RU2190036C2 - Способ вакуумного напыления пленок и устройство для его осуществления - Google Patents
Способ вакуумного напыления пленок и устройство для его осуществления Download PDFInfo
- Publication number
- RU2190036C2 RU2190036C2 RU2000118685A RU2000118685A RU2190036C2 RU 2190036 C2 RU2190036 C2 RU 2190036C2 RU 2000118685 A RU2000118685 A RU 2000118685A RU 2000118685 A RU2000118685 A RU 2000118685A RU 2190036 C2 RU2190036 C2 RU 2190036C2
- Authority
- RU
- Russia
- Prior art keywords
- films
- rod
- electron beam
- vacuum deposition
- heating element
- Prior art date
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 14
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 title claims abstract description 11
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 18
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 claims abstract description 13
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims abstract description 12
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 claims abstract description 10
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 claims abstract description 10
- 239000013077 target material Substances 0.000 claims abstract description 10
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 7
- 238000000151 deposition Methods 0.000 claims abstract description 5
- 230000008021 deposition Effects 0.000 claims abstract description 5
- 230000005855 radiation Effects 0.000 claims abstract description 4
- 239000011364 vaporized material Substances 0.000 claims description 5
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims description 4
- 238000001816 cooling Methods 0.000 abstract 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 abstract 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 abstract 1
- 239000010408 film Substances 0.000 description 10
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 239000012212 insulator Substances 0.000 description 2
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 1
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
Изобретение относится к вакуумной технике, в частности к вакуумному напылению пленок, и направлено на повышение качества напыляемых пленок за счет снижения расхода испаряемого материала и увеличения скорости испарения. Способ включает формирование электронного пучка, воздействие на него ускоряющим напряжением, испарение материала мишени электронным пучком и его осаждение на подложку, при этом осуществляют дополнительный нагрев материала мишени направленным тепловым излучением. Способ реализуется устройством, содержащим термокатод, экран, источник питания, цилиндрический нагревательный элемент, расположенный соосно со стержнем из сублимируемого материала и соединенный с ним и с положительной клеммой источника питания. 2 с. и 1 з. п.ф-лы, 1 ил.
Description
Изобретение относится к вакуумной технике, в частности к вакуумному напылению пленок.
Известен способ вакуумного напыления пленок, включающий формирование электронного пучка, воздействие на него ускоряющим напряжением, испарение материала мишени электронным пучком и его осаждение на подложку (см. Технология тонких пленок (справочник) / Под ред. Л. Майсела, Р. Глэнга. - М.: Сов. Радио, 1977, т.1, с.72).
Недостатком этого способа является отсутствие направленности потока паров.
Наиболее близким к заявляемому изобретению является способ вакуумного напыления пленок, включающий формирование электронного пучка, воздействие на него ускоряющим напряжением, испарение материала мишени электронным пучком, ионизацию испаряемого материала и его осаждение на подложку (см. авт. св. СССР 1750270, МПК7 С 23 С 14/28, опубл. 15.05.90, БИ 9, 1994г.)
Недостатком этого метода является отсутствие направленности потока паров испаряемого материала.
Недостатком этого метода является отсутствие направленности потока паров испаряемого материала.
Наиболее близким к заявляемому устройству является устройство для вакуумного напыления пленок, содержащее термокатод, металлический экран, источник питания (см. авт. св. СССР 1750270, МПК7 С 23 С 14/28, опубл. 15.05.90, БИ 9, 1994г.).
Недостатком данного устройства является отсутствие направленного испарения и связанный с этим увеличенный расход материала.
Задачей данного технического решения является повышение качества напыляемых пленок за счет получения направленного потока паров испаряемого материала.
Технический результат заключается в снижении расхода испаряемого материала и увеличении скорости испарения.
Этот технический результат достигается тем, что в известном способе, включающим формирование электронного пучка, воздействие на него ускоряющим напряжением, испарение материала мишени электронным пучком, ионизацию испаряемого материала и его осаждение на подложку, согласно изобретению осуществляют дополнительный нагрев материала мишени направленным тепловым излучением.
Способ реализуется устройством для вакуумного напыления пленок, включающим термокатод, экран, источник питания, при этом оно дополнительно снабжено цилиндрическим нагревательным элементом, в котором соосно расположена мишень в виде стержня из сублимируемого материала, при этом стержень из сублимируемого материала и цилиндрический нагревательный элемент соединены с положительной клеммой источника питания.
Стержень из сублимируемого материала выполнен неподвижным или подвижным относительно нагреваемого элемента.
Данный способ и конструкция позволят повысить качество напыляемых пленок за счет направленного потока паров испаряемого материала, снизить расход материала, повысить скорость испарения и производительность процесса.
Сущность изобретения поясняется чертежом, где изображен общий вид устройства для вакуумного напыления пленок.
Устройство состоит из мишени, выполненной в виде стержня 1 из сублимируемого материала, цилиндрического нагревательного элемента 2, в котором соосно расположен стержень 1, термокатода 3, экрана 4, изоляторов 5, основания 6, высоковольтного ввода-держателя 7, установленного на основании 6 через изоляторы 5, на котором расположен стержень 1 из сублимируемого материала, держателей 8 термокатода 3, источника питания 9 с положительной клеммой 10 и отрицательной клеммой 11 для ускорения электронного пучка, источника переменного тока 12 для накала термокатода 3.
Способ вакуумного напыления пленок с помощью заявляемого устройства осуществляется следующим образом.
Для формирования электронного пучка и его ускорения воздействием ускоряющего напряжения использовали термокатод 3, который с помощью держателей 8 подключали к источнику переменного тока 12, причем один из держателей 8 заземляли и одновременно подключали к отрицательной клемме 11 источника питания 9, а к положительной его клемме 10 через высоковольтный ввод-держатель 7 подключали мишень в виде стержня 1 из сублимируемого материала и цилиндрический нагревательный элемент 2.
В результате одновременного нагрева мишени в виде стержня 1 из сублимированного материала ускоренным электронным пучком с термокатода 3 и направленным тепловым излучением цилиндрического нагревательного элемента 2 материал мишени испаряли и ионизацию испаряемого материала производили за счет возникновения несамостоятельного тлеющего разряда между стержнем 1 и заземленной подложкой (на чертеже не указана). Пары материала мишени осаждались на подложке. Так как нагревательный элемент 2 имел температуру выше температуры стержня 1 из сублимируемого материала, конденсация паров на нем не происходила.
Использование данного решения по сравнению с прототипом позволит повысить качество напыляемых пленок, снизить расход испаряемого материала, увеличить скорость испарения.
Claims (3)
1. Способ вакуумного напыления пленок, включающий формирование электронного пучка, воздействие на него ускоряющим напряжением, испарение материала мишени электронным пучком, ионизацию испаряемого материала и его осаждение на подложку, отличающийся тем, что дополнительно нагревают материал мишени направленным тепловым излучением.
2. Устройство для вакуумного напыления пленок, содержащее термокатод, экран, источник питания, отличающееся тем, что оно дополнительно снабжено цилиндрическим нагревательным элементом, в котором соосно расположена мишень в виде стержня из сублимируемого материала, при этом стержень из сублимируемого материала и цилиндрический нагревательный элемент соединены с положительной клеммой источника питания.
3. Устройство по п. 2, отличающееся тем, что стержень из сублимируемого материала выполнен неподвижным или подвижным относительно нагревательного элемента.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| RU2000118685A RU2190036C2 (ru) | 2000-07-13 | 2000-07-13 | Способ вакуумного напыления пленок и устройство для его осуществления |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| RU2000118685A RU2190036C2 (ru) | 2000-07-13 | 2000-07-13 | Способ вакуумного напыления пленок и устройство для его осуществления |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| RU2000118685A RU2000118685A (ru) | 2002-06-10 |
| RU2190036C2 true RU2190036C2 (ru) | 2002-09-27 |
Family
ID=20237846
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| RU2000118685A RU2190036C2 (ru) | 2000-07-13 | 2000-07-13 | Способ вакуумного напыления пленок и устройство для его осуществления |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| RU (1) | RU2190036C2 (ru) |
Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE3503693A1 (de) * | 1984-02-06 | 1985-10-03 | Paul R. Santa Barbara Calif. Fournier | Target-einheit fuer kreuzfeld-dioden-zerstaeubung und verfahren zur steuerung der erosionsgeometrie unter verwendung eines solchen targets |
| EP0158972A2 (de) * | 1984-04-12 | 1985-10-23 | Plasco Dr. Ehrich Plasma-Coating GmbH | Verfahren und Vorrichtung zur Materialverdampfung in einer Unterdruckkammer durch Bogenentladung |
| WO1994009176A1 (de) * | 1992-10-19 | 1994-04-28 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | Einrichtung zum plasmagestützten elektronenstrahl-hochratebedampfen |
| SU1750270A1 (ru) * | 1990-05-15 | 1994-05-15 | Киевский Государственный Университет Им.Т.Г.Шевченко | Способ получения пленок и устройство для его осуществления |
| RU2014364C1 (ru) * | 1990-10-02 | 1994-06-15 | Рыбинский Авиационный Технологический Институт | Вакуумная установка для электронно-лучевого напыления покрытий |
| RU2041972C1 (ru) * | 1989-07-26 | 1995-08-20 | Воронежский опытный завод микроэлектроники "РИФ" | Устройство для нанесения тонких пленок |
-
2000
- 2000-07-13 RU RU2000118685A patent/RU2190036C2/ru active
Patent Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE3503693A1 (de) * | 1984-02-06 | 1985-10-03 | Paul R. Santa Barbara Calif. Fournier | Target-einheit fuer kreuzfeld-dioden-zerstaeubung und verfahren zur steuerung der erosionsgeometrie unter verwendung eines solchen targets |
| EP0158972A2 (de) * | 1984-04-12 | 1985-10-23 | Plasco Dr. Ehrich Plasma-Coating GmbH | Verfahren und Vorrichtung zur Materialverdampfung in einer Unterdruckkammer durch Bogenentladung |
| RU2041972C1 (ru) * | 1989-07-26 | 1995-08-20 | Воронежский опытный завод микроэлектроники "РИФ" | Устройство для нанесения тонких пленок |
| SU1750270A1 (ru) * | 1990-05-15 | 1994-05-15 | Киевский Государственный Университет Им.Т.Г.Шевченко | Способ получения пленок и устройство для его осуществления |
| RU2014364C1 (ru) * | 1990-10-02 | 1994-06-15 | Рыбинский Авиационный Технологический Институт | Вакуумная установка для электронно-лучевого напыления покрытий |
| WO1994009176A1 (de) * | 1992-10-19 | 1994-04-28 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | Einrichtung zum plasmagestützten elektronenstrahl-hochratebedampfen |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US3562141A (en) | Vacuum vapor deposition utilizing low voltage electron beam | |
| US5656141A (en) | Apparatus for coating substrates | |
| US7670433B2 (en) | Vacuum deposition apparatus of the winding type | |
| JPH09512304A (ja) | イオン支援された真空コーティング方法並びに装置 | |
| JP4689843B2 (ja) | 矩形陰極アーク源およびアークスポットの指向方法 | |
| JPH08505434A (ja) | プラズマ補助高速電子ビーム蒸発用の装置 | |
| JPH0543787B2 (ru) | ||
| JP2009542900A (ja) | 電子ビーム蒸発装置 | |
| GB1257015A (ru) | ||
| US4175029A (en) | Apparatus for ion plasma coating of articles | |
| US5180477A (en) | Thin film deposition apparatus | |
| JP3481953B2 (ja) | 基板をコーティングするための装置 | |
| RU2190036C2 (ru) | Способ вакуумного напыления пленок и устройство для его осуществления | |
| US3526206A (en) | Coating apparatus including electron beam evaporating means | |
| US5041302A (en) | Method of forming thin film by physical vapor deposition | |
| RU2053312C1 (ru) | Способ нанесения покрытий в вакууме и устройство для нанесения покрытий в вакууме | |
| JPS61272367A (ja) | 薄膜形成装置 | |
| Safonov | Plasma activated EB-deposition: different modes of arc discharge and plasma characteristics | |
| RU2066704C1 (ru) | Устройство для нанесения тонких пленок в вакууме | |
| JPS582589B2 (ja) | スパツタリング装置 | |
| JP4065725B2 (ja) | ピアス式電子銃およびこれを備える真空蒸着装置 | |
| JPS6320465A (ja) | 真空蒸着装置 | |
| RU2000118685A (ru) | Способ вакуумного напыления пленок и устройство для его осуществления | |
| JPH03294474A (ja) | 膜形成装置 | |
| JPH03158458A (ja) | クラスターイオンビーム装置 |