RU2020135715A - Реакторное устройство для химического осаждения из паровой фазы (pcvd) на большой площади и способ обеспечения такого осаждения - Google Patents
Реакторное устройство для химического осаждения из паровой фазы (pcvd) на большой площади и способ обеспечения такого осаждения Download PDFInfo
- Publication number
- RU2020135715A RU2020135715A RU2020135715A RU2020135715A RU2020135715A RU 2020135715 A RU2020135715 A RU 2020135715A RU 2020135715 A RU2020135715 A RU 2020135715A RU 2020135715 A RU2020135715 A RU 2020135715A RU 2020135715 A RU2020135715 A RU 2020135715A
- Authority
- RU
- Russia
- Prior art keywords
- crlh
- mpcvd
- reactor
- waveguide section
- reactor device
- Prior art date
Links
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 title 1
- 238000000259 microwave plasma-assisted chemical vapour deposition Methods 0.000 claims 15
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 claims 7
- 210000004027 cells Anatomy 0.000 claims 7
- 210000002381 Plasma Anatomy 0.000 claims 4
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 claims 2
- 239000002131 composite material Substances 0.000 claims 2
- 229910052904 quartz Inorganic materials 0.000 claims 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 claims 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
Claims (22)
1. Реакторное устройство для активированного микроволновой плазмой химического осаждения из паровой фазы на большой площади, LA MPCVD, содержащее;
реакторную камеру, приспособленную для обеспечения плазменной зоны во внутреннем пространстве реакторной камеры посредством электромагнитной энергии на первой частоте, и
составную, направленную вправо/влево, CRLH, волноводную секцию, приспособленную для работы с бесконечной длиной волны на первой частоте и имеющую в стенке средство передачи, выполненное с возможностью передачи электромагнитной энергии из внутреннего пространства CRLH-волноводной секции во внутреннее пространство реакторной камеры.
2. Реакторное устройство для LA MPCVD по п. 1, причем средство передачи содержит множество устройств передачи электромагнитной энергии, разнесенных относительно друг друга.
3. Реакторное устройство для LA MPCVD по п. 1 или 2, причем средство передачи содержит паз в стенке CRLH-волноводной секции.
4. Реакторное устройство для LA MPCVD по пп. 1, 2 или 3, содержащее
источник электромагнитной энергии, имеющий устройство вывода энергии, и причем один или более CRLH-волноводов в CRLH-волноводной секции имеют первый конец ввода энергии, связанный с устройством вывода энергии.
5. Реакторное устройство для LA MPCVD по п. 4, причем один или более CRLH-волноводов в CRLH-волноводной секции имеют второй, закороченный конец.
6. Реакторное устройство для LA MPCVD по любому из предшествующих пунктов, причем реакторная камера содержит первую и вторую подкамеры, причем первая подкамера содержит средство передачи, а вторая подкамера приспособлена содержать плазменную зону, и причем электромагнитная энергия подается от CRLH-волноводной секции во вторую подкамеру через первую подкамеру.
7. Реакторное устройство для LA MPCVD по п. 6, причем первая и вторая подкамеры в поперечном сечении имеют одинаковую площадь.
8. Реакторное устройство для LA MPCVD по п. 6 или 7, причем вторая подкамера содержит кварцевые окна, предназначенные для отделения плазменной зоны от атмосферного давления.
9. Реакторное устройство для LA MPCVD по любому из пп. 6-8, причем первая и вторая подкамеры размещены друг над другом и взаимосвязаны на каждом конце.
10. Реакторное устройство для LA MPCVD по любому из предшествующих пунктов, причем электромагнитная энергия представляет собой микроволновую энергию на первой частоте.
11. Реакторное устройство для LA MPCVD по любому из предшествующих пунктов, причем первая частота составляет 2,45 ГГц.
12. Реакторное устройство для LA MPCVD по любому из предшествующих пунктов, причем CRLH-волноводная секция содержит множество CRLH-волноводов, размещенных бок о бок.
13. Реакторное устройство для LA MPCVD по любому из предшествующих пунктов, причем CRLH-волноводная секция содержит периодически каскадно соединенные единичные ячейки, причем взаимосвязь между частотой и фазовым сдвигом единичных ячеек является перестраиваемой.
14. Реакторное устройство для LA MPCVD по п. 13, причем единичные ячейки содержат элементы настройки, выполненные с возможностью модификации внутренних размеров единичных ячеек.
15. Реакторное устройство для LA MPCVD по п. 14, причем элементы настройки содержат пару штифтов, выполненных вставляемыми в единичные ячейки.
16. Способ обеспечения плазмохимического осаждения из паровой фазы на большой площади в реакторной камере, причем реакторная камера выполнена с возможностью обеспечения плазменной зоны во внутреннем пространстве реакторной камеры посредством электромагнитной энергии на первой частоте, причем способ включает:
передачу электромагнитной энергии из внутреннего пространства составной, направленной вправо/влево, CRLH, волноводной секции во внутреннее пространство реакторной камеры через средство передачи в стенке CRLH-секции, причем CRLH-волноводная секция выполнена с возможностью работы с бесконечной длиной волны на первой частоте.
17. Способ по п. 16, причем CRLH-волноводная секция содержит периодически каскадно соединенные единичные ячейки, содержащие элементы настройки, выполненные с возможностью модификации внутренних размеров единичных ячеек, причем способ включает регулирование элементов настройки.
18. Способ по п. 17, причем источник электромагнитной энергии, имеющий устройство вывода энергии, соединен с входом CRLH-волноводной секции, причем способ включает минимизацию измеренной отраженной мощности итеративным регулированием элементов настройки и согласование импеданса источника с CRLH-волноводной секцией.
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| NO20180654 | 2018-05-08 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| RU2020135715A true RU2020135715A (ru) | 2022-06-09 |
| RU2792759C2 RU2792759C2 (ru) | 2023-03-23 |
Family
ID=
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US11404248B2 (en) | Modular microwave plasma source | |
| JP7232365B2 (ja) | マイクロ波源およびマイクロ波増幅モジュールのアレー | |
| KR101393949B1 (ko) | 표면파 플라즈마 발생용 안테나 및 표면파 플라즈마 처리 장치 | |
| US11195699B2 (en) | Generalized cylindrical cavity system for microwave rotation and impedance shifting by irises in a power-supplying waveguide | |
| CN111566777A (zh) | 微波等离子体装置 | |
| TW201532119A (zh) | 多單元共振器微波表面波電漿設備 | |
| US20240282554A1 (en) | Modular high-frequency source | |
| JP2002203844A (ja) | プラズマ処理装置 | |
| KR950034579A (ko) | 플라즈마 처리방법 및 장치 | |
| RU2020135715A (ru) | Реакторное устройство для химического осаждения из паровой фазы (pcvd) на большой площади и способ обеспечения такого осаждения | |
| KR20070119564A (ko) | 플라즈마 처리 장치 및 플라즈마 처리 방법 | |
| CN112563701B (zh) | 基于微扰矩形腔的双模基片集成波导滤波器 | |
| US20070133919A1 (en) | Distributor and distributing method, plasma processing system and method, and process for fabricating lcd | |
| JP2006040609A (ja) | プラズマ処理装置および方法、並びにフラットパネルディスプレイ装置の製造方法 | |
| JP2010277971A (ja) | プラズマ処理装置及びプラズマ処理装置の給電方法 | |
| HRP20220625T1 (hr) | Reaktorski uređaj za kemijsko parno taloženje mikrovalnom plazmom na veliku površinu (la mpcvd) i metoda pružanja iste | |
| JP4600928B2 (ja) | マイクロ波方向性結合器、プラズマ発生装置及びプラズマ処理装置 | |
| RU2792759C2 (ru) | Реакторное устройство для химического осаждения из паровой фазы (pcvd) на большой площади и способ обеспечения такого осаждения | |
| US3613034A (en) | Waveguide structure with pseudocavity region for constraining pump and idler energies | |
| RU2106767C1 (ru) | Свч-печь конвейерного типа | |
| RU184986U1 (ru) | Волноводный свч-фильтр | |
| RU2566644C1 (ru) | Волноводно-щелевая антенна | |
| RU2361335C1 (ru) | Диплексер | |
| RU2428775C2 (ru) | Открытый резонатор | |
| KR20220157481A (ko) | 고주파 반응 프로세싱 장치 및 고주파 반응 프로세싱 시스템 |