RU2217841C1 - Устройство для нанесения покрытий на пластины - Google Patents
Устройство для нанесения покрытий на пластины Download PDFInfo
- Publication number
- RU2217841C1 RU2217841C1 RU2002128753/28A RU2002128753A RU2217841C1 RU 2217841 C1 RU2217841 C1 RU 2217841C1 RU 2002128753/28 A RU2002128753/28 A RU 2002128753/28A RU 2002128753 A RU2002128753 A RU 2002128753A RU 2217841 C1 RU2217841 C1 RU 2217841C1
- Authority
- RU
- Russia
- Prior art keywords
- drive table
- housing
- plate
- cone
- shielding housing
- Prior art date
Links
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 title claims description 11
- 238000000576 coating method Methods 0.000 title claims description 11
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 claims abstract description 5
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 claims description 12
- 239000002245 particle Substances 0.000 abstract description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 abstract description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 abstract description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 abstract description 2
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 abstract 1
- 238000011089 mechanical engineering Methods 0.000 abstract 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 abstract 1
- 238000005119 centrifugation Methods 0.000 description 2
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 2
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 244000309464 bull Species 0.000 description 1
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 1
- 239000000356 contaminant Substances 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 1
- 230000004941 influx Effects 0.000 description 1
- 230000000873 masking effect Effects 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 1
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 1
- 238000005086 pumping Methods 0.000 description 1
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 1
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 1
- 230000006641 stabilisation Effects 0.000 description 1
- 238000011105 stabilization Methods 0.000 description 1
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Coating Apparatus (AREA)
Abstract
Использование: при изготовлении полупроводниковых приборов, а также в машиностроении. Техническим результатом изобретения является снижение количества загрязняющих частиц, привносимых на пластину из воздуха. Сущность изобретения: устройство для нанесения покрытий на пластины содержит приводной столик с механизмом крепления пластины. Над столиком с зазором расположен защитный кожух, установленный с возможностью вертикального перемещения и вращающийся соосно и с одинаковой скоростью с приводным столиком, имеющий вид усеченного конуса с кольцевой частью на большем его основании, меньшее основание которого направлено от приводного столика. Защитный кожух содержит промежуточную камеру, сообщающуюся с полостью между внутренней поверхностью защитного кожуха и обрабатываемой пластиной через отверстия, расположенные концентрично и с линией подачи очищенного газа. Также внутри защитного кожуха на нижней кромке конуса установлен датчик давления и на оси защитного кожуха выполнено отверстие, через которое выдвигается сопло подачи фоторезиста. 2 ил., 1 табл.
Description
Изобретение относится к устройствам нанесения покрытий посредством центрифугирования и может быть использовано, в частности, для создания светочувствительного слоя на полупроводниковых пластинах и фотошаблонах.
Известно устройство для нанесения покрытий на пластины (JР 6003793), содержащее поворотный стол, приводящийся во вращение с помощью механизма привода и на котором размещается пластина круглой формы; а также корпус, в передней стенке которого выполнено снабженное дверцей отверстие ввода-вывода, а в верхней стенке установлена крышка с отверстиями; сопло подачи и выпуска фоторезиста через указанное отверстие ввода-вывода, которое установлено перед указанным отверстием ввода-вывода с возможностью ввода и вывода сопла внутрь корпуса через отверстие ввода-вывода; пластину стабилизации расхода с отверстиями, поддерживаемую стойками под указанной крышкой; камеру регулирования откачки газа, соединенную каналами с указанным корпусом и снабженную откидным клапаном; на оси вращения указанного поворотного стола установлена трубка из пористого материала с отверстием для подачи сжатого воздуха.
Недостатком данного устройства является малая защищенность от привносимой дефектности вследствие притока загрязняющих частиц к вращающейся пластине с потоками воздуха, увлекаемыми ею.
Наиболее близким по технической сущности и достигаемому эффекту является устройство для нанесения покрытий на пластины (патент SU 1260038. Устройство для нанесения покрытий на пластины / О.И.Палий и В.Н.Ловгач. 3887881/23-05, Заявлено 19.04.88; Опубликовано 30.09.86, бюл 36), содержащее приводной столик с механизмом крепления пластины и расположенную над столиком с зазором слоеформирующую пластину, установленную с возможностью вертикального перемещения в процессе формирования покрытия и выполненную с круговыми полостями, соосными столику и расположенными по обе стороны и с центральным отверстием, сообщающим кольцевые полости между собой; слоеформирующая пластина кинематически связана со столиком; над наружной поверхностью слоеформирующей пластины над ее круговой полостью установлена крышка с герметизирующим ее по периметру элементом, крышка установлена с возможностью вертикального перемещения.
В случае прототипа при вращении обрабатываемой и слоеформирующей пластины воздух увлекается ими и отбрасывается с них. Таким образом, в пространстве между центрами пластин возникает разрежение. В эту локальную область разрежения возможен прорыв воздуха с периферийных частей пластин, что приводит к загрязнению пластины, резко уменьшая процент выхода годных изделий. Также при нанесении маскирующего покрытия происходит загрязнение центральной области слоеформирующей пластины. В дальнейшем, при процессе центрифугирования происходит срыв фоторезиста со слоеформирующей пластины и нарушение им однородности слоя наносимого покрытия.
Технической задачей является снижение количества загрязняющих частиц, привносимых на пластину из воздуха.
Поставленная задача достигается тем, что в устройстве для нанесения покрытий на пластины, содержащем приводной столик с механизмом крепления пластины, новым является то, что над столиком с зазором расположен защитный кожух, установленный с возможностью вертикального перемещения и вращающийся соосно и с одинаковой скоростью с приводным столиком, имеющий вид усеченного конуса с кольцевой частью на большем его основании, меньшее основание которого направлено от приводного столика, при этом защитный кожух содержит промежуточную камеру, сообщающуюся с полостью между внутренней поверхностью защитного кожуха и обрабатываемой пластиной через отверстия, расположенные концентрично и с линией подачи очищенного газа, также внутри защитного кожуха на нижней кромке конуса установлен датчик давления и на оси защитного кожуха выполнено отверстие, через которое выдвигается сопло подачи фоторезиста.
У предполагаемой конструкции отток воздуха из пространства над центром пластины компенсируется подачей очищенного воздуха, а защитный кожух имеет выпуклую в центре структуру, что также защищает центральную часть пластины от возможности попадания на нее воздуха из производственного помещения, несущего большее количество пылинок, по сравнению с дополнительно очищенным, благодаря созданию в центре избыточного давления.
Сущность изобретения поясняется на чертежах, где на фиг.1 схематично представлено предполагаемое устройство для нанесения покрытий на пластины (вертикальный разрез), на фиг.2 показан вид сверху на устройство.
Устройство нанесения покрытий на пластины содержит приводной столик 1 с устройством вакуумного присоса 2 и обрабатываемой пластиной 3. Над обрабатываемой пластиной находится защитный кожух 4, установленный с возможностью вертикального перемещения и осевого вращения, в центральной части которой проделано отверстие 5, через которое выдвигается сопло подачи наносимого материала 6. Также в защитном кожухе 4 концентрично проделан ряд отверстий малого диаметра, зависящего от диаметра обрабатываемой пластины, соединенных через промежуточную камеру 8 с линией подачи очищенного воздуха 9. Три штырька 10 служат для привода защитного кожуха 4 во вращение и его вертикального перемещения. Также в кожухе 4 установлен датчик давления 11.
Устройство работает следующим образом.
Пластина 3 при поднятом защитном кожухе 4 помещается на приводной столик 1 и закрепляется с помощью вакуумного присоса 2. Затем защитный кожух 4 помещается в свое рабочее положение. Приводной столик 1 и защитный кожух 4 приводятся во вращение (частота их вращения одинакова). Через отверстия 7 начинает подаваться очищенный воздух (объем его подачи пропорционален частоте вращения пластины и регулируется в зависимости от давления измеренного датчиком давления 11). В определенный период времени через отверстие 5 выдвигается сопло 6, через которое на поверхность обрабатываемой пластины 3 попадает наносимый материал. Расстояние между обрабатываемой пластиной 3 и защитным кожухом 4 обратно пропорционально скорости вращения приводного столика 1.
Было проведено экспериментальное апробирование полученного устройства, результаты которого, т. е. зависимость размера привносимой дефектности от расстояния защитной пластины от обрабатываемого изделия представлены в таблице.
Claims (1)
- Устройство для нанесения покрытий на пластины содержит приводной столик с механизмом крепления пластины, отличающееся тем, что над столиком с зазором расположен защитный кожух, установленный с возможностью вертикального перемещения и вращающийся соосно и с одинаковой скоростью с приводным столиком, имеющий вид усечённого конуса с кольцевой частью на большем его основании, меньшее основание которого направлено от приводного столика, при этом защитный кожух содержит промежуточную камеру, сообщающуюся с полостью между внутренней поверхностью защитного кожуха и обрабатываемой пластиной через отверстия, расположенные концентрично и с линией подачи очищенного газа, также внутри защитного кожуха на нижней кромке конуса установлен датчик давления и на оси защитного кожуха выполнено отверстие, через которое выдвигается сопло подачи фоторезиста.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| RU2002128753/28A RU2217841C1 (ru) | 2002-10-25 | 2002-10-25 | Устройство для нанесения покрытий на пластины |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| RU2002128753/28A RU2217841C1 (ru) | 2002-10-25 | 2002-10-25 | Устройство для нанесения покрытий на пластины |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| RU2217841C1 true RU2217841C1 (ru) | 2003-11-27 |
| RU2002128753A RU2002128753A (ru) | 2004-04-27 |
Family
ID=32028259
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| RU2002128753/28A RU2217841C1 (ru) | 2002-10-25 | 2002-10-25 | Устройство для нанесения покрытий на пластины |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| RU (1) | RU2217841C1 (ru) |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| SU1242261A1 (ru) * | 1985-03-07 | 1986-07-07 | Livshits David | Устройство дл нанесени фоторезиста на пластины |
| RU2093921C1 (ru) * | 1993-07-27 | 1997-10-20 | Воронежский технологический институт | Устройство для нанесения фоторезиста на пластины |
| US6174651B1 (en) * | 1999-01-14 | 2001-01-16 | Steag Rtp Systems, Inc. | Method for depositing atomized materials onto a substrate utilizing light exposure for heating |
-
2002
- 2002-10-25 RU RU2002128753/28A patent/RU2217841C1/ru not_active IP Right Cessation
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| SU1242261A1 (ru) * | 1985-03-07 | 1986-07-07 | Livshits David | Устройство дл нанесени фоторезиста на пластины |
| RU2093921C1 (ru) * | 1993-07-27 | 1997-10-20 | Воронежский технологический институт | Устройство для нанесения фоторезиста на пластины |
| US6174651B1 (en) * | 1999-01-14 | 2001-01-16 | Steag Rtp Systems, Inc. | Method for depositing atomized materials onto a substrate utilizing light exposure for heating |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR920000674B1 (ko) | 기판의 회전식 표면처리장치 | |
| KR101039765B1 (ko) | 디스크상 물품의 습식 처리장치 및 처리방법 | |
| US5211753A (en) | Spin coating apparatus with an independently spinning enclosure | |
| JPH04300673A (ja) | 回転式塗布装置及び回転式塗布方法 | |
| CN108010867B (zh) | 清洗装置 | |
| KR102652667B1 (ko) | 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법 | |
| JP2018012180A (ja) | 研削装置 | |
| TW201438083A (zh) | 切削裝置 | |
| KR20240108484A (ko) | 웨이퍼 세정 장치 | |
| RU2217841C1 (ru) | Устройство для нанесения покрытий на пластины | |
| JP4708966B2 (ja) | 切削装置 | |
| KR19990029904A (ko) | 진공 처리 장치 | |
| JP7299773B2 (ja) | 研削装置 | |
| CN101120430B (zh) | 等离子体处理设备，用于其电极构件及电极构件制造和重复利用方法 | |
| KR0177974B1 (ko) | 글래스 드릴장치 | |
| US20210101254A1 (en) | Dust collecting treatment apparatus | |
| CN106041716A (zh) | 干式磨削装置 | |
| JP2003257925A (ja) | スピン処理装置及びスピン処理方法 | |
| US20140190522A1 (en) | Air gun system and method | |
| JPH07263325A (ja) | 吸引チャック式基板回転処理装置 | |
| JP2019125755A (ja) | 保持装置 | |
| US6105592A (en) | Gas intake assembly for a wafer processing system | |
| JP2022092275A (ja) | 加工装置 | |
| JP7636120B2 (ja) | 加工装置 | |
| CN222600953U (zh) | 旋转装置 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| MM4A | The patent is invalid due to non-payment of fees |
Effective date: 20041026 |