RU2702173C1 - Способ повышения эффективности очистки кремния - Google Patents

Способ повышения эффективности очистки кремния Download PDF

Info

Publication number
RU2702173C1
RU2702173C1 RU2018146000A RU2018146000A RU2702173C1 RU 2702173 C1 RU2702173 C1 RU 2702173C1 RU 2018146000 A RU2018146000 A RU 2018146000A RU 2018146000 A RU2018146000 A RU 2018146000A RU 2702173 C1 RU2702173 C1 RU 2702173C1
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
mixing
silicon
melt
mhd
impurities
Prior art date
Application number
RU2018146000A
Other languages
English (en)
Inventor
Сергей Михайлович Карабанов
Дмитрий Владимирович Суворов
Евгений Владимирович Сливкин
Дмитрий Юрьевич Тарабрин
Андрей Сергеевич Карабанов
Олег Викторович Ерахтин
Татьяна Николаевна Воронина
Олег Александрович Беляков
Андрей Александрович Панов
Original Assignee
Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Рязанский государственный радиотехнический университет"
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Рязанский государственный радиотехнический университет" filed Critical Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Рязанский государственный радиотехнический университет"
Priority to RU2018146000A priority Critical patent/RU2702173C1/ru
Application granted granted Critical
Publication of RU2702173C1 publication Critical patent/RU2702173C1/ru

Links

Images

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01BNON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
    • C01B33/00Silicon; Compounds thereof
    • C01B33/02Silicon
    • C01B33/037Purification
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C22METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
    • C22BPRODUCTION AND REFINING OF METALS; PRETREATMENT OF RAW MATERIALS
    • C22B9/00General processes of refining or remelting of metals; Apparatus for electroslag or arc remelting of metals

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Silicon Compounds (AREA)

Abstract

Изобретение относится к технологии очистки кремния, в частности к получению кремния, используемого для производства фотоэлектрических преобразователей, и может быть использовано для повышения скорости прямой очистки кремния. Сущность изобретения заключается в использовании реверсного магнитогидродинамического (МГД) перемешивания расплава, в ходе которого циклически изменяют направление перемешивания с интервалом времени, соответствующим времени переходного процесса перехода к квазиустановившемуся режиму с установившимся распределением скоростей перемешивания внутри расплава. Техническим результатом является повышение эффективности очистки кремния за счет увеличения интенсивности массообмена внутри жидкой фазы, обеспечиваемой реверсным режимом МГД-перемешивания, при котором достигается сложный турбулентный характер движения расплава. 7 ил.

Description

Изобретение относится к технологии очистки кремния с помощью методов вакуумного рафинирования, плазмотермической и плазмохимической очистки и метода направленной кристаллизации, в частности для получения кремния, используемого для производства фотоэлектрических преобразователей, и может быть использовано для повышения скорости прямой очистки металлургического кремния и снижения конечной стоимости производства без использования экологически опасных технологических операций.
В настоящее время широко распространен способ очистки, основанный на преобразовании металлургического кремния в летучие соединения (силаны), и последующее восстановление кремния в специализированных реакторах (Siemens-процесс, процесс Union Carbide). Данные методы являются экологически опасными по причине образования в ходе производственного процесса значительного количества хлорсиланов. По этой причине в настоящее время получили развитие способы прямой очистки металлургического кремния [1].
Прямая очистка кремния, включает последовательность различных методов, каждая из которых направлена на удаление той или иной группы примесей или конкретной примеси. К таким операциям относятся направленная кристаллизация, вакуумное рафинирование, плазмотермическая и плазмохимическая обработка расплава и т.д. [1]. Метод вакуумного рафинирования обеспечивает удаление из расплава кремния примесей с высоким давлением насыщенных паров (фосфор, натрий, калий, магний, цинк, кальций, алюминий, а также примеси кислорода, удаляющейся в форме моноокиси кремния). Метод плазмотермической очистки является модификацией метода вакуумного рафинирования, основанной на воздействии на поверхность расплава высокотемпературных потоков плазмы. Поток плазмы создает на поверхности расплава кремния локальную область с высокой температурой, с поверхности которой происходит интенсивное испарение примесей с высоким давлением насыщенных паров. Данным методом обеспечивается существенное повышение скорости очистки от примесей с низкой интенсивностью испарения (алюминий, кальций, медь и т.д.). Метод плазмохимической очистки основан на воздействии на поверхность расплава Потока плазмы содержащем химически активные примеси, обеспечивающие перевод примеси бора содержащейся в кремнии в легкоиспаряющиеся соединения. Метод направленной кристаллизации заключается в медленном и управляемом охлаждении расплава с одной стороны расплава (преимущественно снизу) при котором происходит направленное формирование кристаллической фазы, фронт кристаллизации которой перемещается снизу вверх. При этом на границе «расплав-твердое тело» происходит эффективная сегрегация примесей, которые поступают преимущественно в жидкую фазу.
Актуальной является задача повышения скорости удаления примесей из кремния и повышения производительности процессов прямой очистки кремния.
Общим в перечисленных методах прямой очистки кремния является то, что удаление примесей происходит на границе раздела фаз. При этом основным фактором, лимитирующим скорость очистки, является транспорт примесей внутри жидкой фазы к поверхности раздела фаз.
Повышение эффективности очистки обеспечивается путем интенсификации массообмена расплава кремния с поверхностью путем перемешивания. Базовыми способами перемешивания являются механическое перемешивание, барботирование, магнитогидродинамическое перемешивание. По отношению к расплаву кремнию преимущественно применяются барботирование и магнитогидродинамическое перемешивание. Магнитогидродинамическое перемешивание (МГД-перемешивание) обеспечивает возможность управляемого бесконтактного перемешивания больших масс кремния, что обеспечивает ему преимущество по сравнению с методом барботирования.
Существует способ очистки металлургического кремния [1, 2], в котором очистка осуществляется методом плазмохимической очистки в условиях интенсивного МГД-перемешивания индуцируемого ВЧ-индуктором, одновременно используемым для нагрева кремния. Распределение скорости перемешивания, обеспечиваемое единичным ВЧ-индуктором внутри которого помещается расплав кремния имеет форму двух тороидов, расположенных один под другим. При этом направление тороидального вращения верхнего и нижнего тора противоположно. Такая форма перемешивания определяется распределением силы Лоренца, максимум которой приходится на середину тигля по высоте. Недостатком указанного метода является то, что нижняя половина расплава фактически не имеет эффективного массообмена с поверхностью, что снижает эффективность очистки.
Существует способ очистки кремния, в котором расплав кремния располагается только в нижней части индуктора (ниже средины) [3]. При этом обеспечивается такое распределение силы Лоренца в расплаве, что форма поля скоростей принимает форму единичного тора. Направление вращения в данной геометрии всегда неизменно: расплав движется вниз вдоль осевой линии индуктора. Это обусловлено тем, что вращение в данной геометрии обеспечивается за счет неоднородности поля вдоль оси индуктора. Недостатками данного подхода являются, во-первых, невозможность изменения направления вращения, во-вторых низкая эффективность использования энергии электромагнитного поля, в третьих сложность конструктивной реализации и масштабирования, поскольку высота индуктора должна быть минимум в два раза выше высоты тигля.
Данный способ МГД-перемешивания используется и для улучшения качества слитков кремния и рафинирования кремния с использованием метода направленной кристаллизации [4, 5], что обеспечивает снижение концентрации металлических примесей.
Существует способ направленной кристаллизации и улучшения качества слитков кремния в условиях МГД перемешивания бегущим магнитным полем индуцируемым системой трех и более индукторов [6, 7]. Бегущее магнитное поле обеспечивается сдвигом фаз тока в индукторах друг относительно друга. Форма поля скоростей движения расплава кремния имеет форму единичного тора. При этом направление вращения определяется взаимным сдвигом фаз тока в системе индукторов. МГД-перемешивание расплава с использованием бегущего магнитного поля имеет ряд преимуществ. Во-первых, обеспечивается высокая эффективность использования энергии магнитного поля для перемешивания, расплава кремния, во-вторых обеспечивается возможность управления направлением вращения. Бегущее магнитное поле, формируемое системой индукторов широко используется в металлургии при улучшении качества литья [8, 9].
Для методов вакуумного рафинирования, плазмотермической и плазмохимической очистки в условиях МГД-перемешивания удаление примесей из объема расплава кремния происходит на границе раздела фаз «жидкий кремний - газовая фаза (вакуум)». При этом очищается приповерхностный слой жидкого кремния. Для метода направленной кристаллизации в условиях МГД-перемещивания снижение концентрации примесей в растущем кристалле кремния происходит за счет уменьшения концентрации примесей в диффузном слое на границе раздела фаз «кристаллический кремний - жидкий кремний». Общим для указанных способов рафинирования в условиях МГД-перемешивания является транспорт примесей в жидкой фазе к границе раздела фаз. Математическое моделирование процесса очистки показывает, что поскольку поле скоростей имеет форму тора, то слой кремния, обедненный (для вакуумного рафинирования, плазмотермической и плазмохимической очистки), или обогащенный (для направленной кристаллизации) примесями, совершив один оборот по направлению вращения тора, возвращается обратно к той же границе раздела фаз, где произошло обогащение/обеднение. В качестве примера на фиг. 1 представлены результаты математического, моделирования процесса вакуумного рафинирования расплава кремния. Для аксиально-симметричной модели представлены распределения концентрации примеси фосфора в объеме кремния в различные моменты времени, фиг. 1: а - 30 с, б - 100 с, в - 25000 с.
Из фиг. 1 видно, что в процессе очистки в условиях МГД-перемешивания образуется неактивная область внутри тора вращения транспорт примесей из которой на поверхность раздела фаз затруднен и определяется во многом диффузионной составляющей потока. Таким образом, фактор образования неактивной зоны внутри расплава существенно ограничивает интенсивность очистки. Для других способов очистки кремния данная закономерность также справедлива.
Наиболее близким аналогом является способ, описанный в патенте [9]. В патенте предложено устройство и способ направленной кристаллизации кремния в условиях МГД-перемешивания расплава кремния в котором расплав кремния находится в непроводящем тигле, расположенном внутри индукторов, являющихся одновременно и резистивными нагревателями. С помощью сдвига фаз тока в индукторах создается бегущее магнитное поле, обеспечивающее перемешивание расплава кремния. Согласно патенту, кристаллизация осуществляется в условиях МГД-перемешивания, что приводит к улучшению качества получаемых слитков в основном за счет уменьшения концентрации примесей эффективно сегрегирующихся в ходе очистки методом направленной кристаллизации. Способ предполагает только одно направление перемешивания, что снижает эффективность очистки данным методом.
При создании заявляемого изобретения решается задача повышения скорости очистки кремния за счет использовании реверсного МГД-перемешивания.
Сущность изобретения заключается в использовании реверсного МГД-перемешивания расплава, в ходе которого циклически изменяется направление перемешивания с интервалом времени реверса Δt, определяемым временем τ переходного процесса перехода от установившегося режима одного направления перемешивания к установившемуся режиму противоположного направления перемешивания с неизменяющимся распределением скоростей перемешивания внутри расплава. Механизмом изменения направления вращения является смена направления волны бегущего магнитного поля путем одновременного переключения сдвига фаз в МГД-индукторах. Особенностью процесса является взаимосвязь между максимальной скоростью перемешивания расплава и интервалом времени реверса - временем, через которое происходит переключение направления перемешивания.
Результаты математического моделирования процесса очистки в условиях реверсного перемешивания показаны на фиг. 2 и фиг 3. Для аксиально-симметричной модели представлены распределения скорости движения расплава и концентрации примеси фосфора в объеме кремния в различные моменты времени, фиг. 2: а - 1200 с, б - 1300 с, в - 1400 с, фиг. 3 а - 2400 с, б - 2500 с, в - 2600 с.
На фиг. 2 представлена динамика изменения концентрации внутри расплава соответствующая изменению первой смене направления перемешивания расплава. Видно, что при смене направления вращения происходит взаимодействие движущейся по инерции массы расплава кремния с изменившимся объемным распределением силы Лоренца в результате которого происходит сложное движение спиралеобразной формы (фиг. 2 б). В результате этого происходит вытеснение внутреннего неактивного объема тора содержащего максимальное количество примесей к поверхности расплава, где происходит их очистка (фиг. 2 в). Последующая смена направления вращения (фиг. 3) приводит к аналогичному эффекту.
Таким образом, полученные картины распределения показывают, что через некоторое время после изменения направления перемешивания внутри расплава кремния происходит перенос объема кремния из сердцевины тора вращения к его краю. За счет этого, обеспечивается эффективный транспорт примесей к поверхности из глубины расплава. На фиг. 4 представлены результаты расчета изменения средней концентрации примеси фосфора в объеме фосфора во времени при вакуумном рафинировании в режиме стационарного и нестационарного МГД-перемешивания.
Фиг. 4 показывает, что при стационарном перемешивании интенсивность очистки непрерывно замедляется. При нестационарном МГД-перемешивании скорость очистки уменьшается к концу цикла и снова возрастает после смены направления вращения. Таким образом обеспечивается значительно большая интенсивность очистки.
На фиг. 5 представлены зависимости средней концентрации примесей в расплаве кремния от времени при различных режимах нестационарного перемешивания с разным временем реверса. Видно, что использование нестационарного МГД-перемешивания способно обеспечить на 2-3 порядка большую глубину очистки по сравнению с стационарным режимом или сокращение времени процесса в 2-3 раза.
Режим реверсного МГД-перемешивания можно обеспечить периодической сменой направления бегущего магнитного поля. Механизмом практической реализации может являться одновременное переключение сдвига фаз в МГД-индукторах. На фиг. 6 схематично показан пример реализации процесса реверсного МГД-перемешивания для системы из трех индукторов: I, III - стадии квазиустановившегося режима перемешивания имеющие различное направление вращения; II, III. На фиг. 6 позицией 1 обозначен кварцевый тигель, позицией 2 - расплав кремния. Исходной является стадия квазиустановившегося состояния I в которой волна бегущего магнитного поля формируемого системой кольцевых индукторов L1-L2-L3 направлена сверху вниз, что соответствует тороидальному движению расплава вверх по центральной оси. При этом ток в индукторах L1-L2-L3 сдвинут на некоторый угол друг относительно друга на некоторый угол ϕ, что при синусоидальной форме токов в индукторах описывается выражениями:
Figure 00000001
Figure 00000002
Figure 00000003
Далее изменяя взаимное расположение фаз в индукторах L1 и L3 изменяется направление бегущего магнитного поля на противоположное. Форма тока в индукторах при этом соответствует выражениям:
Figure 00000004
Figure 00000005
Figure 00000006
Изменение направления волны бегущего магнитного поля приводит к переходу к описанному выше нестационарному режиму II перемешивания в котором движение расплава имеет сложную форму. Через некоторый промежуток времени направление вращения полностью изменяется на противоположное, что соответствует квазистационарному режиму III. После этого снова изменяется направление бегущего магнитного поля путем изменения взаимного расположения фаз в индукторах L1 и L3. Это приводит к следующему переходному процессу IV соответствующего сложной форме движения расплава кремния. Далее через некоторый промежуток времени направление движения соответствует исходной стадии квазиустановившегося режима I. Процесс реверсного МГД-перемешивания циклически повторяется, что обеспечивает эффективное перемешивание расплава.
Длительность времени перехода τ от одной стадии перемешивания с установившимся распределением скоростей к другой стадии с установившимся распределением скоростей направления зависит от силы Лоренца, которая определяется силой тока в индукторах. Моделирование показывает, что с увеличением силы тока в индукторах увеличивается сила Лоренца и время перехода к установившемуся режиму τ уменьшается. Пример зависимости времени перехода к установившемуся режиму от силы тока в индукторах (по относительному значению) представлен на фиг. 7.
Установлено, что для обеспечения высокой эффективности очистки интервал времени реверса Δt, используемый в ходе реверсного МГД-перемешивания должен определяться временем перехода к установившемуся режиму τ по выражению:
0.35τ≤Δt≤2τ.
Эффективность рафинирования в предлагаемом способе зависит как от величины скоростей движения расплава кремния в условиях МГД-перемешивания, так и от интервала времени реверса Δt, оптимальное значение которого определяется скоростью МГД-перемешивания.
Таким образом, предлагаемое решение по использованию реверсного МГД-перемешивания расплава, в ходе которого циклически изменяется направление перемешивания с интервалом времени, соответствующим времени переходного процесса перехода к квазиустановившемуся режиму приводит к возникновению сложной турбулентой формы движения расплава в ходе всего процесса рафинирования и существенному повышению интенсивности массообмена внутри жидкой фазы. При этом обеспечивается возможность обработки больших объемов кремния. Данное решение может быть использовано в технологии прямой очистки кремния от примесей с целью получения кремния для задач солнечной энергетики, а также для улучшения качества слитков мультикристаллического кремния, получаемых методом направленной кристаллизации.
ЛИТЕРАТУРА
1. Bruno Ceccaroli, Eivind Ovrelid, Sergio Pizzini. Solar Silicon Processes: Technologies, Challenges, and Opportunities 1st Edition. CRC Press, 2016, 272 p.
2. Altenberend, J., Chichignoud, G. & Delannoy, Y. Study of Mass Transfer in Gas Blowing Processes for Silicon Purification. Metallurgical and Materials Transactions E (2017) 4:41
3. Yvon, Alexis & Fourmond, Erwann & Ndzogha, С & Delannoy, Yves & Trassy, Christian. (2003). Inductive Plasma Process For Refining Of Solar Grade Silicon. 125-130. Conference: Proceedings of EPM 2003 4th International Conference on Electromagnetic Processing of Materials.
4. Jafar Safarian, Buhle Xakalashe and Merete Tangstad. VACUUM REMOVAL OF THE IMPURITIES FROM DIFFERENT SILICON MELTS. 26th European Photovoltaic Solar energy conference and exhibition, September 2011, pp.1810-1813.
5. Li, Pengting & Ren, Shiqiang & Jiang, Dachuan & Li, Jiayan & Zhang, Lei & Tan, Yi. (2015). Effect of alternating magnetic field on the removal of metal impurities in silicon ingot by directional solidification. Journal of Crystal Growth. 437.
6. Kudla, Ch & Blumenau, A.T. &
Figure 00000007
, F & Dropka, Natasha & Frank-Rotsch, Christiane & Kiessling, Frank & Klein, О & Lange, P & Miller, W & Rehse, U & Sahr, U & Schellhorn, M & Weidemann, Gerd & Ziem, M & Bethin, G & Fornari, Roberto &
Figure 00000008
, M & Sprekels, J & Trautmann, V & Rudolph, P. (2013). Crystallization of 640 kg mc-silicon ingots under traveling magnetic field by using a heater-magnet module. Journal of Crystal Growth. 365. 54-58.
7. Патент Германии №102009045680
8. Патент США №7972556 (B2)
9. Патент США №8101119 (В2)
10. Патент Германии №102010028173 (В4), МПК С30В 11/003, Forschungsverbund Berlin eV., 2010

Claims (1)

  1. Способ очистки кремния, включающий магнитогидродинамическое перемешивание расплава кремния в процессе очистки с помощью бегущего магнитного поля, формируемого системой индукторов, отличающийся тем, что направление магнитогидродинамического перемешивания циклически изменяют с интервалом времени реверса  Δt, определяемым временем  τ  процесса перехода от установившегося режима одного направления перемешивания к установившемуся режиму противоположного направления перемешивания, при этом величину интервала времени реверса  Δt  выбирают из условия обеспечения  возникновения сложной турбулентой формы движения расплава в ходе процесса очистки для  повышения интенсивности массообмена внутри жидкой фазы, определяемого выражением 0,35τ ≤ Δt ≤ 2τ.
RU2018146000A 2018-12-25 2018-12-25 Способ повышения эффективности очистки кремния RU2702173C1 (ru)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
RU2018146000A RU2702173C1 (ru) 2018-12-25 2018-12-25 Способ повышения эффективности очистки кремния

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
RU2018146000A RU2702173C1 (ru) 2018-12-25 2018-12-25 Способ повышения эффективности очистки кремния

Publications (1)

Publication Number Publication Date
RU2702173C1 true RU2702173C1 (ru) 2019-10-04

Family

ID=68170670

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
RU2018146000A RU2702173C1 (ru) 2018-12-25 2018-12-25 Способ повышения эффективности очистки кремния

Country Status (1)

Country Link
RU (1) RU2702173C1 (ru)

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4612179A (en) * 1985-03-13 1986-09-16 Sri International Process for purification of solid silicon
RU2131843C1 (ru) * 1998-03-30 1999-06-20 Институт геохимии им.Виноградова А.П. СО РАН Способ получения кремния высокой чистоты
RU2159213C2 (ru) * 1999-02-25 2000-11-20 Абдюханов Мансур Абдрахманович Способ очистки кремния и устройство для его осуществления
US20100044934A1 (en) * 2006-11-10 2010-02-25 Shoji Taniguchi Electromagnetic stirrer
WO2010065401A2 (en) * 2008-12-01 2010-06-10 Inductotherm Corp. Purification of silicon by electric induction melting and directional partial cooling of the melt
US9617618B2 (en) * 2012-02-01 2017-04-11 Silicor Materials Inc. Silicon purification mold and method

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4612179A (en) * 1985-03-13 1986-09-16 Sri International Process for purification of solid silicon
RU2131843C1 (ru) * 1998-03-30 1999-06-20 Институт геохимии им.Виноградова А.П. СО РАН Способ получения кремния высокой чистоты
RU2159213C2 (ru) * 1999-02-25 2000-11-20 Абдюханов Мансур Абдрахманович Способ очистки кремния и устройство для его осуществления
US20100044934A1 (en) * 2006-11-10 2010-02-25 Shoji Taniguchi Electromagnetic stirrer
WO2010065401A2 (en) * 2008-12-01 2010-06-10 Inductotherm Corp. Purification of silicon by electric induction melting and directional partial cooling of the melt
US9617618B2 (en) * 2012-02-01 2017-04-11 Silicor Materials Inc. Silicon purification mold and method

Similar Documents

Publication Publication Date Title
Liu et al. Carbon concentration and particle precipitation during directional solidification of multicrystalline silicon for solar cells
Zhang et al. Application of electromagnetic (EM) separation technology to metal refining processes: a review
Yuge et al. Removal of metal impurities in molten silicon by directional solidification with electron beam heating
CN103590103B (zh) 一种多晶硅铸锭炉氩气导流系统及其导流方法
AU2008299523A1 (en) Process for the production of medium and high purity silicon from metallurgical grade silicon
KR102137455B1 (ko) 규소 정제 방법
CN203639530U (zh) 利用稳恒磁场优化金属凝固组织的复合电渣熔铸装置
RU2702173C1 (ru) Способ повышения эффективности очистки кремния
CN203613302U (zh) 一种多晶硅铸锭炉氩气导流系统
RU2325245C2 (ru) Способ и устройство управления потоками в кристаллизаторе непрерывного литья слябов
Qian et al. Enhancing impurities removal from Si by controlling crystal growth in directional solidification refining with Al–Si alloy
CN107385244B (zh) 一种电子束层覆诱导凝固技术高纯化制备镍基高温合金的方法
CN104085893B (zh) 利用Al-Si合金熔体连铸硅提纯装置及方法
CN102586623A (zh) 高纯铝的提取方法和设备
CN104583466A (zh) 硅的受控的定向凝固
Wang et al. Numerical investigation on species transport in electroslag remelting dual alloy ingot
Hu et al. Effects of pulling rate on metal impurity removal during Si refining in Ti-90 wt.% Si alloy directional solidification
JPH10273313A (ja) 多結晶シリコン鋳塊の製造方法
Wang et al. Effect of current on solute transport in electroslag remelting dual alloy ingot
JPH07315827A (ja) シリコンの精製方法および精製装置
CN1597188A (zh) 多功能冷坩埚电磁精确成形与定向凝固装置
JPH05254817A (ja) 多結晶シリコン鋳塊の製造方法
CN104071790B (zh) 电磁搅拌硅合金熔体硅提纯装置及方法
CN110195140A (zh) 一种高纯还原铁真空熔炼垂直连铸生产熔炼纯铁的方法
CN202398799U (zh) 一种施加复合电磁场的高温合金细晶的铸造装置

Legal Events

Date Code Title Description
PD4A Correction of name of patent owner
PC41 Official registration of the transfer of exclusive right

Effective date: 20201214