B1 (en) Microscope generating a three-dimensional representation of an object
Andersson et al. Non-raster sampling in atomic force microscopy: A compressed sensing approach
US10468230B2 (en) Nondestructive sample imaging
TW477018B (en) Apparatus and method for texture analysis on semiconductor wafers
JP2009526272A (ja) 顕微鏡媒体ベースの標本からデジタル画像データを収集するための方法および装置およびコンピュータプログラム製品
Yothers et al. Real-space post-processing correction of thermal drift and piezoelectric actuator nonlinearities in scanning tunneling microscope images
Couillard et al. Strain fields around dislocation arrays in a Σ9 silicon bicrystal measured by scanning transmission electron microscopy
JP5160520B2 (ja) 結晶格子モアレパターン取得方法および走査型顕微鏡
JP2017146202A (ja) モアレ法による高速変位・ひずみ分布測定方法及び測定装置
RU70373U1 (ru) Устройство для исследования поверхности твердого тела туннельным микроскопом
Shi et al. Measuring topographies from conventional SEM acquisitions
WO2009014648A2 (en) Unique digital imaging method
Pintus et al. An automatic alignment procedure for a four-source photometric stereo technique applied to scanning electron microscopy
CN101819217A (zh) 一种微纳米尺度平面周期性结构的反演方法
KR20180096527A (ko) 투과 전자 현미경 검사를 위한 방법 및 장치
RU2358352C1 (ru) Способ исследования поверхности твердого тела туннельным микроскопом
Peter Piezoresponse force microscopy and surface effects of perovskite ferroelectric nanostructures
Yothers High-precision measurements of alkanethiol self-assembled monolayer structure with scanning tunneling microscopy
Koch et al. Measuring three-dimensional positions of atoms to the highest accuracy with electrons
Wieghaus et al. Improving Acquisition Time in Scanning Microwave Microscopy by Undersampling the Scan Area

Legal Events

Date Code Title Description
MM1K Utility model has become invalid (non-payment of fees)