RU2373050C2 - Способ обработки алмаза - Google Patents

Способ обработки алмаза Download PDF

Info

Publication number
RU2373050C2
RU2373050C2 RU2006111329/03A RU2006111329A RU2373050C2 RU 2373050 C2 RU2373050 C2 RU 2373050C2 RU 2006111329/03 A RU2006111329/03 A RU 2006111329/03A RU 2006111329 A RU2006111329 A RU 2006111329A RU 2373050 C2 RU2373050 C2 RU 2373050C2
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
diamond
processing
temperature
disk
speed
Prior art date
Application number
RU2006111329/03A
Other languages
English (en)
Other versions
RU2006111329A (ru
Inventor
Павел Павлович Шамаев (RU)
Павел Павлович Шамаев
Владимир Владимирович Ботвин (RU)
Владимир Владимирович Ботвин
Анна Саввична Григорьева (RU)
Анна Саввична Григорьева
Original Assignee
Общество с ограниченной ответственностью "Научно-производственное предприятие "Фрамезит"
Институт геологии алмаза и благородных металлов СО РАН
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Общество с ограниченной ответственностью "Научно-производственное предприятие "Фрамезит", Институт геологии алмаза и благородных металлов СО РАН filed Critical Общество с ограниченной ответственностью "Научно-производственное предприятие "Фрамезит"
Priority to RU2006111329/03A priority Critical patent/RU2373050C2/ru
Publication of RU2006111329A publication Critical patent/RU2006111329A/ru
Application granted granted Critical
Publication of RU2373050C2 publication Critical patent/RU2373050C2/ru

Links

Images

Landscapes

  • Polishing Bodies And Polishing Tools (AREA)

Abstract

Изобретение относится к способам обработки алмаза механическим методом с использованием абразивного порошка. Техническим результатом является повышение скорости обработки алмаза. Способ включает обработку алмаза вращающимся металлическим диском, содержащим абразивный порошок. При этом обрабатываемый алмаз приводят в контакт с алмазообрабатывающим диском и нагревают до температуры чуть ниже температуры графитизации алмаза на воздухе, до 680°С. Причем в процессе обработки алмаза осуществляют кратковременные периодические перегревы алмаза до температуры 750°С. 1 з.п. ф-лы, 1 табл., 1 ил.

Description

Изобретение относится к способам обработки алмаза механическим методом с использованием абразивного порошка. Областью применения является гранильная промышленность, особенно эффективно способ может использоваться при обработке поликристаллических агрегатов алмаза.
Известны способы обработки алмаза термическими методами. Одним из первых является изобретение «Способ полирования алмазов» по а.с. СССР №51148 [1]. Существенными признаками изобретения, в соответствии с его формулой, является то, что полирование ведут без охлаждения и без абразивного зерна на полировальном инструменте из более мягкого материала, чем алмаз.
В описании изобретения указано, что нагрев алмаза осуществляется за счет его трения с полировальником. Не исключается и дополнительный нагрев алмаза. В формуле и в описании изобретения не конкретизированы такие существенные признаки способа, как температурные интервалы обработки, материал диска (полировальника), скорость вращения полировальника и режимы давления алмаза на полировальник. Между тем, достижение нагрева алмаза до температуры 550-600°С за счет трения алмаза с алмазообрабатывающим диском затруднительно, предъявляет определенные требования к материалу диска, силе прижима алмаза к диску и скорости вращения диска. Таким образом, изобретение по а.с. СССР №51148 представляет не проверенную экспериментами идею, работоспособность которой проблематична. Кроме того, отсутствие в формуле существенных признаков объекта как способа обработки непомерно раздувает объем изобретения. Так как алмаз является самым твердым материалом, по изобретению №51148 алмаз можно обрабатывать без абразива любым известным материалом, что противоречит фактам.
Наиболее близким к предлагаемому изобретению является способ обработки алмаза вращающимся металлическим диском, содержащим абразивный порошок [2]. В данном способе, принятом за прототип, скорость обработки зависит от скорости вращения алмазообрабатывающего диска, от силы прижима обрабатываемого алмаза к диску, от физико-механических свойств алмазного абразивного порошка. Основным недостатком способа является невысокая скорость обработки алмаза. Указанным способом кристалл алмаза по плоскости октаэдра, по так называемому твердому направлению кристалла, обрабатывается с исключительно малой скоростью. Это приводит к затруднениям при обработке поликристаллических агрегатов (спеков) алмаза. Из-за хаотического расположения частиц (кристалликов) агрегата при его обработке всегда найдутся частицы (кристаллики), ориентированные твердыми направлениями.
Целью предлагаемого изобретения является повышение скорости обработки алмаза. Для достижения указанной цели алмаз в процессе обработки нагревают до температуры чуть ниже температуры графитизации алмаза на воздухе, до 680°С.
Еще сильное повышение скорости шлифования алмаза достигают при кратковременных перегревах алмаза до температуры 750°С.
Дополнительный нагрев кристалла алмаза позволяет проводить обработку алмаза диском, содержащим менее твердый, чем алмаз, абразивный порошок, например карборунд, карбиды металлов.
В опытах по шлифованию алмаза применяли специальную технологическую оснастку - приспособление для шлифования кристаллов алмаза с электроподогреваемой оправкой. Температура измерялась и регулировалась с точностью до ±10°C. Постоянство давления кристалла на диск достигалось грузом на приспособление для шлифования F=22,5 H; Р=5,4 МПа. Результаты опытов приведены в таблице и на графике.
Таблица
Т, °С t (мин) m (мг) П ПT120
1 120 45 0,8 2,13 1
2 300 45 0,85 2,27 1,07
3 400 45 1,25 3,34 1,57
4 500 45 1,20 3,20 1,50
5 600 45 4,10 10,95 5,14
6 680 15 3,0 24,04 11,3
П - производительность шлифования кар/ мин·мм2.
Опыты показали, что при температурах 400-500°С скорость шлифования повышается только до 1,5 раза. Резкое повышение скорости до 11 раз наблюдается при температурах 600-680°С. Это можно объяснить наличием какого-то энергетического барьера в процессе разрушения (обработки) кристалла алмаза. Данные об изменении скорости шлифования при 750°С не приведены в таблице результатов опытов из-за недостаточной их сходимости. При кратковременных опытах получены данные о 20-30-кратном повышении скорости шлифования. Значительная графитизация алмаза на воздухе наблюдается при температурах выше 750°С. Но это происходит с необрабатываемыми кристаллами. При шлифовании, вероятно, температура интенсивной графитизации понижается вследствие воздействия механохимических эффектов. Возможно, эти же эффекты позволяют проводить обработку алмаза не меньшей, чем с алмазным абразивом, скоростью более мягкими, чем алмаз, абразивами при температурах 600-750°С.
1. А.с. 51148 СССР. Способ полирования алмазов / Валов А.А., Гребенщиков И.В. Опубл. 1937. Бюл. №5-6. С.39.
2. В.И.Епифанов, А.Я.Песина, Л.В.Зыков. Технология обработки алмазов в бриллианты. М: Высшая школа, 1987. С.335.

Claims (2)

1. Способ обработки алмаза вращающимся металлическим диском, содержащим абразивный порошок, отличающийся тем, что, с целью повышения скорости обработки алмаза, обрабатываемый алмаз приводят в контакт с алмазообрабатывающим диском и нагревают до температуры чуть ниже температуры графитизации алмаза на воздухе до 680°С, причем в процессе обработки алмаза осуществляют кратковременные периодические перегревы алмаза до температуры 750°С.
2. Способ по п.1, отличающийся тем, что в качестве абразива кроме алмазного порошка можно использовать порошки из более мягкого материала, например карборунда или карбидов металлов.
RU2006111329/03A 2006-04-06 2006-04-06 Способ обработки алмаза RU2373050C2 (ru)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
RU2006111329/03A RU2373050C2 (ru) 2006-04-06 2006-04-06 Способ обработки алмаза

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
RU2006111329/03A RU2373050C2 (ru) 2006-04-06 2006-04-06 Способ обработки алмаза

Publications (2)

Publication Number Publication Date
RU2006111329A RU2006111329A (ru) 2007-10-27
RU2373050C2 true RU2373050C2 (ru) 2009-11-20

Family

ID=38955359

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
RU2006111329/03A RU2373050C2 (ru) 2006-04-06 2006-04-06 Способ обработки алмаза

Country Status (1)

Country Link
RU (1) RU2373050C2 (ru)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
RU2543392C2 (ru) * 2012-11-12 2015-02-27 Владимир Юрьевич Карасев Способ обработки алмазов
RU2620392C1 (ru) * 2016-03-22 2017-05-25 Константин Сергеевич Петросов Способ бесконтактной обработки поверхности алмазов

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
ЕПИФАНОВ В.И. И ДР., Технология обработки алмазов в бриллианты. - М.: Высшая школа, 1987, с.187-195. *

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
RU2543392C2 (ru) * 2012-11-12 2015-02-27 Владимир Юрьевич Карасев Способ обработки алмазов
RU2620392C1 (ru) * 2016-03-22 2017-05-25 Константин Сергеевич Петросов Способ бесконтактной обработки поверхности алмазов

Also Published As

Publication number Publication date
RU2006111329A (ru) 2007-10-27

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4646638B2 (ja) 表面研磨加工法及び加工装置
US10269554B2 (en) Method for manufacturing SiC epitaxial wafer and SiC epitaxial wafer
JP2010089170A (ja) 球状体の研磨装置、球状体の研磨方法および球状部材の製造方法
KR102365066B1 (ko) 다이아몬드 복합 cmp 패드 조절기
WO2018198583A1 (ja) シリコンウエーハの研磨方法
RU2373050C2 (ru) Способ обработки алмаза
JP6352174B2 (ja) 炭化珪素単結晶インゴットの側面加工方法
JPH0734063A (ja) 亜酸化ホウ素を含む組成物を用いて研磨する方法
WO2004053456A3 (en) Method using multi-component colloidal abrasives for cmp processing of semiconductor and optical materials
EA200300269A1 (ru) Абразивный материал из алмазных частиц и способ его изготовления
JP5997235B2 (ja) 複合砥粒とその製造方法と研磨方法と研磨装置
US20180237945A1 (en) Spherical diamond and manufacturing method for same
TWM500653U (zh) 硏磨系統及硏磨墊的組合
TW201501870A (zh) 高硬度脆性材料之硏削用硏磨石
JP2008200780A (ja) 混合砥粒砥石
US20150059256A1 (en) Abrasive article and method of forming
TWI732823B (zh) 複合粒子的製造方法
Makarov et al. Optimal cutting time and speed in abrasive lapping of ceramic
WO2018155168A1 (ja) 炭化ケイ素基板の研磨方法
JP2016198878A (ja) 砥石、加工装置、被加工物の加工方法
JP6792554B2 (ja) 研磨砥粒、研磨スラリーおよび硬脆材の研磨方法、ならびに硬脆材の製造方法
Yamaguchi et al. Study on lapping and constant-pressure grinding of single-crystal SiC
JP2015199138A (ja) 砥石、研磨装置、研磨方法およびセラミックス部材の製造方法
JPH03228578A (ja) ビトリファイド超砥粒砥石
Dai et al. Experimental Study on Porous Metal Bonded Diamond Grinding Wheels (II)─ Grinding Performance of Porous Wheels

Legal Events

Date Code Title Description
MM4A The patent is invalid due to non-payment of fees

Effective date: 20090407