RU2777250C1 - Установка для ионного азотирования в плазме тлеющего разряда - Google Patents

Установка для ионного азотирования в плазме тлеющего разряда Download PDF

Info

Publication number
RU2777250C1
RU2777250C1 RU2021133396A RU2021133396A RU2777250C1 RU 2777250 C1 RU2777250 C1 RU 2777250C1 RU 2021133396 A RU2021133396 A RU 2021133396A RU 2021133396 A RU2021133396 A RU 2021133396A RU 2777250 C1 RU2777250 C1 RU 2777250C1
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
chamber
plasma
glow discharge
installation
discharge plasma
Prior art date
Application number
RU2021133396A
Other languages
English (en)
Inventor
Рустем Шамилевич Нагимов
Александр Владиславович Асылбаев
Эдуард Леонидович Варданян
Алмаз Юнирович Назаров
Равиль Айратович Абдуллин
Роман Сергеевич Есипов
Юлдаш Гамирович Хусаинов
Алексей Александрович Николаев
Алексей Валерьевич Олейник
Original Assignee
федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Уфимский государственный авиационный технический университет"
Filing date
Publication date
Application filed by федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Уфимский государственный авиационный технический университет" filed Critical федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Уфимский государственный авиационный технический университет"
Application granted granted Critical
Publication of RU2777250C1 publication Critical patent/RU2777250C1/ru

Links

Images

Abstract

Изобретение относится к области оборудования для модификации поверхности деталей в низкотемпературной газоразрядной плазме и может быть использовано в ионно-плазменных процессах очистки, активации и легирования поверхности деталей. Установка для ионного азотирования в плазме тлеющего разряда содержит вакуумную камеру и подключенные к ней форвакуумный насос и блок управления расходом газа, к которому подключены баллоны с газами, электроды для возбуждения тлеющего разряда, установленные в рабочем пространстве камеры, анод и подложка-катод, соединенные с источником питания разряда. Указанная установка содержит электромагнитную систему, установленную под подложкой-катодом, с возможностью одновременного генерирования в камере скрещенных электрических и магнитных полей, обеспечивая формирование тороидальной области вращения электронов, в которой образуется плазма азота повышенной плотности. Обеспечивается увеличение скорости и эффективности ионного азотирования в низкотемпературной газоразрядной плазме. 3 ил.

Description

Изобретение относится к области оборудования для модификации поверхности деталей в низкотемпературной газоразрядной плазме, и может быть использовано в ионно-плазменных процессах очистки, активации и легирования поверхности деталей.
Известна установка для проведения ионно-плазменной обработки (патент РФ № 70893, кл. C23C 14/56, опубл. 20.02.2008), состоящая из вакуумной камеры с устройством напуска азота, горячего эмиссионного катода с источником питания, заслонки с поворотными шторками, основного анода с источником питания и источника питания, подающего отрицательное напряжение на обрабатываемую деталь, при этом внутри вакуумной камеры с устройством напуска азота дополнительно вмонтированы пирометр и нагревательный элемент, при этом пирометр последовательно связан электрической цепью с преобразователем, на выходе последний соединен с входом регулятора нагрева детали, а выход регулятора нагрева детали связан с входом источника питания, который затем соединен с нагревательным элементом, расположенным внутри камеры с устройством напуска азота, а анод основного разряда соединен с положительным полюсом источника питания и параллельно с прибором контроля величины тока анода основного разряда, выход последнего соединен с входом блока управления током анода основного разряда, выход которого соединен с исполнительным механизмом, обеспечивающим вертикальное перемещение заслонки с поворотными шторками и поворот ее шторок, также в качестве прибора контроля установлен амперметр.
Недостатком аналога является сложность конструкции из-за наличия дополнительных вводов, которые являются источниками дополнительного натекания атмосферы в рабочее пространство камеры, наличие дополнительного источника нагрева обрабатываемых деталей в рабочем пространстве камеры, наличие дополнительных источников питания для подачи напряжения на катод, анод, нагревательный элемент и обрабатываемую деталь.
Известно оборудование для ионного азотирования/нитроцементации, состоящее из двух печных камер с общим ресурсом, способное непрерывно проводить обработку в тлеющем разряде между двумя камерами (WO №2017122044A1, МПК C23C16/34, H01J37/32, 20.07.2017), включающая две технологические камеры, которые могут совместно использовать общие ресурсы для подачи газа, генерации плазмы и вакуумной системы, а также аппаратные и программные конфигурации, позволяющие осуществлять непрерывную обработку в тлеющем разряде между двумя камерами. Каждая камера имеет два режима работы; один связан с нагревом заготовок до температуры, необходимой для азотирования/нитроцементации, который осуществляется путем конвективного нагрева в контролируемой атмосфере при избыточном давлении с принудительной циркуляцией. Другой относится к обработке в тлеющем разряде, осуществляемой в контролируемой атмосфере с подачей газа, контролем температуры и вакуума, что в сочетании с приложенным внешним электрическим полем создает тлеющий разряд между заготовкой (катодом) и стенкой печи (анодом). Два производственных заказа могут выполняться одновременно, по одному в каждой камере, так что нагрев в одной камере может быть завершен, в то время как в другой камере выполняется обработка в тлеющем разряде.
Недостатком аналога является общая сложность конструкции и высокие массогабаритные показатели установки.
Известна печь для ионного азотирования (Патент № CN103334078A, кл.C23C8/36, опубл. 02.10.2013), состоящая из корпуса печи, рабочего стола печи, охлаждающего устройства и системы впуска и выпуска, при этом корпус печи и рабочий стол печи соединяются между собой, образуя рабочую камеру печи; внутри рабочей камеры печи установлена катодная пластина; катодная пластина соединена с рабочим столом печи через опоры; катодный инструмент и катодные опоры установлены на катодной пластине; катодная крышка установлена над катодной пластиной, и поддерживается катодными опорами.
Недостатком аналога является общая сложность конструкции и высокие массогабаритные показатели установки.
Наиболее близким по технической сущности и достигаемому результату к заявляемому изобретению является установка для ионно-плазменной обработки (патент РФ № 187937, кл. C23C 8/36, опубл. 25.03.2019), содержащая камеру с вакуумной системой для откачки воздуха и системой смешения и напуска рабочих газов, генератор плазмы и ускорения ионов и держатель изделия, вместе с тем оно дополнительно содержит плоские электроды, источник постоянного электрического поля для создания электрического смещения на обрабатываемом изделии и резистивный нагреватель обрабатываемого изделия, конструктивно совмещенный с упомянутым держателем, при этом генератор плазмы выполнен в виде высокочастотного 13,6 МГц генератора электрического поля для генерации высокоплотной плазмы, причем плоские электроды подключены к упомянутому генератору, а стенки камеры и обрабатываемое изделие подключены к источнику питания постоянного тока.
Недостатком прототипа является наличие дополнительного источника нагрева обрабатываемых деталей в рабочем пространстве камеры и дополнительного источника питания для резистивного нагревателя, а также высокие массогабаритные показатели.
Задачей, на решение которой направлено предлагаемое изобретение, является расширение технологических возможностей установки за счет увеличения эффективности ионного азотирования в низкотемпературной газоразрядной плазме тлеющего разряда путем использования электромагнитной системы для одновременного генерирования в камере скрещенных электрических и магнитных полей, а также снижение массогабаритных показателей.
Технический результат - увеличение скорости и эффективности ионного азотирования в низкотемпературной газоразрядной плазме.
Задача решается, а технический результат достигается тем, что установка содержит вакуумную камеру и подключенные к ней форвакуумный насос и блок управления расходом газа, к которому подключены баллоны с газами, электроды для возбуждения тлеющего разряда, установленные в рабочем пространстве камеры, анод и подложка-катод, соединенные с источником питания разряда, в отличие от прототипа содержит электромагнитную систему, установленную под подложкой-катодом, с возможностью одновременного генерирования в камере скрещенных электрических и магнитных полей, обеспечивая формирование тороидальной области вращения электронов, в которой образуется плазма азота повышенной плотности, приводящая к увеличению скорости азотирования деталей.
Сущность заявляемой установки поясняется чертежами:
- на фиг. 1 изображена схема установки для ионного азотирования в плазме тлеющего разряда;
- на фиг. 2 изображена схема установки для ионного азотирования в плазме тлеющего разряда в скрещенных электрических и магнитных полях.
Заявляемая установка для ионного азотирования в плазме тлеющего разряда (фиг. 1 и 2) содержит:
1. Вакуумная камера.
2. Форвакуумный насос.
3. Блок управления расходом газа.
4. Баллоны с газами.
5. Анод.
6. Подложка-катод.
7. Источник питания разряда.
8. Изоляторы.
9. Обрабатываемые детали.
10. Электромагнитная система.
11. Источник питания электромагнитной системы.
Установка для ионного азотирования в плазме тлеющего разряда работает следующим образом:
В камере 1 располагают детали9 на подложке-катоде6, затем откачивают воздух из камеры до5-15 Па, с использованием форвакуумного насоса 2. После откачки воздуха, камеру продувают аргоном до 1000 Па, затем камеру снова откачивают до 5-15 Па и зажигают тлеющий разряд путем подачи на электроды, анод 5 и подложку-катод 6, разности потенциалов при помощи источника питания разряда7. При напряжении 800-1000 В осуществляется ионная очистка поверхности обрабатываемой детали. После 15 минут обработки по режиму катодного распыления напряжение понижают до рабочего, включают форвакуумный насос и откачивают аргон из вакуумной камеры. Далее при помощи блока управления расходом газа3 задают необходимое соотношение газов из баллонов 4, напускают в камеру рабочую смесь до рабочего давления, и проводят процесс ионного азотирования в плазме тлеющего разряда. Для проведения ионного азотирования в плазме тлеющего разряда в скрещенных электрических и магнитных полях, в камере 1 устанавливают электромагнитную систему 10, над которой располагают подложку-катод 6 с обрабатываемыми деталями 9.
Заявляемое изобретение позволяет увеличить скорость и эффективность ионного азотирования в низкотемпературной газоразрядной плазме в 1,5-2 раза за счет образования плазмы азота повышенной плотности в тороидальной области вращения электронов, создаваемая в скрещенных электрических и магнитных полях, что было подтверждено результатами проведенных экспериментов (фиг. 3) над образцами из нержавеющей стали при следующих режимах: Т = 550°С, Р = 50 Па, t = 6 ч. Из графика видно, что после ионного азотирования с магнитным полем (МП), поверхностная твердость и толщина упрочненного слоя увеличились в 1,5-2 раза по сравнению с ионным азотированием без магнитного поля.

Claims (1)

  1. Установка для ионного азотирования в плазме тлеющего разряда, содержащая вакуумную камеру и подключенные к ней форвакуумный насос и блок управления расходом газа, к которому подключены баллоны с газами, электроды для возбуждения тлеющего разряда, установленные в рабочем пространстве камеры, анод и подложка-катод, соединенные с источником питания разряда, отличающаяся тем, что содержит электромагнитную систему, установленную под подложкой-катодом, с возможностью одновременного генерирования в камере скрещенных электрических и магнитных полей, обеспечивая формирование тороидальной области вращения электронов, в которой образуется плазма азота повышенной плотности.
RU2021133396A 2021-11-17 Установка для ионного азотирования в плазме тлеющего разряда RU2777250C1 (ru)

Publications (1)

Publication Number Publication Date
RU2777250C1 true RU2777250C1 (ru) 2022-08-01

Family

ID=

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
RU44980U1 (ru) * 2004-12-27 2005-04-10 Общество с ограниченной ответственностью "НПП "Нитрид" Устройство для управления газонапуском для азотирования
US9694115B2 (en) * 2013-05-30 2017-07-04 Lifetech Scientific (Shenzhen) Co. Ltd. Manufacturing method of iron-based alloy medical apparatus
RU2674532C1 (ru) * 2018-06-15 2018-12-11 Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Кубанский государственный технологический университет" (ФГБОУ ВО "КубГТУ") Вакуумная установка для нанесения наноструктурированного покрытия из материала с эффектом памяти формы на поверхности детали
RU2711064C1 (ru) * 2019-02-05 2020-01-15 федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Уфимский государственный авиационный технический университет" Способ повышения износостойкости детали типа зубчатое колесо
RU2711067C1 (ru) * 2019-02-05 2020-01-15 федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Уфимский государственный авиационный технический университет" Способ ионного азотирования в скрещенных электрических и магнитных полях

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
RU44980U1 (ru) * 2004-12-27 2005-04-10 Общество с ограниченной ответственностью "НПП "Нитрид" Устройство для управления газонапуском для азотирования
US9694115B2 (en) * 2013-05-30 2017-07-04 Lifetech Scientific (Shenzhen) Co. Ltd. Manufacturing method of iron-based alloy medical apparatus
RU2674532C1 (ru) * 2018-06-15 2018-12-11 Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Кубанский государственный технологический университет" (ФГБОУ ВО "КубГТУ") Вакуумная установка для нанесения наноструктурированного покрытия из материала с эффектом памяти формы на поверхности детали
RU2711064C1 (ru) * 2019-02-05 2020-01-15 федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Уфимский государственный авиационный технический университет" Способ повышения износостойкости детали типа зубчатое колесо
RU2711067C1 (ru) * 2019-02-05 2020-01-15 федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Уфимский государственный авиационный технический университет" Способ ионного азотирования в скрещенных электрических и магнитных полях

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US5015493A (en) Process and apparatus for coating conducting pieces using a pulsed glow discharge
CN109797363B (zh) 一种弧光电子源辅助离子氮化工艺
RU2425173C2 (ru) Установка для комбинированной ионно-плазменной обработки
JP2023041914A5 (ja) プラズマ処理装置及びエッチング方法
JPH0543785B2 (ru)
JP2017201611A (ja) プラズマ処理装置
CN101950721B (zh) 表面处理方法
CN101122004A (zh) 一种新型真空表面强化技术和设备
RU2777250C1 (ru) Установка для ионного азотирования в плазме тлеющего разряда
WO2013150639A1 (ja) 硬化層形成装置
JP2021118314A (ja) プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法
RU2686975C1 (ru) Способ ионно-плазменного азотирования изделий из титана или титанового сплава
CN114481009B (zh) 一种阳极高压低温氮化装置
RU2640703C2 (ru) Способ локальной обработки стального изделия при ионном азотировании в магнитном поле
RU2664106C2 (ru) Способ низкотемпературного ионного азотирования стальных деталей
RU2687616C1 (ru) Способ низкотемпературного ионного азотирования титановых сплавов с постоянной прокачкой газовой смеси
RU2711067C1 (ru) Способ ионного азотирования в скрещенных электрических и магнитных полях
Portnov et al. Nitrogening Hammers of the Grain Crusher of the Aknar Poultry Factory
JPS6124467B2 (ru)
RU2312932C2 (ru) Устройство вакуумно-плазменной обработки изделий
RU2611003C1 (ru) Способ ионного азотирования титановых сплавов
Юров et al. Nitrogening hydraulic cylinder rods
RU2413784C1 (ru) Способ ионного азотирования стали
RU2682986C1 (ru) Способ упрочнения стального изделия ионно-плазменной карбонитрацией
UA19782U (en) Method for the surface strengthening steel articles by ion-plasma nitration in pulsing glow discharge