RU2031985C1 - Способ получения поликристаллического селенида цинка и устройство для его осуществления - Google Patents

Способ получения поликристаллического селенида цинка и устройство для его осуществления Download PDF

Info

Publication number
RU2031985C1
RU2031985C1 SU5004348A RU2031985C1 RU 2031985 C1 RU2031985 C1 RU 2031985C1 SU 5004348 A SU5004348 A SU 5004348A RU 2031985 C1 RU2031985 C1 RU 2031985C1
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
argon
zinc
holes
mixture
selenide
Prior art date
Application number
Other languages
English (en)
Inventor
А.Ю. Даданов
Н.М. Перепелица
В.Г. Сухобоченко
Original Assignee
Даданов Александр Юрьевич
Перепелица Николай Михайлович
Сухобоченко Владислав Григорьевич
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Даданов Александр Юрьевич, Перепелица Николай Михайлович, Сухобоченко Владислав Григорьевич filed Critical Даданов Александр Юрьевич
Priority to SU5004348 priority Critical patent/RU2031985C1/ru
Application granted granted Critical
Publication of RU2031985C1 publication Critical patent/RU2031985C1/ru

Links

Images

Landscapes

  • Chemical Vapour Deposition (AREA)

Abstract

Изобретение относится к силовой МК-оптике для получения пассивных элементов CO2-лазеров и других приборов, работающих в ИК-диапазоне. Поликристаллический селенид цинка получают осаждением из газовой фазы при раздельной подаче потоков смеси паров цинка с аргоном и смеси селеноводорода с аргоном, каждый из которых имеет вокруг себя защитный поток инертного газа. Потоки селеноводорода и цинка делят на n и 2 n частей, устанавливают соотношение указанных потоков смесей равным 1,5 - 1,8, а суммарный поток газовой смеси 690-750 см3/мин·дм2. . Осаждение ведут на стенках реактора квадратного сечения, имеющего входной фланец, по периметру квадрата со стороной 2 l/3 2n отверстий для подачи смеси паров цинка с аргоном и по периметру квадрата со стороной l/3 - n отверстий для подачи смеси селеноводорода с аргоном, где l - длина стороны квадрата фланца. Центры симметрии квадратов, по периметру которых расположены отверстия, совмещены с центром симметрии фланца. Вокруг каждого из отверстий по концентрическим окружностям расположены отверстия для подачи защитного газа. Изобретение обеспечивает увеличение полезного выхода селенида цинка. 2 с.п. ф-лы, 2 ил., 2 табл.

Description

Изобретение относится к силовой ИК-оптике и касается разработки способа и устройства для получения равномерных поликристаллических слоев селенида цинка, используемого в качестве пассивных элементов СО2-лазеров и других приборов, работающих в ИК-диапазоне.
Известно устройство для осаждения селенида цинка, в котором рост поликристаллических слоев проводится в проточном реакторе [1]. В [1] исходные реагенты подавались в реактор по концентрическим кольцевым щелям. В способе [2] была разработана математическая модель процесса осаждения в реакторе квадратного сечения при условии осесимметричной подачи исходных реагентов. С учетом полученных в [2] уравнений, а также проведенных в [3] исследований механизма процесса осаждения ZnSe, можно рассчитать соотношение Wmin/Wmax для поперечного сечения пластин (Wmin(max) - толщина пластин в минимальной (максимальной) точке). При используемых в данном способе условиях роста Wmin/Wmax = 0,3-0,4, что приводит при изготовлении плоскопараллельных оптических заготовок к большим потерям материала: полезный выход оптических заготовок по селеноводороду не превышает 35-40%.
Наиболее близким по технической сущности и достигаемому эффекту является способ получения поликристаллического селенида цинка химическим осаждением из газовой фазы, включающий раздельную подачу смесей паров цинка с аргоном и селеноводорода с аргоном [4]. При этом 50-60% селенида цинка осаждалось на входном фланце, уменьшая полезный выход селенида цинка до 20-25%.
Целью изобретения является повышение полезного выхода оптических заготовок селенида цинка за счет увеличения однородности получаемых пластин по толщине, а также за счет снижения выноса исходных газообразных реагентов из зоны осаждения.
Цель достигается тем, что в известном способе получения поликристаллического ZnSe осаждением из газовой фазы, содержащей пары цинка и селеноводорода в атмосфере аргона, потоки селеноводорода с аргоном и цинка с аргоном делят, соответственно, на n и 2n частей и устанавливают следующие соотношения потоков: смеси паров цинка с аргоном и селеноводорода с аргоном 1,5-1,8, защитного потока аргона и смеси селеноводорода с аргоном 9-12 при суммарном потоке газовой смеси, равном 690-750 см3/мин дм2.
На фиг. 1 приведена схема устройства, реализующего предлагаемый способ; на фиг. 2 - схема расположения отверстий на входном фланце.
Устройство состоит из вертикальной кварцевой трубы 1, в которую помещены резервуар 2 с цинком и реактор 3, представляющий собой трубу квадратного сечения, стенки которого являются подложками длиной 30-40 см. Рабочее давление в трубе создается форвакуумным насосом 4 и регулирующим вентилем 5. Необходимая температура в зоне расплава цинка и в зоне реактора создается внешним нагревателем 6.
С целью равномерной подачи в реактор паров цинка и селеноводорода реагенты вводятся через отверстия во входном фланце 7. Схема расположения отверстий приведена на фиг. 2. По n отверстиям 8, расположенным по периметру квадрата со стороной l/3, поступает разбавленный аргоном селеноводород; по 2n отверстиям 9, расположенным по пеpиметpу квадрата со стороной 2l/3, подаются пары цинка с газом-носителем. Вокруг каждого из отверстий расположены по окружности отверстия 10, по которым поступает разделительный поток чистого аргона. Центры симметрии квадратов, по периметру которых расположены отверстия для подачи паров цинка с селеноводорода, совпадают между собой и совмещены с центром симметрии квадрата со стороной l на входном фланце реактора, образованного пазами для установки подложек (т.е. квадрат со стороной l представляет собой поперечное сечение реактора). Суммарное поперечное сечение отверстий для подачи смеси селеноводорода с аргоном S1, для подачи паров цинка с аргоном S2, для подачи защитного потока аргона S3. Для достижения цели изобретения устанавливают следующие соотношения суммарных поперечных сечений: S2/S1 = 1,5-2,8; S3/S1 = 4,5-8,0.
Отличительным признаком изобретения является то, что в способе для получения поликристаллического ZnSe устанавливают соотношения потоков смеси паров цинка с аргоном и смеси селеноводорода с аргоном 1,5-1,8, защитного потока аргона и потока смеси селеноводорода с аргоном 9-12; суммарный поток газовой смеси через реактор составляет 690-750 см3/мин˙дм2. В устройстве, реализующем предлагаемый способ, отличительным признаком является то, что n отверстий для ввода смеси селеноводорода с аргоном расположены по периметру квадрата со стороной l/3, 2n отверстий для ввода смеси паров цинка с аргоном расположены по периметру квадрата со стороной 2l/3, где l - сторона квадрата входного фланца, при этом центры симметрии квадратов, по периметрам которых расположены отверстия для ввода реагентов, и квадрата входного фланца совмещены; соотношение суммарной площади сечения отверстий для ввода смеси паров цинка с аргоном и отверстий для ввода селеноводорода с аргоном составляет 1,5-2,8, а соотношение суммарной площади сечения отверстий для ввода защитного газа и отверстий для ввода селеноводорода с аргоном составляет 4,5-8,0.
Такое расположение отверстий для подачи реагентов, соотношения их сечений, а также соотношения потоков через отверстия позволяют защищать каждое из них от зарастания селенидов цинка, достичь высокой степени равномерности пластин по толщине (Wmin/Wmax = 0,95-0,98) и увеличить полезный выход оптических заготовок по селеноводороду по сравнению с прототипом в 3-4 раза.
Расположение отверстий для подачи реагентов, соотношения их сечений и соотношения потоков через отверстия были подобраны экспериментально и, как показали опыты, являются наиболее оптимальными для осуществления цели изобретения.
П р и м е р. Выращивание поликристаллических слоев селенида цинка проводят на установке, состоящей из вертикальной кварцевой трубы, в которую помещены резервуар с цинком и реактор квадратного сечения, состоящий из четырех подложек (фиг.1). На входе в реактор устанавливается входной фланец. С помощью форвакуумного насоса достигается давление 10-2-10-1 Торр и подается напряжение на внешний нагреватель. При достижении температуры в зоне цинка 550-555оС и в зоне реактора 680-690оС с помощью регуляторов расхода газов устанавливают потоки аргона через отверстия 8, 9 и 10 (фиг.2). Значения потоков аргона приведены в табл. 1.
При указанной температуре в зоне цинка поток паров металла (q2n) составляет 39 см3/мин˙дм2. С помощью вентиля на выходе из трубы устанавливают общее давление в реакторе 7-8 Торр. После этого устанавливают поток селеноводорода q
Figure 00000001
= 39 см2/мин˙дм2.
В табл. 1 представлены результаты процесса осаждения при разных расходах аргона через отверстия во входном фланце и, соответственно, при различных соотношениях смесей потоков через отверстия подачи паров цинка, селеноводорода и защитного потока аргона.
В табл. 2 представлены результаты процесса при различных соотношениях площадей суммарных сечений отверстий для подачи реагентов.
Из табл. 1 видно, что поликристаллический селенид цинка, однородный по составу, с максимальным полезным выходом оптических заготовок по селеноводороду (65-70%) получают в том случае, когда соотношение потоков через сопла подачи паров цинка и селеноводорода (Q2/Q1) составляет 1,5-1,8; соотношение потоков через отверстия подачи защитного газа и селеноводорода (Q3/Q1) составляет 9-12; суммарный поток газовой смеси через единицу площади поперечного сечения реактора равен 690-750 см3/мин˙дм2 (примеры 1-4).
При уменьшении либо увеличении соотношения потоков Q2/Q1 осаждаемый материал становится неоднородным - в поликристаллитическом слое присутствуют включения аморфного ZnSe (примеры 5,6). Такой материал непригоден для целей высокомощной лазерной техники, что связано с нарушением ламинарности потока и образованием в объеме реактора замкнутых течений газовой смеси (вихрей), что приводит к задержке реагентов в газовой фазе и, следовательно, увеличению вероятности гомогенной газофазной реакции, приводимой к образованию порошка ZnSe.
При соотношении потоков Q3/Q1 ниже 9 и выше 12 полезный выход материала снижается с 65-70 до 40-50 %. Кроме того при уменьшении Q3/Q1ниже 9 возможно образование частиц порошкообразного ZnSe в объеме пластин. При Q3/Q1<9 дополнительного потока аргона через сопла (фиг.2) недостаточно для эффективного разделения потоков цинка и селеноводорода в области отверстий два ввода реагентов, что приводит к осаждению значительного количества селенида цинка на входном фланце и, следовательно, уменьшению полезного выхода материала. Кроме того зарастание отверстий для ввода реагентов может привести к нестационарности условий роста; в частности, возможно увеличение локальных пересыщений в объеме реактора и, как следствие, внедрение частиц аморфного селенида цинка в поликристаллические слои. При Q3/Q1>12 мощный разделительный поток аргона относит область смещения реагентов к концу реактора, что приводит к потерям значительного количества исходных веществ. Кроме уменьшения полезного выхода материала это связано с необходимостью нейтрализации большого количества высокотоксичного и дорогого селеноводорода.
Уменьшение суммарного потока ниже 690 см3/мин˙дм2 или его увеличение выше 750 см3/мин˙дм2 также приводит к снижению полезного выхода материала и возможному неконтролируемому образованию порошкообразных включений в поликристалле. Уменьшение общего потока ниже 690 см3/мин˙дм2 приводит к зарастанию входного фланца со всеми вытекающими последствиями, а увеличение его выше 750 см3/мин˙дм2приводит к увеличению массоуноса реагентов из зоны реакции и связанному с этим понижению производительности процесса, а также потере и необходимости нейтрализации высокотоксичного и дорогого гидрида.
Из табл. 2 видно, что поликристаллический селенид цинка, однородный по составу, с максимальным полезным выходом оптических заготовок по селеноводороду 65-70% получают в том случае, когда отношение площади сечения отверстий для подачи паров цинка к площади сечения отверстий для подачи селеноводорода составляет 1,5-2,8, отношение площади сечения отверстий для подачи защитного потока аргона к площади сечения отверстий для подачи селеноводорода 4,5-8,0 (примеры 1-5). Уменьшение соотношения S2/S1 ниже 1,5 и увеличение его выше 2,8 (примеры 6,7) приводит к возникновению в объеме реактора замкнутых газовых течений (вихрей) и, следовательно, к увеличению вероятности гомогенных взаимодействий в газовой фазе, что приводит к образованию порошкообразных включений ZnSe в поликристаллическом слое. При уменьшении соотношения S3/S1 ниже 4,5 (пример 8) разделение активных газов потоком аргона неэффективно, что приводит к зарастанию отверстий, через которые подаются реагенты, селенидом цинка и, соответственно, уменьшению полезного выхода материала. При увеличении соотношения S3/S1 выше 8,0 (пример 9) область смещения реагентов относится к концу реактора, что приводит к значительному уменьшению полезного выхода материала.
В сравнении с прототипом способ и предлагаемое устройство позволяют увеличить полезный выход оптических заготовок селенида цинка по селеноводороду, и соответственно, производительность процесса в 3-4 раза.

Claims (3)

  1. СПОСОБ ПОЛУЧЕНИЯ ПОЛИКРИСТАЛЛИЧЕСКОГО СЕЛЕНИДА ЦИНКА И УСТРОЙСТВО ДЛЯ ЕГО ОСУЩЕСТВЛЕНИЯ.
  2. 1. Способ получения поликристаллического селенида цинка химическим осаждением из газовой фазы, включающий раздельную подачу потока смеси паров цинка с аргоном и потока смеси селеноводорода с аргоном с защитным потоком инертного газа вокруг каждого из них к нагретым подложкам и осаждение на них селенида цинка, отличающийся тем, что, с целью увеличения полезного выхода селенида цинка, потоки селеноводорода и цинка делят соответственно на n и 2n частей при объемном соотношении потоков: смеси паров цинка с аргоном и смеси селеноводорода с аргоном 1,5 - 1,8 защитного потока инертного газа и смеси селеноводорода с аргоном 9 - 12 и суммарный поток газовой смеси через реактор устанавливают равным 690 - 750 см3/мин.дм2.
  3. 2. Устройство для получения поликристаллического селенида цинка химическим осаждением из газовой фазы, содержащее корпус с внешним нагревателем, в котором расположены резервуар с цинком, реактор с подложками и средство для подачи смеси паров цинка с аргоном и смеси селеноводорода с аргоном, отличающееся тем, что, с целью увеличения полезного выхода селенида цинка, реактор составлен из подложек и имеет квадратное сечение, средство для подачи указанных смесей выполнено в виде входного квадратного фланца с отверстиями, расположенного на торце реактора, обращенного к резервуару с цинком и имеющего 2n отверстий по периметру квадрата со стороной 2l/3 для подачи смеси паров цинка с аргоном и n отверстий по периметру квадрата со стороной l/3 для подачи смеси селеноводорода с аргоном, где l - длина стороны квадратного фланца, центры симметрии квадратов, по периметру которых расположены отверстия, совмещены с центром симметрии квадратного фланца, а вокруг каждого из отверстий по концентричным окружностям расположены отверстия для подачи защитного потока аргона, соотношение суммарной площади сечения отверстий для ввода смеси паров цинка с аргоном и отверстий для ввода смеси селеноводорода с аргоном составляет 1,5 - 2,8, а соотношение суммарной площади сечения отверстий для ввода защитного газа и отверстий для ввода смеси селеноводорода с аргоном составляет 4,5 - 8,0.
SU5004348 1991-10-04 1991-10-04 Способ получения поликристаллического селенида цинка и устройство для его осуществления RU2031985C1 (ru)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SU5004348 RU2031985C1 (ru) 1991-10-04 1991-10-04 Способ получения поликристаллического селенида цинка и устройство для его осуществления

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SU5004348 RU2031985C1 (ru) 1991-10-04 1991-10-04 Способ получения поликристаллического селенида цинка и устройство для его осуществления

Publications (1)

Publication Number Publication Date
RU2031985C1 true RU2031985C1 (ru) 1995-03-27

Family

ID=21586301

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
SU5004348 RU2031985C1 (ru) 1991-10-04 1991-10-04 Способ получения поликристаллического селенида цинка и устройство для его осуществления

Country Status (1)

Country Link
RU (1) RU2031985C1 (ru)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN115961349A (zh) * 2022-12-29 2023-04-14 安徽光智科技有限公司 一种高均匀性硫化锌多晶红外材料的生长方法

Non-Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
1. Goela R.N., Taylor R.Z. Monolitic material fabrication by chemical vapour deposition, - J. Mater. Sci, 1983, V.23, p.4331-4339. *
2. Девятых Г.Г. и др. Модель осаждения поликристаллического селенида цинка в реакторе квадратного сечения. - Высокочистые вещества, 1988, N 5. с.60-69. *
3. Девятых Г.Г. и др. Исследование кинетики химического парового осаждения селенида цинка в горизонтальном проточном реакторе. - Высокочистые вещества, 1990, N 2, с.174-179. *
4. Taylor R.L., Donadio R.N. an infrared alternative: vapour - deposited materials. Laser Focus, July, 1981, p.41-43. *

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN115961349A (zh) * 2022-12-29 2023-04-14 安徽光智科技有限公司 一种高均匀性硫化锌多晶红外材料的生长方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
WO2020115473A1 (en) Production of nitrogen oxides
JP2001521293A5 (ru)
US4311545A (en) Method for the deposition of pure semiconductor material
EP0074212A1 (en) Apparatus for forming thin film
RU2005121271A (ru) Плазменный синтез нанопорошка оксида металла и устройство для его осуществления
CA2493279A1 (en) Plasma reactor for carrying out gas reactions and method for the plasma-supported reaction of gases
IE50240B1 (en) A method of vapour phase growth and apparatus therefor
US5368825A (en) Apparatus for the flame preparation of ceramic powders
KR20020096980A (ko) 화학증착 장치 및 화학증착 방법
NO813770L (no) Hoeytrykks plasmaavsetning av silisium.
US5643365A (en) Method and device for plasma vapor chemical deposition of homogeneous films on large flat surfaces
RU2031985C1 (ru) Способ получения поликристаллического селенида цинка и устройство для его осуществления
US4950373A (en) Process for the production of disilane from monosilane
JPH0230119A (ja) 気相成長装置
ES8301837A1 (es) Un metodo para producir silicio de gran pureza.
KR20210027268A (ko) Cvd 챔버를 위한 가스 박스
JPS5973496A (ja) 気相成長装置
JPS5580732A (en) Production of doped quartz glass rod
DE1417786B2 (de) Verfahren und Vorrichtung zum Herstellen von Silicium großer Reinheit
JPH01244279A (ja) 強制対流型プラズマ反応炉
JPS6234416B2 (ru)
RU2038145C1 (ru) Плазменный реактор
RU2052908C1 (ru) Плазмохимический реактор
JPS6425518A (en) Method for forming amorphous silicon film
SU792986A1 (ru) Реактор дл нанесени покрытий из газовой фазы