RU2015150746A - Устройство для формирования многокомпонентных и многослойных покрытий - Google Patents

Устройство для формирования многокомпонентных и многослойных покрытий Download PDF

Info

Publication number
RU2015150746A
RU2015150746A RU2015150746A RU2015150746A RU2015150746A RU 2015150746 A RU2015150746 A RU 2015150746A RU 2015150746 A RU2015150746 A RU 2015150746A RU 2015150746 A RU2015150746 A RU 2015150746A RU 2015150746 A RU2015150746 A RU 2015150746A
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
source
plasma
gas plasma
inclusion
substrate
Prior art date
Application number
RU2015150746A
Other languages
English (en)
Other versions
RU2657671C2 (ru
Inventor
Вадим Александрович Сологуб
Александр Арменакович Айрапетов
Вадим Васильевич Одиноков
Георгий Яковлевич Павлов
Владимир Петрович Ращинский
Original Assignee
Открытое акционерное общество "Научно-исследовательский институт точного машиностроения"
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Открытое акционерное общество "Научно-исследовательский институт точного машиностроения" filed Critical Открытое акционерное общество "Научно-исследовательский институт точного машиностроения"
Priority to RU2015150746A priority Critical patent/RU2657671C2/ru
Publication of RU2015150746A publication Critical patent/RU2015150746A/ru
Application granted granted Critical
Publication of RU2657671C2 publication Critical patent/RU2657671C2/ru

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/34—Sputtering
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/56—Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/30—Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects
    • H01J37/317—Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects for changing properties of the objects or for applying thin layers thereon, e.g. for ion implantation

Claims (12)

1. Устройство для формирования многокомпонентных и многослойных покрытий, содержащее вакуумную камеру (1), включающую плазменно-дуговой источник (2) с магнитной системой, с катодом (3) и анодом (4), имеющий продольную ось O1-O2, включающую также источник газовой плазмы (8) с первой электромагнитной катушкой источника газовой плазмы (9), со второй электромагнитной катушкой источника газовой плазмы (10) и с системой напуска и контроля технологических газов (11), имеющий продольную ось O3-O4, включающую также держатель подложки (20) с подложкой (21), размещенные симметрично оси O3-O4 источника газовой плазмы (8) и включающую также средства откачки (30), отличающееся тем, что в него введен магнетронный источник (36), имеющий продольную ось O5-O6, магнитная система плазменно-дугового источника (2) включает электромагнитную катушку плазменно-дугового источника (5), а источник газовой плазмы (8) выполнен в виде кварцевого цилиндра (12) с размещенной симметрично оси O3-O4 антенной (13).
2. Устройство по п. 1, отличающееся тем, что антенна (13) выполнена в виде водоохлаждаемых витков магнитного индуктора.
3. Устройство по п. 1, отличающееся тем, что магнетронный источник (36) оснащен, по меньшей мере, одной мишенью (37).
4. Устройство по п. 3, отличающееся тем, что мишень (37) выполнена из диэлектрика.
5. Устройство по п. 3, отличающееся тем, что мишень (37) выполнена из металла.
6. Устройство по п. 3, отличающееся тем, что мишень (37) выполнена из композиции диэлектрика и металла.
7. Устройство по п. 1, отличающееся тем, что держатель подложки (20) с подложкой (21) имеют возможность изменения угла α наклона поверхности подложки (21) к оси O1-O2 плазменно-дугового источника в диапазоне 40-90° и имеет возможность изменения угла β наклона поверхности подложки (21) к оси O5-O6 магнетронного источника (36) в диапазоне 40-90°.
8. Устройство по п. 1, отличающееся тем, что в него введена система автоматического управления (45), обеспечивающая одновременное включение плазменно-дугового источника (2), источника газовой плазмы (8) и магнетронного источника (36).
9. Устройство по п. 1, отличающееся тем, что в него введена система автоматического управления (45), обеспечивающая включение только источника газовой плазмы (8).
10. Устройство по п. 1, отличающееся тем, что в него введена система автоматического управления (45), обеспечивающая включение сначала источника газовой плазмы (8), а после этого включение плазменно-дугового источника (2) и магнетронного источника (36).
11. Устройство по п. 1, отличающееся тем, что в него введена система автоматического управления (45), обеспечивающая включение источника газовой плазмы (8) одновременно с включением плазменно-дугового источника (2).
12. Устройство по п. 1, отличающееся тем, что в него введена система автоматического управления (45), обеспечивающая включение источника газовой плазмы (8) одновременно с включением магнетронного источника (36).
RU2015150746A 2015-11-26 2015-11-26 Устройство для формирования многокомпонентных и многослойных покрытий RU2657671C2 (ru)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
RU2015150746A RU2657671C2 (ru) 2015-11-26 2015-11-26 Устройство для формирования многокомпонентных и многослойных покрытий

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
RU2015150746A RU2657671C2 (ru) 2015-11-26 2015-11-26 Устройство для формирования многокомпонентных и многослойных покрытий

Publications (2)

Publication Number Publication Date
RU2015150746A true RU2015150746A (ru) 2017-06-02
RU2657671C2 RU2657671C2 (ru) 2018-06-14

Family

ID=59031605

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
RU2015150746A RU2657671C2 (ru) 2015-11-26 2015-11-26 Устройство для формирования многокомпонентных и многослойных покрытий

Country Status (1)

Country Link
RU (1) RU2657671C2 (ru)

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
RU2049152C1 (ru) * 1992-03-26 1995-11-27 Научно-производственное объединение "Оптика" Устройство для распыления материалов в вакууме
RU2425173C2 (ru) * 2009-01-11 2011-07-27 Общество с ограниченной ответственностью Научно-производственное предприятие "Уралавиаспецтехнология" Установка для комбинированной ионно-плазменной обработки
RU2507306C1 (ru) * 2012-09-04 2014-02-20 Открытое акционерное общество "Концерн "Центральный научно-исследовательский институт "Электроприбор" Установка для напыления покрытий на прецизионные детали узлов гироприборов
UA86943U (ru) * 2013-08-20 2014-01-10 Общество С Ограниченной Ответственностью "Гресем Иновейшн" Устройство получения многокомпонентных и многослойных покрытий

Also Published As

Publication number Publication date
RU2657671C2 (ru) 2018-06-14

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP2639330B1 (en) Method and device for transporting vacuum arc plasma
JP5608176B2 (ja) アーク蒸発源のための改変可能な磁気配列
CL2014002921A1 (es) Sistema de tratamiento de plasma y recubrimiento al vacio y tratamiento de superficies, comprende un mecanismo de plasma, un catado de magnetrón, un ánodos, una descarga de arco remoto, una cubierta de cátodos, una cubierta de ánodos, un sistema magnético, un suministro de energía de cátodo, y un suministro de energía de descarga de arco; método para recubrir un sustrato.
JP2011515582A5 (ru)
JP2015022810A5 (ja) 電子親和力の低下処理装置に用いられる活性化容器及びキット、該キットを含む電子親和力の低下処理装置、フォトカソード電子ビーム源、並びに、フォトカソード電子ビーム源を含む電子銃、自由電子レーザー加速器、透過型電子顕微鏡、走査型電子顕微鏡、電子線ホログラフィー顕微鏡、電子線描画装置、電子線回折装置及び電子線検査装置
RU2016117814A (ru) Процессы с использованием удаленной плазмы дугового разряда
CN103540900A (zh) 一种磁控电弧离子镀复合沉积工艺和沉积装置
KR20170058428A (ko) 성막 방법 및 스퍼터링 장치
UA101678C2 (ru) ВАКУУМНОДУГОВОЙ испаритель для генерирования катодной ПЛАЗМЫ
RU2015137774A (ru) Устройство для ионной бомбардировки и способ его применения для очистки поверхности подложки
CN103168338B (zh) 具有大靶的用于高压溅射的溅射源和溅射方法
RU2015150746A (ru) Устройство для формирования многокомпонентных и многослойных покрытий
WO2013153864A1 (ja) プラズマ発生装置並びに蒸着装置および蒸着方法
RU2007123690A (ru) Способ ионно-плазменного нанесения многокомпонентных пленочных покрытий и установка для его осуществления
CN102296274B (zh) 用于阴极弧金属离子源的屏蔽装置
JP7212234B2 (ja) アーク源
RU2607398C2 (ru) Способ нанесения покрытий путем плазменного напыления и устройство для его осуществления
RU2657275C2 (ru) Способ получения пленок теллурида кадмия магнетронным распылением на постоянном токе
SG11202112557VA (en) Process chamber with reduced plasma arc
US20140034484A1 (en) Device for the elimination of liquid droplets from a cathodic arc plasma source
RU2601725C1 (ru) Источник металлической плазмы (варианты)
JP5421438B1 (ja) プラズマ処理装置
RU2007137537A (ru) Устройство для нанесения нанокластерного покрытия
KR20130025224A (ko) 고밀도 플라즈마를 이용한 증착 장치 및 방법
RU2575018C1 (ru) Магнетронная распылительная система с протяженным катодом