RU2820740C2 - Подъемное устройство для керамических игл в установках плазмохимического травления - Google Patents
Подъемное устройство для керамических игл в установках плазмохимического травления Download PDFInfo
- Publication number
- RU2820740C2 RU2820740C2 RU2024107104A RU2024107104A RU2820740C2 RU 2820740 C2 RU2820740 C2 RU 2820740C2 RU 2024107104 A RU2024107104 A RU 2024107104A RU 2024107104 A RU2024107104 A RU 2024107104A RU 2820740 C2 RU2820740 C2 RU 2820740C2
- Authority
- RU
- Russia
- Prior art keywords
- plasma
- chemical etching
- lifting device
- ceramic needles
- platform
- Prior art date
Links
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 title claims abstract description 25
- 238000003486 chemical etching Methods 0.000 title claims abstract description 15
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 26
- 238000009434 installation Methods 0.000 claims description 13
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 abstract description 9
- 239000000126 substance Substances 0.000 abstract 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 3
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 238000001020 plasma etching Methods 0.000 description 1
- 229910052594 sapphire Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010980 sapphire Substances 0.000 description 1
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 1
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 1
Abstract
Изобретение относится к области вакуумно-плазменного оборудования. Подъемное устройство для керамических игл в установках плазмохимического травления включает платформу, в центре которой установлен пневмоцилиндр с антиповоротной платформой. На одинаковом расстоянии от центра платформы герметично закреплены сварные сильфоны, обеспечивающие возможность отсечения вакуумного контура. Внутри сварных сильфонов закреплены керамические иглы, а подъемное устройство выполнено с возможностью крепления к подложкодержателю и расположения непосредственно в объеме катодного узла установки плазмохимического травления. Кроме того, пневмоцилиндр выполняет функцию направляющей для обеспечения возможности перемещения керамических игл относительно верхней поверхности подложкодержателя. Изобретение обеспечивает уменьшение габаритов механизмов подъема, что позволяет эффективно использовать ограниченное пространство в вакуумных системах. 3 ил.
Description
Область техники
Изобретение относится к области вакуумно-плазменного оборудования, в частности, к конструктивным элементам установок плазмохимического травления подъемным устройствам для керамических игл, которые перемещают подложки.
Уровень техники
Из «Уровня техники» известно подъемное устройство для позиционирования подложки для оборудования для плазменного травления содержит нижний электрод, закрепленный в реакционной зоне, диск для зажима подложки, расположенный на нижнем электроде, механизм подъема штифтов с керамическими иглами на концах и механизм подъема прижимного кольца для точного позиционирования подложки; механизм подъема прижимного кольца содержит основание, подвижная пластина, прижимное кольцо, подъемный стержень, соединенный с подвижной пластиной и прижимным кольцом, и приводное устройство подъема прижимного кольца для приведения подвижной пластины в движение для ее подъема; подъемный стержень соединен с направляющим механизмом для перемещения подъемного стержня; приводное устройство для подъема прижимного кольца закреплено на основании; приводное устройство для подъема прижимного кольца позволяет плотно прижимать прижимное кольцо к зажимному диску подложки; механизм подъема штифтов содержит иглы, основание, неподвижно соединенное с нижним концом штифта, и приводное устройство для подъема штифтов, закрепленное на нижнем электроде; а вал приводного устройства для подъема штифтов жестко соединен с корпусом, а штифт проходит через нижний электрод (см. патентный документ КНР 103367215, кл. МПК H01L 21/677, опубл. 23.10.2013).
Недостатки известного устройства заключаются в значительных габаритах подъемного устройства, что не позволяет эффективно использовать ограниченное пространство в вакуумных системах.
Раскрытие сущности изобретения
Задачей настоящего изобретения является устранение недостатков предшествующего уровня техники и создание подъемного устройства для керамических игл, которые перемещают подложки в установках плазмохимического травления.
Технический результат заключается в уменьшении габаритов механизмов подъема, что позволяет эффективно использовать ограниченное пространство в вакуумных системах. Технический результат обеспечивается тем, что подъемное устройство для керамических игл в установках плазмохимического травления включает платформу, в центре которой установлен пневмоцилиндр с антиповоротной платформой. На одинаковом расстоянии от центра платформы герметично закреплены сварные сильфоны, обеспечивающие возможность отсечения вакуумного контура. Внутри сварных сильфонов закреплены керамические иглы, а подъемное устройство выполнено с возможностью крепления к подложкодержателю и расположения непосредственно в объеме катодного узла установки плазмохимического травления. Кроме того, пневмоцилиндр выполняет функцию направляющей для обеспечения возможности перемещения керамических игл относительно верхней поверхности подложкодержателя.
Краткое описание чертежей
Сущность настоящего изобретения поясняется следующими иллюстрациями:
фиг. 1 - вид спереди подъемного устройства для керамических игл в установках плазмохимического травления;
фиг. 2 - вид сверху подъемного устройства для керамических игл в установках плазмохимического травления;
фиг. 3 - вакуумная камера в продольном разрезе.
Осуществление изобретения
Подъемное устройство для керамических игл в установках плазмохимического травления включает платформу 5, в центре которой установлен пневмоцилиндр с антиповоротной платформой 4. На одинаковом расстоянии от центра платформы герметично закреплены сварные сильфоны 3, обеспечивающие возможность отсечения вакуумного контура 7, внутри сварных сильфонов 3 закреплены керамические иглы 2. Подъемное устройство выполнено с возможностью крепления к подложкодержателю 1 и расположения непосредственно в объеме катодного узла установки плазмохимического травления. Кроме того, пневмоцилиндр 4 выполняет функцию направляющей для обеспечения возможности перемещения керамических игл 2 относительно подложкодержателя 1.
Изобретение представляет собой компактное устройство, в центре платформы 5 устанавливают пневмоцилиндр с антиповоротной платформой 4, на одинаковом расстоянии от центра герметично закрепляют сварные сильфоны 3, внутри которых располагают керамические иглы 2. Все устройство крепят к подложкодержателю 1. Благодаря такой конструкции, механизм подъема не требует дополнительных направляющих, в качестве направляющих выступает сам пневмоцилиндр 4.
Также за счет малых габаритных размеров механизм подъема может быть расположен непосредственно в объеме катодного узла, что значительно уменьшает габаритные размеры всей вакуумной камеры 6. Благодаря сварным и герметично закрепленным сильфонам 3, удается отсечь вакуумный контур 7.
Подъемное устройство для керамических игл в установках плазмохимического травления функционирует следующим образом.
Подъемное устройство для керамических игл закреплено в вакуумной камере 6, включающей подложкодержатель 1 с направляющими отверстиями для перемещения вверх и вниз керамических игл 2, вакуумный контур 7, контур атмосферы 8, источник плазмы 9 и модуль подвода коммуникаций 10.
Размещают подложку с изделиями для обеспечения их травления в вакуумной камере 6, перед этим приводное устройство в виде пневмоцилиндра 4 поднимает керамические иглы 2. Они выступают из отверстий в поверхности подложкодержателя 1 и поддерживают подложку над ним. Затем приводное устройство перемещает иглы 2 вниз, а подложка устанавливается на подложкодержателе 1. При этом керамические иглы 2 располагаются ниже верхней поверхности подложкодержателя 1 и не взаимодействуют с подложкой. Осуществляют процесс травления изделий, размещенных на подложке. Когда травление завершается, приводное устройство поднимает иглы 2 вверх с перемещением подложки с изделиями для их извлечения из вакуумной камеры 6.
В установках плазмохимического травления возможно осуществить обработку поверхности полупроводников, кремниевых пластин и сапфировых подложек.
Благодаря своим размерам подъемное устройство для керамических игл размещается непосредственно в вакуумной камере 6. Благодаря такому размещению, конструкция не требует дополнительных направляющих, за счет чего повышается полезный объем установки в целом. А за счет сварных сильфонов решаются все проблемы герметизации игл.
Claims (1)
- Подъемное устройство для керамических игл в установках плазмохимического травления, включающее платформу, в центре которой установлен пневмоцилиндр с антиповоротной платформой, на одинаковом расстоянии от центра платформы герметично закреплены сварные сильфоны, обеспечивающие возможность отсечения вакуумного контура, внутри сварных сильфонов закреплены керамические иглы, подъемное устройство выполнено с возможностью крепления к подложкодержателю и расположения непосредственно в объеме катодного узла установки плазмохимического травления, кроме того, пневмоцилиндр выполняет функцию направляющей для обеспечения возможности перемещения керамических игл относительно верхней поверхности подложкодержателя.
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| RU2024107104A RU2024107104A (ru) | 2024-05-02 |
| RU2820740C2 true RU2820740C2 (ru) | 2024-06-07 |
Family
ID=
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| SU1762339A1 (ru) * | 1990-08-03 | 1992-09-15 | Научно-исследовательский институт полупроводниковых приборов | Держатель полупроводниковых пластин |
| JPH11233605A (ja) * | 1998-02-17 | 1999-08-27 | Mitsubishi Electric Corp | 静電チャックステージ |
| CN203481201U (zh) * | 2013-06-08 | 2014-03-12 | 天通吉成机器技术有限公司 | 一种等离子刻蚀设备的基片定位升降装置 |
| CN103367215B (zh) * | 2013-06-08 | 2016-08-24 | 天通吉成机器技术有限公司 | 一种等离子刻蚀设备的基片定位升降装置 |
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| SU1762339A1 (ru) * | 1990-08-03 | 1992-09-15 | Научно-исследовательский институт полупроводниковых приборов | Держатель полупроводниковых пластин |
| JPH11233605A (ja) * | 1998-02-17 | 1999-08-27 | Mitsubishi Electric Corp | 静電チャックステージ |
| CN203481201U (zh) * | 2013-06-08 | 2014-03-12 | 天通吉成机器技术有限公司 | 一种等离子刻蚀设备的基片定位升降装置 |
| CN103367215B (zh) * | 2013-06-08 | 2016-08-24 | 天通吉成机器技术有限公司 | 一种等离子刻蚀设备的基片定位升降装置 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR101088987B1 (ko) | 플라즈마 처리 장치 | |
| US20180114717A1 (en) | Semiconductor manufacturing device and processing method | |
| US6676761B2 (en) | Method and apparatus for dechucking a substrate | |
| KR101982391B1 (ko) | 기판 처리 장치 | |
| JP5906429B2 (ja) | プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法 | |
| JP2012248741A (ja) | プラズマ処理装置、搬送キャリア、及びプラズマ処理方法 | |
| RU2820740C2 (ru) | Подъемное устройство для керамических игл в установках плазмохимического травления | |
| CN103229066A (zh) | 晶片测试系统以及相关的使用和制造方法 | |
| KR20070092686A (ko) | 리프터 및 리프터를 구비하는 피처리체의 처리 장치 | |
| TW201250403A (en) | Apparatus for transferring a substrate in a lithography system | |
| KR20180116139A (ko) | 웨이퍼 처리 장치 | |
| KR102616246B1 (ko) | 처리액을 공급 및 회수하는 기판 처리 장치 | |
| JP2016051876A (ja) | プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法 | |
| CN115881594B (zh) | 半导体干燥装置 | |
| CN209843684U (zh) | 承载装置 | |
| JP2007201259A (ja) | 半導体装置の製造方法及び半導体装置の実装装置 | |
| CN111508806B (zh) | 半导体工艺腔室及半导体加工设备 | |
| CN112795878B (zh) | 成膜装置及埋入处理装置 | |
| CN108279552B (zh) | 基板载台和曝光机 | |
| CN203481201U (zh) | 一种等离子刻蚀设备的基片定位升降装置 | |
| JP7045635B2 (ja) | プラズマ処理装置及び方法 | |
| JP4563568B2 (ja) | 半導体処理用の載置台装置、プラズマ処理装置、及び真空処理装置 | |
| TW201924513A (zh) | 成膜裝置 | |
| KR102176615B1 (ko) | 디스플레이 소자의 트랜스퍼 장치 및 트랜스퍼 방법 | |
| KR101256485B1 (ko) | 기판처리장치의 공정챔버 |