RU2232832C1 - Устройство для выращивания монокристаллов сапфира - Google Patents
Устройство для выращивания монокристаллов сапфира Download PDFInfo
- Publication number
- RU2232832C1 RU2232832C1 RU2003116077/15A RU2003116077A RU2232832C1 RU 2232832 C1 RU2232832 C1 RU 2232832C1 RU 2003116077/15 A RU2003116077/15 A RU 2003116077/15A RU 2003116077 A RU2003116077 A RU 2003116077A RU 2232832 C1 RU2232832 C1 RU 2232832C1
- Authority
- RU
- Russia
- Prior art keywords
- king
- crucible
- pot
- sapphire
- volume
- Prior art date
Links
Landscapes
- Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
Abstract
Изобретение относится к области выращивания монокристаллов из расплавов и может быть использовано для создания устройств для выращивания монокристаллов сапфира. Сущность изобретения заключается в том, что в устройстве для выращивания монокристаллов сапфира, содержащем установленные в вакуумной камере экраны, нагреватель, затравкодержатель с закрепленным в нем затравочным кристаллом, тигель с крышкой и формообразователем, системы регулирования скорости подъема затравочного кристалла и мощности нагревателя, на крышке камеры укреплен бункер, выполненный в виде цилиндра с конусообразной верхней и нижней частью, объем цилиндра равен объему тигля, нижняя часть содержит запорный клапан в виде усеченного конуса, на верхней части бункера установлен сильфон, который соединен с запорным клапаном с помощью штока, снабженного механизмом ручного или автоматического перемещения, нижняя часть бункера герметично вставлена в трубку для подачи исходного порошкообразного материала, опущенную в тигель через отверстие в крышке тигля. Нижний конец трубки расположен ниже кромки тигля на глубине, соответствующей 0,20-0,25 высоты тигля, а расстояние между осями трубки и тигля составляет 0,20-0,30 диаметра тигля. Техническим результатом изобретения является возможность переработки дешевого порошкообразного оксида алюминия альфа-модификации в виде пудры, сокращение энергозатрат на расплавление исходного сырья и повышение производительности за счет увеличения объема расплава в одном процессе. 1 ил.
Description
Изобретение относится к области выращивания монокристаллов из расплавов методом направленной кристаллизации и может быть использовано для создания устройств для выращивания монокристаллов сапфира.
Технической задачей, решаемой изобретением, является снижение себестоимости получаемых кристаллов, используемых преимущественно в оптоэлектронике.
Известно устройство для выращивания монокристаллов на основе сложных окислов, например, для выращивания алюмоиттриевых гранатов. Устройство представляет собой герметичную камеру, в которое установлены шток с присоединенной к нему затравкой с возможностью вертикального перемещения и вращения, водоохлаждаемый индуктор, соединенный с источником индукционного нагрева, водоохлаждаемое дно, выполненное в виде спирали, тигель, выполненный с отверстием в донной части и зафиксированный внутри индуктора в неподвижном положении, загрузочное устройство в виде герметичного бункера с механизмом подачи шихты и подающей трубкой. Внутренний объем тигля заполнен расплавом, из которого выращивают кристалл, причем расплав в процессе роста поступает в тигель через донное отверстие из дополнительного объема, образованного зазором между тиглем и индуктором. Первоначально ведут загрузку тигля и дополнительного объема и расплавляют шихту. В процессе роста ведут дошихтовку через подающую трубку в дополнительный объем, из которого образующийся расплав поступает в тигель через донное отверстие. Это устройство не может быть использовано для получения монокристаллов сапфира из-за повышенного содержания примесей. Кроме того, порошкообразное сырье для алюмоиттриевых гранатов представляет собой крупнозернистый (гранулированный) продукт. (А.с. 904347, С 30 В 15/12, опубл. 1993 г.)
Известно устройство для выращивания монокристаллов сапфира, содержащее установленные в вакуумной камере экраны, нагреватель, тигель с формообразователем, затравкодержатель с закрепленным в нем затравочным кристаллом сапфира, системы регулирования скорости подъема затравочного кристалла и мощности нагревателя. (Евразийский патент 003419, С 30 В 17/00, 29/20, 2002 г.)
Данное устройство предусматривает загрузку сырья до начала процесса, а в качестве сырья используют кусковые отходы производства по Вернейлю. Другие виды исходных материалов, например, порошкообразные, не могут быть переработаны в данном устройстве. Плавление кусковых отходов требует повышенных энергозатрат в связи с неизбежным перегревом, связанным с наличием пустот при заполнении тигля. Кроме того, кусковые отходы производства по Вернейлю имеют значительную стоимость.
В настоящее время сапфиры используются не только в микроэлектронике, предъявляющей высокие требования по кристаллографическим характеристикам, но и в других областях, где особенно важной является себестоимость продукта. Техническим результатом изобретения является возможность переработки дешевого порошкообразного оксида алюминия альфа-модификации в виде пудры, сокращение энергозатрат на расплавление исходного сырья и повышение производительности за счет увеличения объема расплава в одном процессе.
Технический результат достигается тем, что в устройстве для выращивания монокристаллов сапфира, содержащем установленные в вакуумной камере экраны, нагреватель, затравкодержатель с закрепленным в нем затравочным кристаллом, тигель с крышкой и формообразователем, системы регулирования скорости подъема затравочного кристалла и мощности нагревателя, согласно изобретению на крышке камеры укреплен бункер, выполненный в виде цилиндра с конусообразной верхней и нижней частью, объем цилиндра равен объему тигля, нижняя часть содержит запорный клапан в виде усеченного конуса, на верхней части бункера установлен сильфон, который соединен с запорным клапаном с помощью штока, снабженного механизмом ручного или автоматического перемещения, нижняя часть бункера герметично вставлена в трубку для подачи исходного порошкообразного материала, опущенную в тигель через отверстие в крышке тигля, а также тем, что нижний конец трубки расположен ниже кромки тигля на глубине, соответствующей 0,20-0,25 высоты тигля, а расстояние между осями трубки и тигля составляет 0,20-0,30 диаметра тигля.
Сущность изобретения заключается в том, что предложено новое конструктивное выполнение загрузочного узла устройства для выращивания монокристаллов и новое взаимное расположение его элементов, а именно расположение загрузочной трубки по высоте и по диаметру тигля. Заявленная конструкция загрузочного узла позволяет использовать в качестве исходного сырья ранее неиспользуемую пудру оксида алюминия, осуществлять дозагрузку тигля в процессе плавления с максимальной технологичностью операций (отсутствие пыления, увеличение скорости и равномерности расплавления, возможность максимального заполнения объема тигля и сокращение времени на эту операцию).
Пудру оксида алюминия альфа-модификации получают в процессе испарения алюмоаммонистых квасцов (ААК).
Отклонение от заявленных параметров размещения трубки приводит к увеличению времени и равномерности расплавления и, соответственно, к увеличению энергозатрат и к сокращению объема расплава.
Заявленное устройство схематически изображено на чертеже.
Устройство содержит вакуумную камеру 1 с крышкой 2, размешенные внутри камеры 1 нагреватель 3, верхний и нижний экраны 4, системы регулирования скорости подъема затравочного кристалла и мощности нагревателя (на чертеже не показаны), тигель 5 с цилиндрическим формообразователем 6 и крышкой 7. На крышке 2 камеры 1 установлен затравкодержатель 8, бункер 9, снабженный запорным клапаном 10, сильфоном 11 и трубкой 12 для засыпки исходного материала с помощью штока 13 в тигель 5.
Работа устройства осуществляется следующим образом. В камере 1 с крышкой 2 размещают нагреватель 3, верхние и нижние экраны 4, системы регулирования скорости подъема затравочного кристалла и мощности нагревателя (на чертеже не показаны), тигель 5 с цилиндрическим формообразователем 6 и с крышкой 7. Загружают в тигель 5 исходный продукт в виде α-кристаллов оксида алюминия, например, полученных методом Вернейля, в количестве не более 10% от веса планируемой загрузки, устанавливают затравкодержатель 8 с затравочным кристаллом.
В установленный на крышке 2 камеры 1 бункер 9, снабженный запорным клапаном 10 и сильфоном 11, засыпают порошок Аl2О3 альфа-модификации в виде пудры, частицы которой имеют размер от 2 до 10 мкм. Вес этого порошка составляет ~90% от суммарно необходимого. После закрытия камеры 1 и получения в ней необходимого вакуума (~1×10-5 мм рт. ст.) исходный продукт, предварительно загруженный на дно тигля 5, плавят с помощью нагревателя 3. Последующие порции расплава получают путем непрерывной или порционной досыпки пудры из бункера 9 через трубку 12 с помощью запорного клапана 10 и штока 13, снабженного механизмом автоматического или ручного перемещения (на чертеже не показан). Поскольку удельный вес конечного продукта - кристалла сапфира - составляет 4 г/см3, а расплава 3 г/см3, то крышка 7, установленная на тигле 5, не мешает росту кристалла в объеме тигля, так как последний при переходе расплава в твердую фазу остается незаполненным приблизительно на 30%.
Поскольку бункер 9 и камера 1 между собой соединены единым вакуумным пространством, которое обеспечено сильфоном 11, то в процессе досыпки пудры в тигель не происходит ее пыления, что бывает характерно для процессов с использованием порошкообразного сырья, особенно в условиях вакуума. Расход мощности на плавление минимизируется, поскольку в этом случае практически отсутствуют пустоты (зазоры) между частицами исходного продукта. Пудра, подаваемая из бункера 9, попадает в тонкий слой расплава и переходит в него, причем скорость непрерывной или порционной подачи может быть синхронизирована со скоростью перехода пудры в расплав. Приемы выращивания после расплавления всего исходного продукта являются стандартными.
В заявленном устройстве выращен монокристалл массой 12 кг с техническими характеристиками, соответствующими требованиям оптоэлектроники, и выходом годного не ниже 50%. За счет использования дешевого сырья себестоимость получаемого кристалла снижается не менее чем на 20%. Кроме того, дополнительное снижение себестоимости достигается за счет снижения расхода электроэнергии на стадии плавления приблизительно на 15%. Таким образом, заявленное изобретение позволяет обеспечить:
- вовлечение в производство монокристаллов сапфира практически не используемого ранее дешевого порошкообразного оксида алюминия;
- существенное снижение себестоимости получаемых кристаллов за счет использования дешевого материала в количестве не менее 90% от необходимого;
- снижение энергоемкости процесса на стадии получения расплава при сохранении показателей по выходу годного.
Claims (1)
- Устройство для выращивания монокристаллов сапфира, содержащее установленные в вакуумной камере экраны, нагреватель, затравкодержатель с закрепленным в нем затравочным кристаллом, тигель с крышкой и формообразователем, системы регулирования скорости подъема затравочного кристалла и мощности нагревателя, отличающееся тем, что на крышке камеры укреплен бункер, выполненный в виде цилиндра с конусообразной верхней и нижней частями, объем цилиндра равен объему тигля, нижняя часть содержит запорный клапан в виде усеченного конуса, на верхней части бункера установлен сильфон, который соединен с запорным клапаном с помощью штока, снабженного механизмом ручного или автоматического перемещения, нижняя часть бункера герметично вставлена в трубку для подачи исходного порошкообразного материала, опущенную в тигель через отверстие в крышке тигля, при этом нижний конец трубки расположен ниже кромки тигля на глубине, соответствующей 0,20-0,25 высоты тигля, а расстояние между осями трубки и тигля составляет 0,20-0,30 диаметра тигля.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
RU2003116077/15A RU2232832C1 (ru) | 2003-05-30 | 2003-05-30 | Устройство для выращивания монокристаллов сапфира |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
RU2003116077/15A RU2232832C1 (ru) | 2003-05-30 | 2003-05-30 | Устройство для выращивания монокристаллов сапфира |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
RU2232832C1 true RU2232832C1 (ru) | 2004-07-20 |
RU2003116077A RU2003116077A (ru) | 2004-12-20 |
Family
ID=33414517
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
RU2003116077/15A RU2232832C1 (ru) | 2003-05-30 | 2003-05-30 | Устройство для выращивания монокристаллов сапфира |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
RU (1) | RU2232832C1 (ru) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN104651935A (zh) * | 2014-10-17 | 2015-05-27 | 洛阳市西格马炉业有限公司 | 一种坩埚上升法制备高品质蓝宝石晶体的方法 |
-
2003
- 2003-05-30 RU RU2003116077/15A patent/RU2232832C1/ru not_active IP Right Cessation
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN104651935A (zh) * | 2014-10-17 | 2015-05-27 | 洛阳市西格马炉业有限公司 | 一种坩埚上升法制备高品质蓝宝石晶体的方法 |
CN104651935B (zh) * | 2014-10-17 | 2017-06-13 | 洛阳西格马炉业股份有限公司 | 一种坩埚上升法制备高品质蓝宝石晶体的方法 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
EP0170856A1 (en) | Process for growing monocrystals of semiconductor materials from shallow crucibles by Czochralski technique | |
CN112680786A (zh) | 用于硅锭的柴氏生长的侧边进料系统 | |
EP3305948B1 (en) | Apparatus for producing single crystal and method for producing single crystal | |
JP2006219366A (ja) | 制御された炭素含有量を有するシリコンからなる単結晶の製造方法 | |
US20210222320A1 (en) | Method of Producing a Single-Crystal | |
US5492079A (en) | Process for producing rods or blocks of semiconductor material and an apparatus for carrying out the process | |
TW503265B (en) | Single crystal pulling apparatus | |
JPH09142988A (ja) | シリコン単結晶の生成方法及び装置 | |
RU2232832C1 (ru) | Устройство для выращивания монокристаллов сапфира | |
CN110546315B (zh) | 单晶制造装置 | |
KR20200026247A (ko) | 리차지관 및 단결정의 제조방법 | |
JPH06100394A (ja) | 単結晶製造用原料供給方法及び装置 | |
USRE30863E (en) | Method for crucible-free zone meeting of semiconductor crystal rods | |
CN110546314B (zh) | 单晶制造装置 | |
JP2531415B2 (ja) | 結晶成長方法 | |
US3961906A (en) | Apparatus for crucible-free zone melting of semiconductor crystal rods including oscillation dampening material | |
JPH01282194A (ja) | 単結晶製造方法 | |
KR100832906B1 (ko) | 실리콘 분말 공급장치 및 공급방법 | |
RU2343234C1 (ru) | Способ дозагрузки шихты в процессе выращивания монокристаллов кремния по методу чохральского | |
CN1125199C (zh) | 单晶制造方法及单晶制造装置 | |
RU41646U1 (ru) | Устройство для получения гранулированного сапфира | |
JPH0711177Y2 (ja) | 半導体単結晶製造装置の原料供給機構 | |
US3996096A (en) | Method for crucible-free zone melting of semiconductor crystal rods | |
US20100290973A1 (en) | Method and device for providing liquid silicon | |
US3996011A (en) | Apparatus for crucible-free zone melting of semiconductor crystal rods |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
MM4A | The patent is invalid due to non-payment of fees |
Effective date: 20080531 |