RU2677354C1 - Испаритель для нанесения покрытий в вакууме - Google Patents
Испаритель для нанесения покрытий в вакууме Download PDFInfo
- Publication number
- RU2677354C1 RU2677354C1 RU2017144322A RU2017144322A RU2677354C1 RU 2677354 C1 RU2677354 C1 RU 2677354C1 RU 2017144322 A RU2017144322 A RU 2017144322A RU 2017144322 A RU2017144322 A RU 2017144322A RU 2677354 C1 RU2677354 C1 RU 2677354C1
- Authority
- RU
- Russia
- Prior art keywords
- coating
- housing
- evaporator
- screen
- vacuum
- Prior art date
Links
- 238000000576 coating method Methods 0.000 title abstract description 38
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 title abstract description 33
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 36
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims description 6
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 claims 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 abstract description 16
- 239000000758 substrate Substances 0.000 abstract description 15
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 abstract description 8
- 239000003989 dielectric material Substances 0.000 abstract description 3
- 238000002207 thermal evaporation Methods 0.000 abstract description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 abstract 1
- 230000037406 food intake Effects 0.000 abstract 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 abstract 1
- 239000010408 film Substances 0.000 description 8
- 239000011364 vaporized material Substances 0.000 description 8
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 7
- LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N silicon monoxide Chemical compound [Si-]#[O+] LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 4
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 3
- 239000011888 foil Substances 0.000 description 3
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 description 3
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 3
- 239000003351 stiffener Substances 0.000 description 3
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 2
- 238000004377 microelectronic Methods 0.000 description 2
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 2
- 239000011819 refractory material Substances 0.000 description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 2
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 2
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 230000003749 cleanliness Effects 0.000 description 1
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 1
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- 239000008187 granular material Substances 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 239000007791 liquid phase Substances 0.000 description 1
- 238000011068 loading method Methods 0.000 description 1
- 238000011089 mechanical engineering Methods 0.000 description 1
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 1
- 239000011253 protective coating Substances 0.000 description 1
- 238000004080 punching Methods 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 230000035939 shock Effects 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 238000000859 sublimation Methods 0.000 description 1
- 230000008022 sublimation Effects 0.000 description 1
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 1
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum atom Chemical compound [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005382 thermal cycling Methods 0.000 description 1
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/24—Vacuum evaporation
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
Изобретение относится к области нанесения покрытий методом термического испарения пленкообразующих материалов, преимущественно диэлектриков, в вакууме, а именно к испарителю, применяемому в вакуумных установках для нанесения покрытий на подложки. Испаритель содержит корпус 1 для испаряемого материала 2, выполненный в виде разрезного цилиндра, имеющего зазор 3 между его продольными кромками. Экран 4 размещен в полости цилиндра в области продольного зазора 3 с образованием канала между корпусом 1 и экраном 4. Расположение экрана 4 в полости корпуса 1 испарителя препятствует прямому попаданию паров 6 и вылетевших частиц испаряемого материала 2 в зазор 3 между продольными кромками разрезанного цилиндра корпуса 1, которые оказываются в квазизамкнутом канале 5, ограниченном разогретыми экраном 4 и корпусом 1. При многократном отражении от разогретых стенок квазизамкнутого канала 5 вылетевшие частицы испаряемого материала 2 доиспаряются, и пар 6 поступает в зазор 3 между продольными кромками цилиндра корпуса 1. За счет этого формируется молекулярный поток 7 паров наносимого материала в направлении подложки. Техническим результатом является повышение качества покрытия за счет исключения попадания на подложку макроскопических частиц испаряемого материала при упрощении изготовления испарителя для нанесения покрытий в вакууме за счет повышения технологичности его конструкции. 1 ил.
Description
Изобретение относится к области нанесения покрытий методом термического испарения пленкообразующих материалов, преимущественно диэлектриков, в вакууме, а именно к резистивным ленточным испарителям, применяемым в вакуумных установках для нанесения покрытий на подложки. Изобретение может быть использовано в оптико-электронном приборостроении для получения покрытий из материалов, испаряющихся посредством сублимации, в частности, на оптических деталях для достижения заданных оптических параметров, таких как отражение, пропускание, поглощение излучения, в радиоэлектронной промышленности для формирования диэлектрических слоев, в различных отраслях промышленности для получения износостойких защитных покрытий, а также покрытий, обладающих эстетическими свойствами.
При нанесении покрытий методом термического испарения ряда материалов, например диэлектриков, существует проблема получения высококачественного покрытия, так как при испарении материалов, имеющих низкую теплопроводность, существует большая вероятность выброса макроскопических частиц, повреждающих и загрязняющих пленку, конденсирующуюся на подложке.
Для испарения материалов, характеризующихся выбросом макроскопических частиц, используют резистивные ленточные испарители лабиринтного типа, содержащие корпус, выполненный в виде коробочки, имеющей боковой и нижний экраны, патрубок для загрузки испаряемого материала в полость корпуса, разделительные экраны, образующие лабиринт, в котором отсеиваются макроскопические частицы, выходной патрубок, через который выходят пары наносимого материала покрытия (Технология полупроводниковых приборов и изделий микроэлектроники. Книга 6. Нанесение пленок в вакууме. В.Е. Минайчев. М.: Высшая школа, 1989, с. 35, рис. 22).
Основным недостатком испарителя лабиринтного типа для нанесения покрытий в вакууме является сложность изготовления испарителя, обусловленная низкой технологичностью его конструкции.
Известны резистивные ленточные испарители коробчатого типа с однослойным экраном [1) Справочник технолога-оптика. Под ред. М.А. Окатова. СПб.: Политехника, 2004, с. 476, рис. 8.3д, рис. 8.3е; 2) Патент CN 20452995 6U, МПК С23С 14/24, опубликован 05.08.2015].
Известные испарители содержат корпус, выполненный в виде коробочки, в которую засыпают испаряемый материал. Сверху коробочка, имеющая ребра жесткости, закрыта однослойным экраном с отверстиями, через которые проходят пары наносимого материала.
Известны также резистивные ленточные испарители коробчатого типа с двухслойным экраном [1) Технология полупроводниковых приборов и изделий микроэлектроники. Книга 6. Нанесение пленок в вакууме. В.Е. Минайчев. М.: Высшая школа, 1989, с. 35, рис. 21; 2) Патент CN 2049187 44U, МПК С23С 14/24, опубликован 30.12.2015].
Данные испарители содержат корпус, выполненный в виде коробочки, имеющей ребра жесткости, двухслойный экран с отверстиями, через которые проходят пары наносимого материала, при этом отверстия на экранах расположены относительно друг друга в шахматном порядке.
Основным недостатком известных испарителей-аналогов является низкое качество нанесенного покрытия, а именно пористость покрытия, невысокий класс чистоты его поверхности. Такие испарители уменьшают выбросы испаряемого материала, но не исключают их полностью. Это обусловлено тем, что в сечении отверстий однослойного или двухслойного экранов с течением времени эксплуатации происходит конденсация испаряемого материала и примесей, а затем, при дальнейшей эксплуатации испарителя, отрыв частиц более крупного размера, в виде кристаллов материала, и попадание их на поверхность подложки, в результате чего пленка, конденсирующаяся на подложке, загрязняется и повреждается с образованием пор. Кроме того, наличие ребер жесткости может привести к прогоранию материала испарителя в местах сгиба, что также приведет к выбросу макрочастиц испаряемого материала и попаданию их на поверхность подложки. Недостатком является также то, что изменение просвета отверстий, выполненных в экранах, изменяет их пропускную способность, что приводит к изменению диаграммы направленности потока паров испаряемого материала, и, следовательно, к неравномерности нанесения покрытия.
Кроме того, недостатком известных испарителей-аналогов является сложность их изготовления, обусловленная низкой технологичностью их конструкции, при этом для изготовления испарителя, необходимо сложное штамповочное оборудование (пресс, матрицы и пуансоны различных типоразмеров, штампы для вырубки отверстий в тугоплавком материале), которое сильно изнашивается, так как испаритель выполнен из тугоплавких материалов (молибден, вольфрам, тантал), имеющих высокую твердость.
Прототипом является испаритель для нанесения покрытий в вакууме, содержащий корпус для испаряемого материала, выполненный в виде разрезного цилиндра, имеющего зазор между его продольными кромками, при этом продольные кромки имеют вертикальные отбортовки (Справочник технолога-оптика. Под общей ред. С.М. Кузнецова и М.А. Окатова. Л.: Машиностроение, Ленингр. отделение, 1983, с. 294, рис. 7.4д).
Основным недостатком испарителя-прототипа является низкое качество нанесенного покрытия из-за прямого пролета макроскопических частиц через зазор между продольными кромками разрезного цилиндра при разбрызгивании испаряемого материала, а также сложность изготовления корпуса испарителя, обусловленная низкой технологичностью его конструкции из-за наличия вертикальных отбортовок.
Задачей изобретения является разработка конструкции испарителя для нанесения покрытий в вакууме, в котором устранены недостатки аналогов и прототипа.
Техническим результатом является повышение качества покрытия за счет исключения попадания на подложку макроскопических частиц испаряемого материала при упрощении изготовления испарителя для нанесения покрытий в вакууме за счет повышения технологичности его конструкции.
Технический результат достигается тем, что испаритель для нанесения покрытий в вакууме, содержащий корпус для испаряемого материала, выполненный в виде разрезного цилиндра, имеющего зазор между его продольными кромками, согласно настоящему изобретению, дополнительно содержит экран, размещенный в полости цилиндра в области продольного зазора с образованием канала между корпусом и экраном.
На фиг. 1 изображен предлагаемый испаритель для нанесения покрытий в вакууме (поперечный разрез).
На фиг. 1 элементы испарителя для нанесения покрытий в вакууме обозначены следующими позициями:
1 - корпус, выполненный в виде разрезного цилиндра,
2 - испаряемый материал,
3 - зазор между продольными кромками разрезного цилиндра,
4 - экран,
5 - канал между корпусом и экраном,
6 - пары испаряемого материала,
7 - молекулярный поток паров наносимого материала.
Испаритель для нанесения покрытий в вакууме содержит корпус 1 для испаряемого материала 2, выполненный в виде разрезного цилиндра. Разрезной цилиндр (корпус 1) имеет зазор 3 между его продольными кромками (продольный зазор 3).
Отличием предлагаемого испарителя является то, что он дополнительно содержит экран 4, размещенный в полости корпуса 1 в области продольного зазора 3 с образованием канала 5 между корпусом 1 и экраном 4.
Пример конкретного выполнения.
По предлагаемому техническому решению изготовлен испаритель, использованный для получения тонких пленок моноокиси кремния (SiO) на оптической детали из кварца диаметром 30 мм. Корпус 1 испарителя выполнен в виде разрезного цилиндра диаметром 18 мм (из молибденовой фольги толщиной 0,1 мм, длиной 100 мм), в полости которого в области продольного зазора 3 расположен экран 4 из молибденовой фольги толщиной 0,1 мм, длиной 100 мм и шириной 12 мм с образованием канала 5 между корпусом 1 и экраном 4. Размер h канала 5 выбирается в диапазоне от 0,5 мм до 1,0 мм.
Нанесение покрытия осуществлялось на оптические детали в вакуумной установке. Толщина и скорость нанесения пленки, контролировалась с помощью прецизионного кварцевого резонатора.
На полученных покрытиях поглощение линии воды на 2,94 мкм не наблюдается, что говорит о низком значении пористости в тонких пленках моноокиси кремния. Отсутствуют дефекты покрытия. Покрытие соответствует требованиям ГОСТ 11141-84.
После нанесения покрытия, опытные экземпляры помещались в климатическую камеру, и в течении 30 суток выдерживались при температуре 35°С и относительной влажности 98%.
Нарушения целостности и изменения оптических характеристик не наблюдалось. Опытные образцы выдержали десять циклов термоциклирования, при перепаде температур от минус 60°С до плюс 70°С, а также термоудар ±60°С.
Полученные покрытия характеризуются нулевой группой механической устойчивости к жестким воздействиям окружающей среды по ОСТ 3-1901-95, что говорит о высоком качестве полученных пленок.
Испаритель для нанесения покрытий работает следующим образом.
Перед началом работы испарителя внутрь корпуса 1 помещается испаряемый материал 2 в виде гранул или таблеток (фиг.1). Из камеры вакуумной установки откачивают воздух до давления остаточных газов 10-3-10-5 Па. На контактные зажимы (на фиг.1 не показаны) подают ток, при прохождении которого через экран 4 и корпус 1 испарителя происходит резистивный нагрев вследствие низкого сопротивления экрана 4 и корпуса 1 испарителя и нагрев испаряемого материала 2, который в свою очередь нагревается и, минуя жидкую фазу, переходит из твердого состояния в газообразное. При этом внутри корпуса 1 испарителя создается избыточное давление паров 6 испаряемого материала в канал 5. Расположение экрана 4 в полости корпуса 1 испарителя препятствует прямому попаданию паров 6 и вылетевших частиц испаряемого материала 2 в зазор 3 между продольными кромками разрезного цилиндра корпуса 1, которые оказываются в квазизамкнутом канале 5, ограниченном разогретыми экраном 4 и корпусом 1.
При многократном отражении от разогретых стенок квазизамкнутого канала 5 вылетевшие частицы испаряемого материала 2 доиспаряются, и пар 6 поступает в зазор 3 между продольными кромками разрезного цилиндра корпуса 1, при этом формируется молекулярный поток 7 паров наносимого материала в направлении подложки.
Пары наносимого материала осаждаются на поверхность подложки в виде однородной пленки. Кроме того, недоиспаренные макрочастицы испаряемого материала 2 в канале 5 приобретают тангенциальное ускорение, что в свою очередь препятствует их попаданию на поверхность подложки.
Взаимное расположение корпуса 1 и экрана 4, температура которого равна температуре испарения пленкообразующего материала, снижает возможные выбросы макроскопических частиц испаряемого материала 2 и исключает их попадание на подложку в силу того, что экран 4 препятствует вертикальному вылету макроскопических частиц испаряемого материала 2, препятствует конденсации испаряемого материала 2 в канале 5 на поверхности экрана 4 и корпуса 1, вследствие чего сводится к минимуму возможность получения дефектного покрытия на подложке, а также обеспечивает постоянную диаграмму направленности молекулярного потока пара и перемешивание пара, посредством чего достигается равномерность осаждаемой пленки. За счет этого достигается высокое качество покрытия, а именно -чистота, однородность и равномерность нанесения покрытия.
Отсутствие сгибов фольги не требует штамповки ребер жесткости, так как нет деформаций, связанных с нагревом, что в свою очередь упрощает изготовление и повышает надежность испарителя, а также способствует повторяемости результатов напыления, так как не изменяется диаграмма направленности молекулярного потока пара.
Использование предлагаемого испарителя для нанесения покрытий в вакууме позволит повысить качество нанесенного покрытия, а именно чистоту, однородность и равномерность нанесения покрытия, за счет исключения попадания на подложку макроскопических частиц испаряемого материала, а также упростить изготовление испарителя за счет технологичности его конструкции, в которой отсутствуют элементы, изготовленные методом штамповки.
Claims (1)
- Испаритель для нанесения покрытий в вакууме, содержащий корпус для испаряемого материала, выполненный в виде разрезанного цилиндра, имеющего зазор между его продольными кромками, отличающийся тем, что он дополнительно содержит экран, размещенный в полости цилиндра в области продольного зазора с образованием канала между корпусом и экраном.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| RU2017144322A RU2677354C1 (ru) | 2017-12-18 | 2017-12-18 | Испаритель для нанесения покрытий в вакууме |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| RU2017144322A RU2677354C1 (ru) | 2017-12-18 | 2017-12-18 | Испаритель для нанесения покрытий в вакууме |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| RU2677354C1 true RU2677354C1 (ru) | 2019-01-16 |
Family
ID=65025364
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| RU2017144322A RU2677354C1 (ru) | 2017-12-18 | 2017-12-18 | Испаритель для нанесения покрытий в вакууме |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| RU (1) | RU2677354C1 (ru) |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| RU76918U1 (ru) * | 2008-05-04 | 2008-10-10 | Общество с ограниченной ответственностью "Научно-производственное предприятие "Уралавиаспецтехнология" | Вакуумная ионно-плазменная установка |
| RU2453628C1 (ru) * | 2011-01-12 | 2012-06-20 | Государственное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Кубанский государственный технологический университет" (ГОУ ВПО "КубГТУ") | Устройство для нанесения покрытий на диэлектрики в разряде |
| RU135318U1 (ru) * | 2013-04-05 | 2013-12-10 | Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Московский государственный технологический университет "СТАНКИН" (ФГБОУ ВПО МГТУ "СТАНКИН") | Установка для нанесения покрытий |
| RU2510428C1 (ru) * | 2013-03-15 | 2014-03-27 | Федеральное Государственное Унитарное Предприятие "Научно-Производственное Объединение "Техномаш" | Электродуговой испаритель металлов и сплавов |
-
2017
- 2017-12-18 RU RU2017144322A patent/RU2677354C1/ru active
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| RU76918U1 (ru) * | 2008-05-04 | 2008-10-10 | Общество с ограниченной ответственностью "Научно-производственное предприятие "Уралавиаспецтехнология" | Вакуумная ионно-плазменная установка |
| RU2453628C1 (ru) * | 2011-01-12 | 2012-06-20 | Государственное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Кубанский государственный технологический университет" (ГОУ ВПО "КубГТУ") | Устройство для нанесения покрытий на диэлектрики в разряде |
| RU2510428C1 (ru) * | 2013-03-15 | 2014-03-27 | Федеральное Государственное Унитарное Предприятие "Научно-Производственное Объединение "Техномаш" | Электродуговой испаритель металлов и сплавов |
| RU135318U1 (ru) * | 2013-04-05 | 2013-12-10 | Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Московский государственный технологический университет "СТАНКИН" (ФГБОУ ВПО МГТУ "СТАНКИН") | Установка для нанесения покрытий |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US20060032737A1 (en) | Magnetron sputtering device, a cylindrical cathode and a method of coating thin multicomponent films on a substrate | |
| KR101638765B1 (ko) | 반응성 증착 프로세스를 위한 가스 시스템 | |
| GB1014245A (en) | Improvements in or relating to apparatus for vapor deposition | |
| US20070089676A1 (en) | Arrangement for the vapor deposition on substrates | |
| JPH0377873B2 (ru) | ||
| US7541070B2 (en) | Method of vapor-depositing strip-shaped substrates with a transparent barrier layer made of aluminum oxide | |
| US3540926A (en) | Nitride insulating films deposited by reactive evaporation | |
| RU2677354C1 (ru) | Испаритель для нанесения покрытий в вакууме | |
| US20160284614A1 (en) | Method for manufacturing organic el display device, and film thickness measuring device | |
| RU180391U1 (ru) | Испаритель для нанесения покрытий в вакууме | |
| KR100583795B1 (ko) | 일산화 규소 증착 재료 및 그 제조 방법 | |
| CN1955331A (zh) | 用于在基底上气相沉积的设备 | |
| TW201221681A (en) | Sputtering device | |
| JP2021527168A (ja) | 基板コーティング用真空蒸着設備及び方法 | |
| TW202210647A (zh) | 氣相沉積設備及在真空腔室中塗覆基板的方法 | |
| RU2755324C1 (ru) | Установка для вакуумного осаждения и способ нанесения покрытия на подложку | |
| KR100711488B1 (ko) | 알루미늄-마그네슘 합금 피막의 제조방법 | |
| US5449535A (en) | Light controlled vapor deposition | |
| GB2146046A (en) | Evaporation cell | |
| RU2741042C1 (ru) | Устройство для вакуумного нанесения покрытия и способ нанесения покрытия на подложку | |
| JP6975972B2 (ja) | Ｙｆ３成膜体の製造方法 | |
| RU818201C (ru) | Способ нанесени вакуумных покрытий на подложки с развитой поверхностью | |
| Zoeller et al. | Plasma-ion-assisted deposition: investigation of film stress | |
| RU2815055C2 (ru) | Испарительное устройство для системы вакуумного осаждения, способ и устройство для осаждения пленки материала | |
| KR20140106143A (ko) | 내지문 박막 증착용 보트 |